专利名称：树脂图案、图案基板、薄膜晶体管基板、层间绝缘膜及显示装置的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种使用微透镜阵列曝光机用组成物的树脂图案的制造方法。尤其涉及一种用以制造薄膜晶体管(Thin Film Transistor, TFT)基板的树脂图案的制造方法。
背景技术：
近年来，由于智能手机的普及，正掀起面板高精细化的浪潮。高精细化可通过如下方式来应对，即在基板上涂布例如专利文献I (日本专利特开2004-264623号公报)或专利文献2(日本专利特开平5-165214号公报)中所记载的层间绝缘膜形成用感光性树脂组成物、或者专利文献3(日本专利特开平9-325473号公报)中所记载的抗蚀阻剂用感光性树脂组成物，然后使用利用成像透镜将光罩的像缩小投影后进行曝光的步进式曝光装置，但当对例如Im见方以上的大面积的基板进行曝光时，存在所使用的透镜口径对应于基板的大小而变大且价格变高这一问题。针对该问题，记述有通过使用专利文献4(日本专利特开2011-118155号公报)中所记载的微透镜阵列(Micro IensArray, MLA)曝光装置,而能够以高解析度制作大面积的被曝光体中的非周期性的图案。
但是，本申请案发明者进行研究的结果，可知当利用MLA曝光装置进行曝光时，存在因用于图案形成的组成物的种类，而无法制造感度及解析度优异的树脂图案的情况。发明内容
本申请案发明是以解决该MLA曝光特有的问题为目的的发明，其提供一种感度及解析度优异的树脂图案的制造方法。
基于所述课题，发明者进行研究的结果，可知若使用含有特定的组成的组成物，则即便进行MLA曝光，也可以形成残渣不残留在孔内或曝光线间、且感度及解析度也优异的图案。尤其，当利用从先前以来广泛使用的镜面投影对准(Mirror Projection Aligner,MPA)曝光装置进行曝光时，即便使用本发明中所使用的组成物，也存在残渣显著的情况，但令人吃惊的是若使用MLA曝光装置，则残渣显著消失。
具体而言，通过下述手段[I]，优选通过[2] [18]来解决所述课题。
[I] 一种树脂图案的制造方法，其特征在于包括:⑴将含有㈧碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂、(B)肟磺酸酯系光酸产生剂、及(C)溶剂的组成物涂布在基板上的步骤；(2)从所涂布的所述组成物中去除所述溶剂的步骤；(3)利用微透镜阵列曝光机对所述组成物照射光化射线来进行曝光的步骤；以及(4)利用水性显影液进行显影的步骤。
[2]根据[I]所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述㈧碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂包含聚合物，该聚合物含有源自具有由酸分解性基保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的单体的结构单元(al)。
[3]根据[I]或[2]所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述源自具有由酸分解性基保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的单体的结构单元(al)为源自具有由缩醛保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由缩醛保护的保护酚性羟基的单体的结构单元。
[4]根据[I]至[3]中任一项所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的结构单元、及/或由下述通式(V)所表示的结构单元。[001权利要求
1.一种树脂图案的制造方法，其特征在于包括: (1)将含有(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂、(B)肟磺酸酯系光酸产生剂、及(C)溶剂的组成物涂布在基板上的步骤； (2)从所涂布的所述组成物中去除所述溶剂的步骤； (3)利用微透镜阵列曝光机对所述组成物照射光化射线来进行曝光的步骤；以及 (4)利用水性显影液进行显影的步骤。
2.根据权利要求1所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂包含聚合物，该聚合物含有源自具有由酸分解性基保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的单体的结构单元(al)。
3.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述源自具有由酸分解性基保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由酸分解性基保护的保护酚性羟基的单体的结构单元(al)为源自具有由缩醛保护的保护羧基的单体的结构单元、及/或源自具有由缩醛保护的保护酚性羟基的单体的结构单元。
4.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的结构单元、及/或由下述通式(V)所表示的结构单元，
5.根据权利要求3所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂具有由下述通式(al-Ι)所表示的结构单元、及/或由下述通式(V)所表示的结构单元，
6.根据权利要求2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂含有源自具有交联基的单体的结构单元(a2)。
7.根据权利要求3所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂含有源自具有交联基的单体的结构单元(a2)。
8.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂包含聚合物，该聚合物含有由下述通式(al-Ι)所表示的结构单元、及源自具有交联基的单体的结构单元(a2)，
9.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:还包括(D)碱性化合物。
10.根据权利要求9所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述(D)碱性化合物为由下述通式(a)所表示的化合物， 通式(a)
11.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述⑶肟磺酸酯系光酸产生剂为由下述通式(B2)或通式(B3)所表示的肟磺酸酯系光酸产生剂， 通式(B2)
12.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述组成物为层间绝缘膜用组成物。
13.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述组成物为抗蚀阻剂用组成物。
14.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:所述组成物还包括增感剂、环氧树脂、密接改良剂、碱性化合物及界面活性剂的至少I种。
15.根据权利要求1或2所述的树脂图案的制造方法，其特征在于:在所述⑷利用水性显影液进行显影的步骤之后，还包括进行后烘烤的步骤。
16.一种图案基板的制造方法，其特征在于:包括根据权利要求1至14中任一项所述的树脂图案的制造方法，且在所述(4)利用水性显影液进行显影的步骤之后，包括: (5)将所形成的树脂图案作为遮罩来对所述基板进行蚀刻的步骤、以及 (6)将所述树脂图案剥离的步骤。
17.根据权利要求16所述的图案基板的制造方法，其特征在于:所述(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂具有由所述通式(V)所表示的结构单元作为重复单元。
18.一种层间绝缘膜的制造方法，其特征在于:包括根据权利要求1至15中任一项所述的树脂图案的制造方法。
19.一种薄膜晶体管基板的制造方法，其特征在于:包括根据权利要求1至15中任一项所述的树脂图案的制造方法、根据权利要求16或17所述的图案基板的制造方法、或者根据权利要求18所述的层间绝缘膜的制造方法。
20.一种显示装置的制造方法，其特征在于:包括根据权利要求1至15中任一项所述的树脂图案的制造方法、根据权利要求16或17所述的图案基板的制造方法、或者根据权利要求18所述的 层间绝缘膜的制造方法。
全文摘要
本发明提供一种使用感度及解析度优异的微透镜阵列曝光机用组成物的树脂图案的制造方法。一种树脂图案的制造方法，其包括(1)将含有(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂、(B)肟磺酸酯系光酸产生剂、及(C)溶剂的组成物涂布在基板上的步骤；(2)从所涂布的所述组成物中去除所述溶剂的步骤；(3)利用微透镜阵列曝光机对所述组成物照射光化射线来进行曝光的步骤；以及(4)利用水性显影液进行显影的步骤。
文档编号G03F7/004GK103149795SQ20121051766
公开日2013年6月12日 申请日期2012年12月5日 优先权日2011年12月6日
发明者藤本进二, 中村秀之, 安藤豪 申请人:富士胶片株式会社