显示面板及其形成方法、液晶显示装置的制作方法

专利名称：显示面板及其形成方法、液晶显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及显示器领域，尤其涉及显示面板及其形成方法、液晶显示装置。
背景技术：
液晶显示器是一种采用液晶材料的显示器。液晶是介于固态和液态间的有机化合物。将其加热会变成透明液态，冷却后会变成结晶的混浊固态。在电场作用下，液晶分子会发生排列上的变化，从而影响通过其的光线变化，这种光线的变化通过偏振片的作用可以表现为明暗的变化。通过对电场的控制控制光线的明暗变化，从而达到显示图像的目的。根据液晶分子的排布方式，常见的液晶显示器分为:窄视角的TN-1XD，STN-1XD，DSTN-1XD ;宽视角的IPS、VA等。面内旋转显示模式(In Plane Switching, IPS)液晶显示器由于其在应用中的广视角特点而受到广泛关注，而触控面板(Touch Panel, TP)触摸技术，作为最新的人机交互技术，不论是电阻式触摸还是电容式触摸或者其它触摸方式，都因其使得人机交互更为直截了当而备受重视。将IPS技术和TP技术结合在一起形成的IPS-TP结构，将成为其在LCD中应用的一种必然趋势。目前的IPS-TP结构主要还是外挂式(TP-On-Cell)模式，主要包含两大独立模块:一是TP模块，二是IPS显示模式的IXD模块。将TP模块贴附在使用IPS模式显示的LCD模块正面即彩色彩膜透明基板一侧，形成外挂式(TP-On-Cell)触控模式显示面板，然后将背光源附在TFT透明基板的背面一侧。目前的外挂式触控模式的IPS显示模式的显示面板(IPS-TP)，由于是由单独的IPS显示模式的IXD模块和单独的TP模块结合而成，其工艺复杂，成本高，且最终的成品LCD厚度大，会增加终端产品的重量，是用户不期望的。

发明内容
本发明解决的问题是现有技术的外挂式触控模式的IPS显示模式的显示面板，工艺复杂，成本高，且最终的成品LCD厚度大，会增加终端产品的重量。为解决上述问题，本发明提供一种形成显示面板的方法，包括:提供透明基底；在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构。可选的，所述屏蔽电极层为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。可选的，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括:在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极；形成介质层，覆盖所述感应电极和所述透明基底；在所述介质层上形成多条驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。可选的，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括:在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段；形成介质层，覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底；图案化所述介质层，在所述介质层中形成过孔，所述过孔底部暴露出驱动电极的各段；形成导电层，覆盖所述介质层并填充所述过孔；图案化所述导电层形成互连线，将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。可选的,在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括:在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线；在所述钝化层上形成间隔排列的像素电极和公共电极，所述像素电极和公共电极之间具有缝隙。可选的，在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括:在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线；在所述钝化层上形成公共电极；形成第三绝缘层，覆盖所述公共电极和钝化层；在所述第三绝缘层上形成像素电极，所述像素电极为条形电极；或者，在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线；在所述钝化层上形成像素电极；形成第三绝缘层，覆盖所述像素电极和钝化层；在所述第三绝缘层上形成公共电极，所述公共电极为条形电极。可选的，还包括:提供透明基板；将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合；在所述透明基底背面形成第一线偏振片；在所述透明基板背面形成第二线偏振片。可选的，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之前，在所述透明基底上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之后，形成所述第一绝缘层之前，在所述电容式触摸结构上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；
或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成所述屏蔽电极层之后，形成所述第二绝缘层之前，在所述屏蔽电极层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成第二绝缘层之后，形成所述显示结构之前，在所述第二绝缘层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。可选的，还包括:提供透明基板；将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合；在所述透明基底背面形成第一圆偏振片；在所述透明基板背面形成第二圆偏振片。可选的，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间。本发明还提供另一种形成显示面板的方法，包括:提供透明基底；在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构；所述形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括:在所述第一绝缘层上形成公共电极；在所述公共电极上形成第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线； 在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极为条形电极。可选的，所述公共电极为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。可选的，所述公共电极平铺所述钝化层，或者所述公共电极具有缝隙，该缝隙与所述像素电极之间的缝隙相对。可选的，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括:在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极；形成介质层，覆盖所述感应电极和所述透明基底；在所述介质层上形成多条驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。可选的，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括:在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段；形成介质层，覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底；图案化所述介质层，在所述介质层中形成过孔，所述过孔底部暴露出驱动电极的各段；形成导电层，覆盖所述介质层并填充所述过孔；图案化所述导电层形成互连线，将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。可选的，还包括:提供透明基板；将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合；在所述透明基底背面形成第一线偏振片；在所述透明基板背面形成第二线偏振片。可选的，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之前，在所述透明基底上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之后，形成所述第一绝缘层之前，在所述电容式触摸结构上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成所述公共电极之后，形成所述第二绝缘层之前，在所述公共电极上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成第二绝缘层之后，形成TFT开关、扫描线和数据线之前，在所述第二绝缘层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。可选的，还包括:提供透明基板；将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合；在所述透明基底背面形成第一圆偏振片；在所述透明基板背面形成第二圆偏振片。可选的，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间。本发明还提供一种显示面板,包括:透明基底；依次形成于所述透明基底上的电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层；位于所述第二绝缘层上的IPS/FFS显示模式的显示结构。可选的，所述屏蔽电极层为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。可选的，所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极；覆盖所述感应电极和所述透明基底的介质层；位于所述介质层上的多条平行排列的驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列；或者,所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极；
