专利名称：一种光学保护膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种薄膜，具体涉及一种光学保护膜，属于包装材料技术领域。
背景技术：
棱镜片等光学元件因其特殊的光学性能被越来越广泛的应用于显微镜、望远镜、 医疗器械等精密光学仪器中。目前，在对精密制品进行加工、搬运等时，为了避免对这些精密制品带来损伤等，都是采用临时粘贴表面保护膜的方式来实现被粘体的表面保护。一直以来，表面保护大多采用在基材膜的表面上设有粘合剂的粘合膜。但是往往由于光学元件的表面存在数十微米的凹凸，因此与其他被粘体相比，与粘合层的接触面积非常小，很难稳定地粘贴于棱镜表面，或者会因粘合力太强而不能从被粘物上顺畅剥离，出现在分离保护膜时留下残膜与残胶的现象，一定程度上影响棱镜的使用和光学上的精度。此外，膜抗震性能对所保护的制品也有巨大的影响，也是目前保护膜设计生产中急需解决的问题之一。因此，有必要设计制造出一种能与光学元件的充分粘合和充分剥离的光学保护膜。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服技术的不足，设计一种保护性能优异、剥离顺畅且能保持棱镜片表面清洁、可回收的光学保护膜。为了实现上述目的，本发明的技术方案是提供一种光学保护膜，包括粘合层、基材层和离型层，所述的粘合层和离型层分别分布在基材层的两侧，其特征在于，所述基材层与粘合层或基材层与离型层接触的基材层表面设置有纳米级曲面凹槽。为了生产过程操作简单，且便于层间形成小型气囊提高保护膜抗震性能，纳米级曲面凹槽呈阵列式或随机排列，排列密度不限；纳米级曲面凹槽为半球形，半球半径为 Inm IOOnm0为了使该光学保护膜包覆更稳定，粘合层为聚异戊二烯类橡胶，聚烯烃塑性体树脂、丙烯酸类、甲基丙烯酸类(亚克力)和改性甲基丙烯酸类中的至少一种。为了使保护膜材料的机械性能良好，基材层为低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、流延聚丙烯、茂金属聚乙烯和嵌段聚丙烯中的至少一种。为了保证该光学保护膜优异的剥离性，离型层为有机硅、长链碳氢类丙烯酸和聚氨酯类中的至少一种。本实用新型的优点和有益效果在于在保护膜中基材层上引入纳米级凹槽，能增大接触面积，增强层间的粘合力，而且间接节约粘合层或离型层材料，节约成本。层间贴合时形成的小型气囊能提高保护膜的抗震性能；粘合层具有比较高的表面能，能够很好的粘附在制品表面，能很好的起到保护作用；离型层采用有机硅离型剂、长链碳氢类丙烯酸离型剂或聚氨酯类中的一种或多种，可以在揭开时不会有残留，不会对精密棱镜图案造成不利影响，保证充分的剥离性。此外，该保护膜材料可以回收利用。
图1是本实用新型光学保护膜的纵剖面结构示意图；图2是本实用新型光学保护膜的另一纵剖面结构示意图；图3是本实用新型光学保护膜基材层的立体示意图；图4是本实用新型光学保护膜基材层的另一立体示意图。图中1、离型层；2、基材层；3、粘合层；4、纳米级微型凹槽。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。实施例1参见图1，在共挤流延挤出机上将有机硅离型剂、低密度聚乙烯与聚烯烃塑性体树脂进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在基材层2与粘合层3接触的基材层2表面压出阵列排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为lnm。实施例2参见图1，在共挤流延挤出机将聚氨酯类离型剂、嵌段聚丙烯与聚烯烃塑性体树脂进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在基材层2与粘合层3接触的基材层 2表面压出阵列排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为50nm。实施例3参见图1，在共挤流延挤出机上将长链碳氢类丙烯酸、茂金属聚乙烯与聚异戊二烯类橡胶进行共挤出成型，其中，在共挤流延挤出机上挤出时，在基材层2与离型层1接触的基材层2表面压出随机排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为lOOnm。实施例4参见图2，将有机硅离型剂、嵌段聚丙烯与改性甲基丙烯酸类进行依次热熔涂布成型，其中，当有机硅离型剂在流延挤出机上挤出时，在基材层2与离型层1接触的基材层2 表面压出阵列排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为lnm。实施例5参见图2，将聚氨酯类离型剂、嵌段聚丙烯与聚烯烃塑性体树脂进行依次热熔涂布成型，其中，当有机硅离型剂在流延挤出机上挤出时，在基材层2与离型层1接触的基材层 2表面压出随机排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为50nm。实施例6参见图2，将长链碳氢类丙烯酸、茂金属聚乙烯与聚异戊二烯类橡胶进行依次热熔涂布成型，其中，当有机硅离型剂在流延挤出机上挤出时，在基材层2与离型层1接触的基材层2表面压出随机排列的纳米级半球形凹槽4，半球直径为lOOnm。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种光学保护膜，包括粘合层、基材层和离型层，所述粘合层和离型层分别分布在基材层的两侧，其特征在于，所述基材层与粘合层或基材层与离型层接触的基材层表面设置有纳米级曲面凹槽。
2.如权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述纳米级曲面凹槽呈阵列式或随机排列，排列密度不限；所述曲面凹槽为半球形，所述半球半径为Inm lOOnm。
专利摘要本实用新型公开了一种光学保护膜，包括粘合层、基材层和离型层，粘合层和离型层分别分布在基材层的两侧，基材层与粘合层或基材层与离型层接触的基材层表面具有纳米级曲面凹槽，纳米级曲面凹槽呈阵列式或随机排列，排列密度不限。该保护膜层间粘合力大，抗震性能强，保护性和剥离性好，能对棱镜片等制品起到有效地保护作用，可回收利用，制备方法操作简单、成本较低。
文档编号G02B1/10GK202189159SQ20112023088
公开日2012年4月11日 申请日期2011年7月4日 优先权日2011年7月4日
发明者周永南 申请人:江阴市通利包装材料有限公司