覆盖所述驱动电极和所述透明基底的介质层；位于所述介质层上的多条平行排列的感应电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。可选的，所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段；覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔；位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起；或者,所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极、与所述驱动电极交叉的多条平行排列的感应电极，每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔成多段；覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔；位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔开的多段电连接在一起。可选的，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上间隔排列的像素电极和公共电极，所述像素电极和所述公共电极之间具有缝隙。可选的，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上的公共电极；覆盖所述公共电极和所述钝化层上的第三绝缘层；位于所述第三绝缘层上的像素电极，所述像素电极为条形电极；或者，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上的像素电极；覆盖所述像素电极和所述钝化层上的第三绝缘层；位于所述第三绝缘层上的公共电极，所述公共电极为条形电极。可选的，还包括:与透明基底相对的透明基板；位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层；位于所述透明基底背面的第一线偏振片；位于在所述透明基板背面的第二线偏振片。可选的，所述透明基板为具有色阻的彩膜基板；还包括:黑色矩阵，所述黑色矩阵位于所述透明基板上，且位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述透明基底和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第一绝缘层和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述屏蔽电极层和第二绝缘层之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第二绝缘层和所述显示结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间。可选的，还包括:与所述透明基底相对的透明基板；位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层；位于所述透明基底背面的第一圆偏振片；位于在所述透明基板背面的第二圆偏振片。可选的，所述透明基板为具有色阻和黑色矩阵的彩膜基板；所述透明基板上还具有黑色矩阵，位于相邻色阻之间。本发明还提供另一种显示面板，包括:透明基底；依次形成于所述透明基底上的电容式触摸结构、第一绝缘层、IPS/FFS显示模式的显示结构；其中，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:依次形成于所述第一绝缘层上的公共电极、第二绝缘层；位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上的像素电极，所述像素电极为条形电极。可选的，所述公共电极为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。可选的，所述公共电极平铺所述钝化层，或者所述公共电极具有缝隙，该缝隙与所述像素电极之间的缝隙相对。可选的，所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极；覆盖所述感应电极和所述透明基底的介质层；位于所述介质层上的多条驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列；或者,所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极；覆盖所述驱动电极和所述透明基底的介质层；位于所述介质层上的多条平行排列的感应电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。可选的，所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段；覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔；位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起；
或者,所述电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极、与所述驱动电极交叉的多条平行排列的感应电极，每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔成多段；覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔；位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔开的多段电连接在一起。可选的，还包括:与透明基底相对的透明基板；位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层；位于所述透明基底背面的第一线偏振片；位于在所述透明基板背面的第二线偏振片。可选的，所述透明基板为具有色阻的彩膜基板；还包括:黑色矩阵，所述黑色矩阵位于所述彩膜透明基板上，且位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述透明基底和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第一绝缘层和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述公共电极和第二绝缘层之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第二绝缘层和所述TFT开关、数据线、扫描线之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间。可选的，还包括:与所述透明基底相对的透明基板；位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层；位于所述透明基底背面的第一圆偏振片；位于在所述透明基板背面的第二圆偏振片。可选的，所述透明基板为具有色阻和黑色矩阵的彩膜基板；所述透明基板上还具有黑色矩阵，位于相邻色阻之间。本发明还提供一种液晶显示装置，包括:所述的显示面板；位于所述透明基板一侧的背光源。与现有技术相比，本发明具有以下优点:本技术方案的显示面板，将触摸结构形成在透明基底上，在触摸结构上方形成IPS/FFS显示模式的显示结构，在触摸结构和IPS/FFS显示模式的显示结构之间形成有屏蔽电极层或者由公共电极充当屏蔽电极层，该屏蔽电极层可以避免IPS/FFS显示模式的显示结构的电场和触摸结构电场之间相互干扰的问题。而且，由于触摸结构和IPS/FFS显示模式的显不结构位于同一张透明基底上，为内嵌式触摸结构(In Cell TP),相对于外挂式显示面板省去一张透明基底，使得最终IXD成品的厚度变薄，而减轻终端产品的重量。另外，本技术方案的显示面板的形成方法，制备工艺简单，成本低。


图1是本发明第一实施例的显示面板形成方法的流程示意图；图2是本发明具体实施例的触摸结构的平面示意图；图3是本发明第一具体实施例的IPS/FFS显示模式的像素结构的平面示意图4 图7是本发明第一具体实施例的显示面板的形成方法的剖面结构示意图；图8 图10是本发明第二具体实施例的显示面板的形成方法的剖面结构示意图；图11是本发明第三具体实施例的IPS/FFS显示模式的像素结构的平面示意图；图12 图13是本发明第三具体实施例的显示面板的形成方法的剖面结构示意图；图14 图16是本发明第四具体实施例的显示面板的形成方法的剖面结构示意图；图17是本发明第五具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图18是本发明第六具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图19是本发明第七具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图20是本发明第八具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图21是本发明第九具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图22是本发明第十具体实施例的显示面板的剖面结构示意图。图23是本发明第十一实施例的显示面板形成方法的流程示意图；图24 25是本发明第十一实施例的显示面板形成方法的剖面结构示意图；图26是本发明第十二具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图27是本发明第十三具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图28是本发明第十四具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图29是本发明第十五具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图30是本发明第十六具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图31是本发明第十七具体实施例的显示面板的剖面结构示意图；图32是本发明第十八具体实施例的显示面板的剖面结构示意图。
具体实施例方式为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式
做详细的说明。在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施方式
的限制。显示面板形成方法的实施例第一实施例图1是本发明第一实施例的显示面板形成方法的流程示意图，参考图1，本发明第一实施例的显不面板的形成方法包括:步骤S11，提供透明基底；步骤S12，在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层；步骤S13，在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构。图2是本发明具体实施例的触摸结构的平面示意图，显示触摸屏的触摸网格100，由驱动电极和感应电极交叉排列而成。图3是本发明第一具体实施例的IPS/FFS显示模式的像素结构的平面示意图，参考图 3，第一具体实施例的 IPS/FFS(In Plane Switching,简称 IPS ;Fringe FieldSwitching,简称FFS)显示结构，包括:TFT开关，该TFT开关包括栅极411a、源极441a和漏极442a ;与栅极411a电连接的扫描线412a ;与源极441a电连接的数据线443a ;公共电极413a，以及与公共电极413a相对的像素电极46a，其中在每一个像素区域内，均具有多个间隔排列的像素电极46a，各个像素电极46a之间具有间隙，像素电极46a形成在公共电极413a上方，与公共电极413a相对。本发明第一实施例的显示面板将电容式触摸结构和IPS显示模式中的IPS/FFS显示结构形成在同一透明基底上。图4 图7是本发明第一具体实施例的显示面板的形成方法沿图2所示的a-a方向、图3所示的b-b方向的剖面结构示意图，下面结合参考图1、图3和图4 图7详述本发明第一具体实施例的显示面板的形成方法。结合参考图1、图3和图4，执行步骤S11，提供透明基底10。第一实施例中，透明基底10为玻璃透明基底，但本发明中透明基底10不限于玻璃透明基底，也可以为本领域技术人员公知的其他透明基底，例如透明塑料透明基底。结合参考图1、图3和图5、图6，执行步骤S12，在所述透明基底10上依次形成电容式触摸结构20a、第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33。具体为:在所述透明基底10上形成电容式触摸结构20a,在电容式触摸结构20a上形成第一绝缘层31,在第一绝缘层31上形成屏蔽电极层32，在屏蔽电极层32上形成第二绝缘层33。所述屏蔽电极层32为透明导电材料，所述第一绝缘层31和第二绝缘层33的材料均为透明绝缘材料。透明基底10具有相对的两面，其中用来形成触摸结构以及之后的IPS/FFS显示模式的显示结构的那一面，在本发明中定义为正面，与正面相对的面定义为背面。本发明中，电容式触摸结构形成在透明基底10的正面上。参考图5，具体的，在透明基底10上形成电容式触摸结构20a包括:在透明基底上10形成多条平行排列的感应电极21a，具体形成方法为，在透明基底10上沉积形成导电层，然后对导电层进行图案化形成多条平行排列的感应电极21a，感应电极21a的材料为金属或透明导电材料，例如MoNb金属，ITO透明材料；当感应电极21a的材料为透明导电材料例如ITO时，感应电极21a不会影响像素的开口率；当感应电极21a的材料为金属时，由于金属不透明，为了避免像素开口率降低，将每一个感应电极21a按像素排列划分成多块区域，每块区域在像素区域呈镂空状，避免影响像素的开口率。之后，形成介质层23a，覆盖所述感应电极21a和所述透明基底10，介质层23a的材料为氧化硅、氮化硅等本领域技术人员公知的透明绝缘材料。接着，在所述介质层23a上形成多条驱动电极22a，所述感应电极21a和所述驱动电极22a相互交叉排列；具体形成驱动电极22a的方法为，在介质层23a上沉积形成导电层，然后对导电层进行图案化形成多条平行排列的驱动电极22a，驱动电极22a的材料为金属或透明导电材料，例如MoNb金属，ITO透明材料；当驱动电极22a的材料为透明导电材料例如ITO时，驱动电极22a不会影响像素的开口率；当驱动电极22a的材料为金属时，由于金属不透明，为了避免像素开口率降低，将每一个驱动电极22a按像素排列划分成多块区域，每块区域在像素区域呈镂空状，避免影响像素的开口率。第一实施例中，多条感应电极21a平行间隔排列，多条驱动电极22a平行间隔排列，且感应电极21a和驱动电极22a相互垂直。并且，多条驱动电极22a之间电连接，多条驱动电极22a之间电连接通过外围电路实现。参考图6，该第一实施例中，第一绝缘层31、第二绝缘层33的材料可以是透明有机材料，也可以是氮化硅或者氧化硅等本领域技术人员公知的透明材料，形成第一绝缘层31、第二绝缘层33的方法需要根据材料做调整，当采用氮化硅或者氧化硅材料时，第一绝缘层31、第二绝缘层33的形成方法为化学气相沉积。屏蔽电极层32的材料为透明导电材料，例如ITO透明材料。其中，屏蔽电极层32起到防止触摸结构和显示结构的电场相互干扰的作用。结合参考图1、图3和图7，执行步骤S13，在所述第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40a。在该第一实施例中，具体的，在所述第二绝缘层33上形成IPS-FFS显示结构包括:在第二绝缘层33上形成TFT开关、扫描线412a和数据线443a ;之后，形成钝化层45a，覆盖所述TFT开关、数据线443a和扫描线412a ;接着，在所述钝化层45a上形成公共电极413a ;形成第三绝缘层47a，覆盖所述公共电极413a和钝化层45a ;接着，在第三绝缘层47a上形成像素电极46a，像素电极46a为条形电极，且一个像素内具有多条间隔排列的条形像素电极46a，在同一像素区域内，各个像素电极46a之间具有缝隙(图中未标号)。在该第一实施例中，公共电极413a平铺整个钝化层45a,但本发明中公共电极413a也可以具有缝隙，该缝隙与像素电极46a之间的缝隙相对。像素电极46a和公共电极413a之间形成电场，在像素电极46a的缝隙处的电场平行透明基底10的表面，这样可以保证液晶在平行透明基底的平面内旋转。另外，在该实施例中，公共电极413a和像素电极46a的位置关系可以互换，具体为:在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线；在所述钝化层上形成像素电极；形成第三绝缘层，覆盖所述像素电极和钝化层；在所述第三绝缘层上形成公共电极，所述公共电极为条形电极，且一个像素内具有多条间隔排列的条形公共电极，在同一像素区域内，各个公共电极之间具有缝隙。像素电极和公共电极之间形成电场，在公共电极的缝隙处的电场平行透明基底的表面，这样可以保证液晶在平行透明基底的平面内旋转。具体的，在第二绝缘层33上形成TFT开关、扫描线和数据线包括:在第二绝缘层33上形成TFT开关的栅极411a、与所述栅极411a电连接的扫描线412a，在图7的剖切位置未示意出栅极411a、扫描线412a ;具体形成方法为:在第二绝缘层33上形成导电层，对导电层进行图案化形成栅极411、扫描线412a ;栅极41 la、扫描线412a的材料为MoNd或者AlNd0之后，形成栅介质层42a，覆盖所述栅极411a、扫描线412a和第二绝缘层33，栅介质层42a的材料为氧化硅或氮化硅等本领域技术人员公知的材料，其形成方法为化学气相沉积。接着，在栅介质层42a上形成有源区，图中未示，有源区的材料可以为非晶硅；然后，形成TFT开关的源极441a、漏极442a、与所述源极441a电连接的数据线443a ;具体形成方法为:形成导电层，覆盖所述有源区、栅介质层42a，对导电层进行图案化形成源极441a、漏极442a (在图7的剖切位置未示意出)、与所述源极441a电连接的数据线443a ;源极441a、漏极442a、与所述源极441a电连接的数据线443a的材料为MoNd或者AINd。在第一实施例中，触摸结构的形成方法为:先在透明基底10上形成感应电极，然后形成介质层，接着在介质层上形成驱动电极。但第一实施例中，触摸结构的形成方法也可以为:先在透明基底10上形成驱动电极，然后形成介质层，接着在介质层上形成感应电极，也就是将形成驱动电极和感应电极的顺序进行互换。第二实施例图8 图10是本发明第二具体实施例的显示面板的形成方法沿图2所示的a-a方向、图3所示的b-b方向的剖面结构示意图，下面结合参考图1、图3和图8 图10详述本发明第二具体实施例的显示面板的形成方法。结合参考图1、图8、图9，执行步骤Sll和步骤S12，其中步骤Sll与第一实施例相同，在此不做赘述。步骤S12，在所述透明基底10正面上形成电容式触摸结构20b包括:在所述透明基底10上形成多条平行排列的感应电极21b、与所述感应电极21b交叉的多条平行排列的驱动电极22b，每条所述驱动电极22b被所述多条感应电极21b间隔成多段，具体形成方法为:在所述透明基底10上沉积形成导电层，对所述导电层进行图案化形成多条平行排列的感应电极21b、多条平行排列的驱动电极22b。之后，形成介质层23b，覆盖所述感应电极21b、驱动电极22b和透明基底10，该介质层23b的材料以及形成方法与第一实施例的介质层23相同，在此不做赘述。接着，图案化所述介质层23，在所述介质层23中形成过孔24b，所述过孔24b底部暴露出驱动电极22b的各段；然后，形成导电层，覆盖所述介质层23并填充所述过孔24b ;图案化所述导电层形成互连线25b，将每条所述驱动电极22b被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。其中，导电层的材料为金属或透明导电材料，例如IT0。感应电极21b与驱动电极22b的材料为金属或透明导电材料，例如MoNb金属，ITO透明材料；当感应电极21b与驱动电极22b的材料为透明导电材料例如ITO时，感应电极21b与驱动电极22b不会影响像素的开口率；当感应电极21b与驱动电极22b的材料为金属时，由于金属不透明，为了避免像素开口率降低，将感应电极21b与驱动电极22b按像素排列划分成多块区域，每块区域在像素区域呈镂空状，避免影响像素的开口率。形成电容式触摸结构20b后，在所述电容式触摸结构20b上依次形成第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33，与第一实施例相同，在此不做赘述。结合参考图1、图10，执行步骤S13，在所述第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40b。第二实施例中，显示结构40b与显示结构40a相同，形成方法与第一实施例相同，在此不做赘述。第三实施例本发明第三实施例的显示面板将电容式触摸结构和IPS显示模式的显示结构形成在同一透明基底上。图11是本发明第三具体实施例的IPS显示模式的像素结构的平面示意图，参考图11，第三具体实施例的IPS/FFS显示模式的显示结构为IPS显示结构，包括:TFT开关，该TFT开关包括栅极411c、源极441c和漏极442c ;与栅极411c电连接的扫描线412c ;与源极441c电连接的数据线443c ;公共电极47c，与公共电极位于同一层的像素电极46c，且在一个像素区域内，像素电极46c和公共电极47c间隔排列，且两者之间具有间隙，公共电极47c和像素电极46c均位于覆盖TFT开关的钝化层上。图12 图13为本发明第三实施例的形成显示面板的方法的剖面结构示意图，结合参考图1、图11和图12 图13详述本发明第三实施例的形成显示面板的方法。
结合参考图1、图11和图12，执行步骤Sll和步骤S12，提供透明基底10，在所述透明基底10上依次形成触摸结构20c、第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33。在第三实施例中，触摸结构20c与第一实施例中的触摸结构20a相同，步骤SI 1、步骤S12与第一实施例相同，在此不做赘述。结合参考图1、图11和图13，执行步骤S13，在所述第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40c。本发明第三实施例中，在所述第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40c包括:在所述第二绝缘层33上形成TFT开关、扫描线412c和数据线443c，在图13中的剖面位置未显示扫描线；形成钝化层45c，覆盖所述TFT开关、数据线443c和扫描线412c ;在所述钝化层45c上形成间隔排列的像素电极46c和公共电极47c。在该第三实施例中，像素电极46c和公共电极47c的材料为透明导电材料，例如ITO材料；形成像素电极和公共电极的方法为:在钝化层45c上沉积形成透明导电材料层，然后利用光刻、刻蚀工艺图案化透明导电材料层形成像素电极46c和公共电极47c。在每一个像素区域，均具有多条平行排列的像素电极46c和平行排列的公共电极47c，且像素电极46c和公共电极47c间隔排列且两者之间具有缝隙，各个像素电极互相电连接，各个公共电极47c相互电连接，像素电极46c与TFT开关的漏极电连接，公共电极47c与公共电位电连接，在该第三实施例中，连接在一起的像素电极46c整体呈梳形，连接在一起的公共电极47c也整体呈梳形，像素电极通过过孔与TFT开关的漏极电连接。像素电极46c和公共电极47c之间形成平行于透明基底10表面的平行场，该平行场可使液晶在平行透明基底的平面内旋转。第三实施例中，钝化层45c的材料为氧化硅、氮化硅或者本领域技术人员公知的其他材料，形成方法为化学气相沉积。在第三实施例中，在所述第二绝缘层33上形成TFT开关、扫描线和数据线包括:在所述第二绝缘层33上形成TFT开关的栅极411c、与所述栅极411c电连接的扫描线412c，图13的剖切位置未显示出栅极、与栅极电连接的扫描线；形成栅介质层42c，覆盖所述栅极411c、扫描线412c和第二绝缘层33 ;在所述栅介质层42c上形成有源区(图中未示)；形成TFT开关的源极、漏极、与所述漏极电连接的数据线43c。第三实施例中，形成TFT开关、数据线和扫描线的方法与第一实施例相同，详细可以参见第一实施例。第四实施例图14 图16为本发明第四实施例的形成显示面板的方法的剖面结构示意图，结合参考图1、图11和图14 图16详述本发明第四实施例的形成显示面板的方法。结合参考图1、图11和图14、图15，执行步骤S11，提供透明基底10 ;步骤S12，在所述透明基底10上依次形成触摸结构20d、第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层
33。触摸结构20d与第二实施例中的触摸结构20b相同，该步骤SI 1、S12与第二实施例相同，在此不做赘述。结合参考图1、图11和图16，执行步骤S13，在所述第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40d。在第四实施例中，IPS/FFS显示模式的显示结构40d与第三实施例中显示结构40c相同，形成方法也相同，在此不做赘述。第五实施例图17为本发明第五实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图17，在第五实施例中，形成显示面板的方法包括:提供透明基底10，在透明基底10上形成触摸结构20，该触摸结构20可以为以上所述第一、第二、第三、第四实施例的触摸结构20a、20b、20c和20d其中之一；在触摸结构20上形成以上所述第一、第二、第三、第四实施例的第一绝缘层31、屏蔽电极层32、第二绝缘层33，在第二绝缘层33上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40，IPS/FFS显示模式的显示结构40为以上所述第一、第二、第三、第四实施例的显示结构40a、40b、40c和40d其中之一。第五实施例的形成显示面板的方法还包括:提供透明基板50 ;将形成了触摸结构、显示结构的透明基底10正面与所述透明基板50相对贴合；在所述透明基底10背面形成第一线偏振片51 ;在所述透明基板50背面形成第二线偏振片52。在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板50上形成色阻54和黑色矩阵53，所述黑色矩阵53位于相邻色阻54之间。具体形成方法可以为先在透明基板50上形成色阻54，然后形成黑色矩阵53 ;或者也可以为，先在透明基板50上形成黑色矩阵53，然后形成色阻54。透明基板50为玻璃透明基板，但不限于玻璃透明基板，可以为本领域技术人员公知的其他材料，例如透明塑料透明基板。色阻可以为红、绿、蓝三色色阻或者红、绿、蓝、白四色色阻54以及位于相邻色阻之间的黑色矩阵53 ;在所述透明基底10背面形成第一线偏振片51。需要说明的是，透明基板50与透明基底10相对的面为正面，与正面相对的面为背面。当没有形成色阻时，可以为黑白显示或场序式彩色显示。还包括:在贴合的透明基板50和透明基底10之间形成液晶层70，具体形成方法可以为在将透明基底正面上先滴液晶后，再将透明基底和透明基板贴合。在透明基底和透明基板贴合后，分别在其背面贴上偏振片。当然也可以先贴偏振片再贴合。液晶层70中液晶的长轴和短轴均平行于透明基底10的正面。在像素电极和公共电极之间的电场使液晶旋转时，液晶始终在平行透明基底10的表面旋转。透明基板50 —侧形成背光源60。由于背光源设置在透明基板一侧，操作界面在透明基底10的背面，可实现内嵌式触摸结构与面内旋转模式相结合(In Cell IPS(IPS-FFS))的触摸IXD装置。第六实施例图18为本发明第六实施例的显示面板的剖面结构示意图，参考图18，在第六实施例中，在所述透明基底10背面形成第一圆偏振片51a，在所述透明基板50背面形成第二圆偏振片52a。透明基板50 —侧形成背光源60。其他与第五实施例相同。在该实施例中，操作界面在透明基底10的背面，由于透明基底10上的金属电极例如栅极、源极、漏极、数据线、扫描线等会对光线进行反射，因此外界光线会被金属电极反射，反射光线进入人眼，造成浏览显示界面障碍，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，改变偏振片的种类，在透明基底10背面和透明基板50背面分别贴附第一圆偏振片51a和第二圆偏振片52a，这种圆形偏光片可以吸收反射光，因此外界环境光透过第一圆偏振片51a后被金属电极反射回来的反射光被第一圆偏振片51a吸收。第七实施例图19为本发明第七实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图19，在第七实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，在所述透明基底10上形成电容式触摸结构20之前，在所述透明基底20上形成黑色矩阵53，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。其他与第五实施例相同。在该第七实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在透明基底10上，然后再制作触摸结构和显示结构，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。第八实施例图20为本发明第八实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图20，在第八实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，形成电容式触摸结构20之后，形成第一绝缘层31之前，在所述电容式触摸结构20上形成黑色矩阵53，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板50上形成的相邻色阻之间。其他与第五实施例相同。在该第八实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在触摸结构20上，然后再制作第一绝缘层
31、屏蔽电极层32、第二绝缘层33和显示结构40，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。将BM制作在触摸结构上方，显示结构下方，这样的话黑色矩阵比第七实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。第九实施例图21为本发明第九实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图21，在第九实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，形成屏蔽电极层32之后，形成第二绝缘层33之前，在所述屏蔽电极层32上形成黑色矩阵53，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。其他与第五实施例相同。

在该第九实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在屏蔽电极层32上，然后再制作第二绝缘层和显示结构，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。将BM制作在屏蔽电极层上，显示结构下方，这样的话黑色矩阵比第八实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。第十实施例图22为本发明第十实施例形成显示面板的方法的剖面结构示意图，参考图22，在第十实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，形成显示结构之前，在所述第二绝缘层33上形成黑色矩阵53，在平行透明基板50方向上所述黑色矩阵53位于透明基板上形成的相邻色阻54之间。其他与第五实施例相同。在该第十实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在上第二绝缘层33上，显示结构下，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。将BM制作在第二绝缘层33上，显示结构下方，这样的话黑色矩阵比第九实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。第H^一实施例图23为第十一实施例的显示面板的形成方法的流程图，参考图23，第十一实施例的显示面板的形成方法包括:
步骤S21，提供透明基底；步骤S22，在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层；步骤S23，在所述第一绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构；所述形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括:在所述第一绝缘层上形成公共电极；在所述公共电极上形成第二绝缘层；在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线；形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线；在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极为条形电极。图24 图25为第i^一实施例的显示面板的形成方法的剖面结构示意图，结合参考图23和图24，第十一实施例的显示面板的形成方法中，步骤S21与第一实施例的步骤Sll相同，步骤S22 中在透明基底10上形成电容式触摸结构20e，该电容式触摸结构20e与第一实施例电容式触摸结构20a相同，形成方法也相同。之后，在电容式触摸结构20e上形成第一绝缘层31。接着，结合参考图23和图25、图3，执行步骤S23，在第一绝缘层31上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40e ;所述形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括:在所述第一绝缘层31上形成公共电极413a，在公共电极413a上形成第二绝缘层33，在第二绝缘层33上形成TFT开关、扫描线412a和数据线443a ;形成钝化层45a，覆盖所述TFT开关、数据线443a和扫描线412a ;在钝化层45a上形成像素电极46a，所述像素电极46a为条形电极。在同一像素区域内，具有多个间隔排列的像素电极46a，各个像素电极46a之间具有缝隙(图中未标号)。在该第五实施例中，公共电极413a作为屏蔽电极层，屏蔽显示结构和触摸结构之间的电场，优选的，公共电极413a平铺整个第一绝缘层31，但本发明中公共电极413a也可以具有缝隙，该缝隙与像素电极46a之间的缝隙相对。像素电极46a和公共电极413a之间形成电场在像素电极46a的缝隙处的电场平行透明基底10的表面，这样可以保证液晶在平行透明基底的平面内旋转。其他与第一实施例相同，在此不做赘述。第十二实施例图26为第十二实施例的显示面板的剖面结构示意图，结合参考图26和图24执行步骤S21 步骤S23，步骤S21中与第二实施例的步骤S12相同，步骤S22中的在透明基底10上形成电容式触摸结构20f与第二实施例中形成电容式触摸结构20b相同，在第一绝缘层31上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40f与第i^一实施例的形成IPS/FFS显示模式的显示结构40e相同。第十三实施例图27为本发明第十三实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图27，在第十三实施例中，形成显示面板的方法包括:提供透明基底10，在透明基底10上形成触摸结构20，该触摸结构20可以为以上所述第i^一、第十二实施例的触摸结构20e、20f其中之一；在触摸结构20上形成以上所述的第一绝缘层31，在第一绝缘层31上形成IPS/FFS显示模式的显示结构40, IPS/FFS显示模式的显示结构40为以上所述第^^一、第十二实施例的显示结构40e、40f其中之一。第十三实施例的形成显示面板的方法还包括:提供透明基板50 ;将形成了触摸结构、显示结构的透明基底10正面与所述透明基板50相对贴合；在所述透明基底10背面形成第一线偏振片51 ;在所述透明基板50背面形成第二线偏振片52。在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板50上形成色阻54和黑色矩阵53，所述黑色矩阵53位于相邻色阻54之间。具体形成方法可以为先在透明基板50上形成色阻54，然后形成黑色矩阵53 ;或者也可以为，先在透明基板50上形成黑色矩阵53，然后形成色阻54。透明基板50为玻璃透明基板，但不限于玻璃透明基板，可以为本领域技术人员公知的其他材料，例如透明塑料透明基板。色阻可以为红、绿、蓝三色色阻或者红、绿、蓝、白四色色阻54以及位于相邻色阻之间的黑色矩阵53 ;在所述透明基底10背面形成第一线偏振片51。需要说明的是，透明基板50与透明基底10相对的面为正面，与正面相对的面为背面。当没有形成色阻时，可以为黑白显示或场序式彩色显示。还包括:在贴合的透明基板50和透明基底10之间形成液晶层70，具体形成方法可以为在将透明基底正面上先滴液晶后，再将透明基底和透明基板贴合。在透明基底和透明基板贴合后，分别在其背面贴上偏振片。当然也可以先贴偏振皮再贴合。液晶层70中液晶的长轴和短轴均平行于透明基底10的正面。在像素电极和公共电极之间的电场使液晶旋转时，液晶始终在平行透明基底10的表面旋转。透明基板50 —侧形成背光源60。由于背光源设置在透明基板一侧，操作界面在透明基底10的背面，可实现内嵌式触摸结构与面内旋转模式相结合(In Cell IPS(IPS-FFS))的触摸IXD装置。第十四实施例图28为本发明第十四实施例的显示面板的剖面结构示意图，参考图28，在第十四实施例中，在所述透明基底10背面形成第一圆偏振片51a，在所述透明基板50背面形成第二圆偏振片52a。其他与第十三实施例相同。在该实施例中，操作界面在透明基底10的背面，由于透明基底10上的金属电极例如栅极、源极、漏极、数据线、扫描线等会对光线进行反射，因此外界光线会被金属电极反射，反射光线进入人眼，造成浏览显示界面障碍，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，改变偏振片的种类，在透明基底10背面和透明基板50背面分别贴附第一圆偏振片51a和第二圆偏振片52a，这种圆偏光片可以吸收反射光，因此外界环境光透过第一圆偏振片51a后被金属电极反射回来的反射光被第一圆偏振片51a吸收。第十五实施例图29为本发明第十五实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图29，在第十五实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，在所述透明基底10上形成电容式触摸结构20之前，在所述透明基底10上形成黑色矩阵53，在平行透明基板50方向上所述黑色矩阵位于透明基板50上形成的相邻色阻54之间。其他与第十三实施例相同。在该第十五实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在透明基底10上，然后再制作触摸结构和显示结构，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。第十六实施例图30为本发明第十六实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图30，在第十六实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，形成电容式触摸结构20之后，形成第一绝缘层31之前，在所述电容式触摸结构20上形成黑色矩阵53，在平行透明基板50方向上所述黑色矩阵53位于透明基板50上形成的相邻色阻54之间。其他与第十三实施例相同。在该第十六实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在触摸结构20上，然后再制作第一绝缘层31和显示结构40，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。将BM制作在触摸结构上方，显示结构下方，这样的话黑色矩阵比第十五实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。第十七实施例图31为本发明第十七实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图31，在第十七实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，形成公共电极413a之后，形成第二绝缘层33之前，在所述公共电极413a上形成黑色矩阵53，在平行透明基板50方向上所述黑色矩阵53位于透明基板50上形成的相邻色阻54之间。其他与第十三实施例相同。在该第十七实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在公共电极413a上，然后再制作第二绝缘层33以及其他结构，由黑色矩阵53吸收反射回来的环境光。将BM制作在公共电极413a上，这样的话黑色矩阵比第十六实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。第十八实施例图32为本发明第十八实施例显示面板的的剖面结构示意图，参考图32，在第十八实施例中，在所述透明基板50上形成色阻54，在形成第二绝缘层33之后，形成TFT开关、扫描线和数据线之前，在所述第二绝缘层33上形成黑色矩阵53，在平行透明基板50方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。其他与第十三实施例相同。在该第十八实施例中，为了阻挡和吸收从透明基底10上的金属电极反射回操作界面的反射光，将黑色矩阵(Black Matrix)制作在上第二绝缘层33上，由黑色矩阵吸收反射回来的环境光。将BM制作在第二绝缘层33上，这样的话黑色矩阵比第十七实施例中的黑色矩阵更接近显示结构中的金属电极，可以更好的吸收反射的环境光，相应的反射光量就减少。显示面板的具体实施例基于以上所述的形成显示面板的方法，本发明还提供一种显示面板，包括:透明基底，位于所述透明基底上的触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层，所述屏蔽电极层为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料；位于所述第二绝缘层上IPS/FFS显示模式的显示结构。第一实施例图7为本发明第一实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图7，第一实施例中，电容式触摸结构20a包括:位于所述透明基底10上的多条平行排列的感应电极21a ;覆盖所述感应电极21a和所述透明基底10的介质层23a ;位于所述介质层23a上的多条驱动电极22a，所述感应电极21a和所述驱动电极22a相互交叉排列。结合参考图3和考图7,在第一实施例中，IPS/FFS显不模式的显不结构包括:位于所述第二绝缘层33上的TFT开关、扫描线412a和数据线443a ;覆盖所述TFT开关、数据线443a和扫描线412a的钝化层45a ;位于所述钝化层45a上的公共电极413a ;覆盖所述公共电极413a和所述钝化层45a上的第三绝缘层47a ;位于所述第三绝缘层47a上的像素电极46a，所述像素电极46a为条形电极。且一个像素内具有多条间隔排列的条形像素电极46a，在同一像素区域内，各个像素电极46a之间具有缝隙(图中未标号)。在该第一实施例中，公共电极413a平铺整个钝化层45a，但本发明中公共电极413a也可以具有缝隙，该缝隙与像素电极46a之间的缝隙相对。像素电极46a和公共电极413a之间形成电场，在像素电极46a的缝隙处的电场平行透明基底10的表面，这样可以保证液晶在平行透明基底的平面内旋转。另外，在该实施例中，公共电极和像素电极的位置关系可以互换，具体为:所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上的像素电极；覆盖所述像素电极和所述钝化层上的第三绝缘层；位于所述第三绝缘层上的公共电极，所述公共电极为条形电极。在该实施例中，感应电极和驱动电极的位置关系也可以互换，具体为:电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极；覆盖所述驱动电极和所述透明基底的介质层；位于所述介质层上的多条感应电极，所述驱动电极和所述感应电极相互交叉排列。TFT开关包括:位于所述第二绝缘层33上的栅极411a，覆盖所述栅极411a的栅介质层42a，位于所述栅介质层42a上的有源区，位于所述有源区上、且分别位于有源区两侧的源极441a、漏极442a ;所述扫描线412a与所述栅极411a位于同一层；所述数据线443a与所述源极441a、漏极442a位于同一层。第一实施例中形成显示面板的方法中关于显示面板结构、以及材料方面的内容可以援引于关于该第一实施例的显示面板，在此不做赘述。第二实施例图10为本发明第二实施例显示面板的剖面结构示意图，结合参考图3和考图10，第二实施例中，触摸结构20b包括:位于所述透明基底10上的多条平行排列的感应电极21b、与所述感应电极21b交叉多条平行排列的驱动电极22b，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段；覆盖所述感应电极21b、驱动电极22b和透明基底10的介质层23b，所述介质层23b具有过孔24b ;位于所述介质层23b上的互连线25b，所述互连线将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。过孔内的材料和互连线的材料为金属或透明导电材料。另外，在该实施例中，感应电极和驱动电极的位置关系可以互换，具体为:电容式触摸结构包括:位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极、与所述驱动电极交叉多条平行排列的感应电极，每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔成多段；覆盖所述驱动电极、感应电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔；位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔开的多段电连接在一起。第二实施例中，显示结构40b与第一实施例中的显示结构40a的结构相同，在此不做赘述。第二实施例的形成显示面板的方法中关于显示面板结构、以及材料方面的内容可以援引于关于该第二实施例的显示面板，在此不做赘述。第三实施例图13为本发明第三实施例显示面板的剖面结构示意图，结合参考图11和图13，第三实施例中，显示面板包括:透明基底10，位于所述透明基底10正面上的触摸结构20c ;在所述触摸结构20c上依次形成有第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33 ;位于所述第二绝缘层33上的IPS/FFS显示模式的显示结构40c。 第三实施例中，触摸结构20c与第一实施例中的触摸结构20a的结构相同，在此不做赘述。第三实施例中，显示结构40c为IPS显示结构包括:位于所述第二绝缘层33上的TFT开关、扫描线412c和数据线443c ;覆盖所述TFT开关、数据线443c和扫描线412c的钝化层45c ;位于所述钝化层45c上间隔排列的像素电极46c和公共电极47c ( 二者位于同一层)，所述像素电极46c和所述公共电极47c之间具有缝隙。所述TFT开关包括:位于所述第二绝缘层33上的栅极411c，位于所述栅极411c上的栅介质层42c，位于所述栅介质层42c上的有源区(图中未示)，位于所述有源区上、且分别位于有源区两侧的源极441c、漏极442c ;所述扫描线412c与所述栅极411c位于同一层；所述数据线443c与所述源极441c、漏极442c位于同一层。第三实施例的形成显示面板的方法中关于显示面板结构、以及材料方面的内容可以援引于关于该第三实施例的显示面板，在此不做赘述。第四实施例图16为本发明第四实施例显示面板的剖面结构示意图，结合参考图11和图16，第四实施例中，显示面板包括:透明基底10，位于所述透明基底10正面上的触摸结构20d ;在所述触摸结构20d上依次形成有第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33 ;位于所述第二绝缘层上IPS/FFS显示模式的显示结构40d。第四实施例中，触摸结构20d与第二实施例中的触摸结构20b的结构相同，在此不做赘述。第四实施例中，显示结构40d与第三实施例中的显示结构40c的结构相同，在此不做赘述。第五实施例图17为本发明第五实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图17，第五实施例中，显示面板包括:透明基底10，位于所述透明基底10正面上的触摸结构20 ;在所述触摸结构20上依次形成有第一绝缘层31、屏蔽电极层32和第二绝缘层33 ;位于所述第二绝缘层上IPS/FFS显示模式的显示结构40。其中，触摸结构20为以上所述第一实施例、第二实施例、第三实施例、第四实施中的触摸结构20a、20b、20c、20d其中之一，显示结构40为以上所述第一实施例、第二实施例、第三实施例、第四实施中的显示结构40a、40b、40c、40d其中之一 O第五实施例中，显示面板还包括:与透明基底10相对的透明基板50 ;位于所述透明基板50和所述透明基底10之间的液晶层70 ;位于所述透明基底10背面的第一线偏振片51 ;位于在所述透明基板50背面的第二线偏振片52。在该实施例中，所述透明基板50为具有色阻25的彩膜基板，色阻可以为红、绿、蓝三色色阻或者红、绿、蓝、白四色色阻；还包括:黑色矩阵53，所述黑色矩阵53位于所述彩膜透明基板上，且位于相邻色阻54之间。还包括:位于所述透明基板50 —侧的背光源60。第五实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第六实施例图18为本发明第六实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图18，第六实施例中，位于所述透明基底10背面的偏振片为第一圆偏振片51a ;位于在所述透明基板50背面的偏振片为第二圆偏振片52a ;其他与第五实施例的显示面板相同，在此不做赘述。第六实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第七实施例图19为本发明第七实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图19，第七实施例中，黑色矩阵53位于所述透明基底10和触摸结构20之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与 第五实施例相同，第七实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点的内容可以援引于此。第八实施例图20为本发明第八实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图20，第八实施例中，所述黑色矩阵53位于所述第一绝缘层31和触摸结构20之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第五实施例的显示面板相同。第八实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第九实施例图21为本发明第九实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图21，第九实施例中，所述黑色矩阵53位于所述屏蔽电极层32和第二绝缘层33之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第五实施例的显示面板相同。第九实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第十实施例图22为本发明第十实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图22，第十实施例中，所述黑色矩阵53位于所述第二绝缘层33和所述显示结构20之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第五实施例的显示面板相同。第十实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第H^一实施例图25为本发明第十一实施例显示面板的剖面结构示意图，结合参考图3和图25，第十一实施例显示面板包括:透明基底10 ;依次形成于所述透明基底10上的电容式触摸结构20e、第一绝缘层31、IPS/FFS显示模式的显示结构40e ;其中，电容式触摸结构20e与第一实施例电容式触摸结构20a相同；所述IPS/FFS显示模式的显示结构40e包括:依次形成于所述第一绝缘层31上的公共电极413a、第二绝缘层33 ;位于所述第二绝缘层33上的TFT开关、扫描线412a和数据线443a ;覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层45a ;位于所述钝化层45a上的像素电极46a，所述像素电极46a为条形电极。所述公共电极层413a为透明导电材料，所述第一绝缘层31和第二绝缘层33的材料均为透明绝缘材料。
在同一像素区域内，具有多个间隔排列的像素电极46a，各个像素电极46a之间具有缝隙(图中未标号)。在该第五实施例中，公共电极413a作为屏蔽电极层，屏蔽显示结构和触摸结构之间的电场，优选的，公共电极413a平铺整个第一绝缘层31，但本发明中公共电极413a也可以具有缝隙，该缝隙与像素电极46aa之间的缝隙相对。像素电极46a和公共电极413a之间形成电场在像素电极46a的缝隙处的电场平行透明基底10的表面，这样可以保证液晶在平行透明基底的平面内旋转。其他与第一实施例相同，在此不做赘述。第十二实施例图26为本发明第十二实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图26第十二实施例显示面板中，透明基底10上的电容式触摸结构20f与第二实施例的电容式触摸结构20b相同，第一绝缘层31上形成显示结构40f与第十一实施例的显示结构40e相同。第十三实施例图27为本发明第十三实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图27，第十三实施例中，显示面板包括:透明基底10，依次位于所述透明基底10上的触摸结构20、第一绝缘层
31;位于所述第一绝缘层上IPS/FFS显示模式的显示结构40。其中，触摸结构20为以上所述第i^一实施例、第十二实施中的触摸结构20e、20f其中之一，显示结构40为以上所述第i^一实施例、第十二实施中的显示结构40e、40f其中之一。第十三实施例中，显示面板还包括:与透明基底10相对的透明基板50 ;位于所述透明基板50和所述透明基底10之间的液晶层70 ;位于所述透明基底10背面的第一线偏振片51 ;位于在所述透明基板50背面的第二线偏振片52。在该实施例中，所述透明基板50为具有色阻25的彩膜透明基板，色阻可以为红、绿、蓝三色色阻或者红、绿、蓝、白四色色阻；还包括:黑色矩阵53，所 述黑色矩阵53位于所述彩膜透明基板上，且位于相邻色阻54之间。位于所述透明基板50 —侧的背光源60。第十三实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第十四实施例图28为本发明第十四实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图28，第十四实施例中，位于所述透明基底10背面的偏振片为第一圆偏振片51a ;位于在所述透明基板50背面的偏振片为第二圆偏振片52a ;其他与第十三实施例的显示面板相同，在此不做赘述。第十四实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第十五实施例图29为本发明第十五实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图29，第十五实施例中，黑色矩阵53位于所述透明基底10和触摸结构20之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第十三实施例相同，第十五实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板结构、材料、显示方式、优点的内容可以援引于此。第十六实施例图30为本发明第十六实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图30，第十六实施例中，所述黑色矩阵53位于所述第一绝缘层31和触摸结构20之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第十三实施例的显示面板相同。第十六实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第十七实施例图31为本发明第十七实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图31，第十七实施例中，所述黑色矩阵53位于所述公共电极413a和第二绝缘层33之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第十三实施例的显示面板相同。第十七实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。第十八实施例图32为本发明第十八实施例显示面板的剖面结构示意图，参考图32，第十八实施例中，所述黑色矩阵53位于所述第二绝缘层33和所述TFT开关、数据线、扫描线之间，且在平行透明基板50方向上位于相邻色阻54之间。其他与第十三实施例的显示面板相同。第十八实施例的形成显示面板方法中，关于显示面板的结构、材料、显示方式、优点等内容可以援引于此。基于以上所述的显示面板，本发明还提供一种液晶显示装置，包括:第一至第十八实施例的显示面板；位于所述透明基板50 —侧的背光源60。本技术方案的显示面板，将触摸结构形成在透明基底上，在触摸结构上方形成IPS/FFS显示模式的显示结构，在触摸结构和IPS/FFS显示模式的显示结构之间形成有屏蔽电极层或者由公共电极充当屏蔽电极层，该屏蔽电极层可以避免IPS/FFS显示模式的显示结构的电场和触摸结构电场之间相互干扰的问题。而且，由于触摸结构和IPS/FFS显示模式的显不结构位于同一张透明基底上，为内嵌式触摸结构(In Cell TP),相对于外挂式显示面板省去一张透明基底，使得最终IXD成品的厚度变薄，而减轻终端产品的重量。另外，本技术方案的显示面板的形成方法，制备工艺简单，成本低。本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。
权利要求
1.一种形成显示面板的方法，其特征在于，包括: 提供透明基底； 在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层； 在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构。
2.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，所述屏蔽电极层为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。
3.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括: 在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极； 形成介质层，覆盖所述感应电极和所述透明基底； 在所述介质层上形成多条驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。
4.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括:在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段； 形成介质层，覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底； 图案化所述介质层，在所述介质层中形成过孔，所述过孔底部暴露出驱动电极的各段； 形成导电层，覆盖所述介质层并填充所述过孔； 图案化所述导电层形成互连线，将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。
5.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线； 形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线； 在所述钝化层上形成间隔排列的像素电极和公共电极，所述像素电极和公共电极之间具有缝隙。
6.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述第二绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线； 形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线； 在所述钝化层上形成公共电极； 形成第三绝缘层，覆盖所述公共电极和钝化层； 在所述第三绝缘层上形成像素电极，所述像素电极为条形电极； 或者， 在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线； 形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线； 在所述钝化层上形成像素电极；形成第三绝缘层，覆盖所述像素电极和钝化层； 在所述第三绝缘层上形成公共电极，所述公共电极为条形电极。
7.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，还包括:提供透明基板； 将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合； 在所述透明基底背面形成第一线偏振片； 在所述透明基板背面形成第二线偏振片。
8.如权利要求7所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括: 在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之前，在所述透明基底上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之后，形成所述第一绝缘层之前，在所述电容式触摸结构上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间； 或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成所述屏蔽电极层之后，形成所述第二绝缘层之前，在所述屏蔽电极层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间； 或者，在所述透明基板上形 成色阻，在形成第二绝缘层之后，形成所述显示结构之前，在所述第二绝缘层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。
9.如权利要求1所述的形成显示面板的方法，其特征在于，还包括:提供透明基板； 将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合； 在所述透明基底背面形成第一圆偏振片； 在所述透明基板背面形成第二圆偏振片。
10.如权利要求9所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间。
11.一种形成显示面板的方法，其特征在于，包括: 提供透明基底； 在所述透明基底上依次形成电容式触摸结构、第一绝缘层； 在所述第一绝缘层上形成IPS/FFS显示模式的显示结构； 所述形成IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 在所述第一绝缘层上形成公共电极； 在所述公共电极上形成第二绝缘层； 在所述第二绝缘层上形成TFT开关、扫描线和数据线； 形成钝化层，覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线； 在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极为条形电极。
12.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，所述公共电极为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。
13.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，所述公共电极平铺所述钝化层，或者所述公共电极具有缝隙，该缝隙与所述像素电极之间的缝隙相对。
14.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括: 在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极； 形成介质层，覆盖所述感应电极和所述透明基底； 在所述介质层上形成多条驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。
15.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在所述透明基底上形成电容式触摸结构包括: 在所述透明基底上形成多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段； 形成介质层，覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底； 图案化所述介质层，在所述介质层中形成过孔，所述过孔底部暴露出驱动电极的各段； 形成导电层，覆盖所述介质层并填充所述过孔； 图案化所述导电层形成互连线，将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起。
16.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，还包括:提供透明基板； 将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合； 在所述透明基底背面形成第一线偏振片； 在所述透明基板背面形成第二线偏振片。
17.如权利要求16所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括: 在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之前，在所述透明基底上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间；或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成电容式触摸结构之后，形成所述第一绝缘层之前，在所述电容式触摸结构上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间； 或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成所述公共电极之后，形成所述第二绝缘层之前，在所述公共电极上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间； 或者，在所述透明基板上形成色阻，在形成第二绝缘层之后，形成TFT开关、扫描线和数据线之前，在所述第二绝缘层上形成黑色矩阵，在平行透明基板方向上所述黑色矩阵位于透明基板上形成的相邻色阻之间。
18.如权利要求11所述的形成显示面板的方法，其特征在于，还包括:提供透明基板； 将形成了触摸结构、显示结构的透明基底正面与所述透明基板相对贴合； 在所述透明基底背面形成第一圆偏振片； 在所述透明基板背面形成第二圆偏振片。
19.如权利要求18所述的形成显示面板的方法，其特征在于，在将所述透明基底和所述透明基板贴合之前，还包括:在所述透明基板上形成色阻和黑色矩阵，所述黑色矩阵位于相邻色阻之间。
20.一种显示面板，其特征在于，包括: 透明基底； 依次形成于所述透明基底上的电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层； 位于所述第二绝缘层上的IPS/FFS显示模式的显示结构。
21.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于，所述屏蔽电极层为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。
22.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于， 所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极； 覆盖所述感应电极和所述透明基底的介质层； 位于所述介质层上的多条平行排列的驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列； 或者，所述电容式触摸 结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极； 覆盖所述驱动电极和所述透明基底的介质层； 位于所述介质层上的多条平行排列的感应电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。
23.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于， 所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段； 覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔； 位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起； 或者，所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极、与所述驱动电极交叉的多条平行排列的感应电极，每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔成多段； 覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔； 位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔开的多段电连接在一起。
24.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线； 覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层； 位于所述钝化层上间隔排列的像素电极和公共电极，所述像素电极和所述公共电极之间具有缝隙。
25.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线； 覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层； 位于所述钝化层上的公共电极； 覆盖所述公共电极和所述钝化层上的第三绝缘层； 位于所述第三绝缘层上的像素电极，所述像素电极为条形电极； 或者， 所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括: 位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线； 覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层； 位于所述钝化层上的像素电极； 覆盖所述像素电极和所述钝化层上的第三绝缘层； 位于所述第三绝缘层上的公共电极，所述公共电极为条形电极。
26.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于，还包括:与透明基底相对的透明基板； 位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层； 位于所述透明基底背面的第一线偏振片； 位于在所述透明基板背面的第二线偏振片。
27.如权利要求26所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板为具有色阻的彩膜基板； 还包括:黑色矩阵，所述黑色矩阵位于所述透明基板上，且位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述透明基底和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第一绝缘层和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述屏蔽电极层和第二绝缘层之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第二绝缘层和所述显示结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间。
28.如权利要求20所述的显示面板，其特征在于，还包括:与所述透明基底相对的透明基板； 位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层； 位于所述透明基底背面的第一圆偏振片； 位于在所述透明基板背面的第二圆偏振片。
29.如权利要求28所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板为具有色阻和黑色矩阵的彩膜基板；所述透明基板上还具有黑色矩阵，位于相邻色阻之间。
30.一种显示面板，其特征在于，包括: 透明基底； 依次形成于所述透明基底上的电容式触摸结构、第一绝缘层、IPS/FFS显示模式的显示结构；其中，所述IPS/FFS显示模式的显示结构包括:依次形成于所述第一绝缘层上的公共电极、第二绝缘层；位于所述第二绝缘层上的TFT开关、扫描线和数据线；覆盖所述TFT开关、数据线和扫描线的钝化层；位于所述钝化层上的像素电极，所述像素电极为条形电极。
31.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于，所述公共电极为透明导电材料，所述第一绝缘层和第二绝缘层的材料均为透明绝缘材料。
32.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于，所述公共电极平铺所述钝化层，或者所述公共电极具有缝隙，该缝隙与所述像素电极之间的缝隙相对。
33.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于， 所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极； 覆盖所述感应电极和所述透明基底的介质层； 位于所述介质层 上的多条平行排列的驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列； 或者，所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极； 覆盖所述驱动电极和所述透明基底的介质层； 位于所述介质层上的多条平行排列的感应电极，所述感应电极和所述驱动电极相互交叉排列。
34.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于， 所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的感应电极、与所述感应电极交叉的多条平行排列的驱动电极，每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔成多段； 覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔； 位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述驱动电极被所述多条感应电极间隔开的多段电连接在一起； 或者，所述电容式触摸结构包括: 位于所述透明基底上的多条平行排列的驱动电极、与所述驱动电极交叉的多条平行排列的感应电极，每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔成多段； 覆盖所述感应电极、驱动电极和透明基底的介质层，所述介质层具有过孔； 位于所述介质层上的互连线，所述互连线将每条所述感应电极被所述多条驱动电极间隔开的多段电连接在一起。
35.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于，还包括:与透明基底相对的透明基板； 位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层； 位于所述透明基底背面的第一线偏振片； 位于在所述透明基板背面的第二线偏振片。
36.如权利要求35所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板为具有色阻的彩膜基板； 还包括:黑色矩阵，所述黑色矩阵位于所述彩膜透明基板上，且位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述透明基底和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第一绝缘层和触摸结构之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述公共电极和第二绝缘层之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间；或者，所述黑色矩阵位于所述第二绝缘层和所述TFT开关、数据线、扫描线之间，且在平行透明基板方向上位于相邻色阻之间。
37.如权利要求30所述的显示面板，其特征在于，还包括:与所述透明基底相对的透明基板； 位于所述透明基板和所述透明基底之间的液晶层； 位于所述透明基底背面的第一圆偏振片； 位于在所述透明基板背面的第二圆偏振片。
38.如权利要求37所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板为具有色阻和黑色矩阵的彩膜基板；所述透明基板上还具有黑色矩阵，位于相邻色阻之间。
39.一种液晶显示装置，其特征在于，包括: 如权利要求20 38任一项所述的显示面板； 位于所述透明基板 一侧的背光源。
全文摘要
一种显示面板及其形成方法、液晶显示装置，显示面板包括透明基底；依次形成于所述透明基底上的电容式触摸结构、第一绝缘层、屏蔽电极层和第二绝缘层；位于所述第二绝缘层上的IPS/FFS显示模式的显示结构。本技术方案的显示面板，由于触摸结构和IPS/FFS显示模式的显示结构位于同一张透明基底上，为内嵌式触摸结构，相对于外挂式触控面板省去一张透明基底，使得最终LCD成品的厚度变薄，而减轻终端产品的重量。
文档编号G02F1/1368GK103163671SQ20111041883
公开日2013年6月19日 申请日期2011年12月14日 优先权日2011年12月14日
发明者马骏, 陈浩 申请人:上海天马微电子有限公司