反射膜及其制造方法和显示面板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种反射膜及其制造方法和显示面板，该反射膜包括：反射层和形成于反射层的上方的棱镜层，棱镜层折射率大于反射层的折射率，所述棱镜层包括：基底和位于基底上方的棱结构，本发明提供的反射膜对光线的吸收能力较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
【专利说明】反射膜及其制造方法和显示面板
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，特别涉及一种反射膜及其制造方法
[0002]和显示面板。
【背景技术】
[0003]显示面板一般由彩膜基板和阵列基板对盒形成，彩膜基板和阵列基板之间的空间中封装有液晶层；由于液晶分子自身不发光，所以显示面板需要光源以便显示图像，根据采用光源类型的不同，液晶显示面板可分为透射式(Transmissive)液晶显示面板、反射式(Reflective)液晶显示面板和透反式(Transflective)显示面板。其中，透反式液晶显示面板也称半透半反式液晶显示面板。
[0004]图1为现有技术中透反式液晶显示面板中反射区和透射区内的结构示意图，如图1所示，在透反式液晶显示面板的反射区内形成有半盒厚填充层7，在该半盒厚填充层7上形成有反射膜8，当透反式液晶显示面板处于反射工作模式时，进入反射区的光线在反射膜的作用下两次经过反射区，从而实现像素显示。金属材料凭借其高反射率以及易加工性，成为现有技术中的反射膜的主要材料。
[0005]然而，金属材料具备较强的吸收光线的特点，且对于不同波长的光线的吸收率也不一样，使得难以对经过反射膜反射出的光线的亮度进行精确控制，进而导致显示面板中出现色偏的现象。
【发明内容】
[0006]本发明提供一种反射膜及其制造方法和显示面板，该反射膜对对光线的吸收能力较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
[0007]为实现上述目的，本发明提供一种反射膜，该反射膜包括:反射层和位于所述反射层上方的棱镜层，所述棱镜层折射率大于所述反射层的折射率，所述棱镜层包括:基底和位于基底上方的棱结构。
[0008]可选地，所述棱镜层的材料包括:金属氧化物。
[0009]可选地，还包括:入射层，所述入射层位于所述棱镜层的上方。
[0010]可选地，所述入射层的材料包括:树脂材料或氮化硅。
[0011 ] 可选地，所述入射层的材料与所述反射层的材料相同。
[0012]可选地，所述棱结构的倾斜面与所述反射层的表面呈设定角度A，所述设定角度A满足:
[0013]A>arcsin Oi1Ai2) +arcsin (n3/n2)
[0014]其中ηι为所述反射层的折射率，n2为所述棱镜层的折射率，n3为所述入射层的折射率。
[0015]为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板，包括上述的反射膜。
[0016]为实现上述目的，本发明还提供一种反射膜的制造方法，该方法包括:[0017]在衬底基板上形成反射层；
[0018]在所述反射层上形成棱镜层，所述棱镜层的折射率大于所述反射层的折射率，所述棱镜层包括:基底和位于基底上方的棱结构。
[0019]可选地，所述在所述反射层上形成棱镜层之后还包括:
[0020]在所述棱镜层上形成入射层。
[0021]可选地，所述在所述反射层上形成棱镜层的步骤包括:
[0022]在所述反射层上形成棱镜层材料；
[0023]对所述棱镜层材料进行刻蚀形成所述基底和所述棱结构。
[0024]本发明具有以下有益效果:
[0025]本发明提供一种反射膜及其制造方法和显示面板，该反射膜包括:反射层和形成于反射层的上方的棱镜层，棱镜层折射率大于反射层的折射率。本实施例中的反射膜对光线的吸收较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
【专利附图】
【附图说明】
[0026]图1为现有技术中透反式液晶显示面板中反射区和透射区内的结构示意图；
[0027]图2为本发明实施例一提供的反射膜的结构示意图；
[0028]图3为图2的截面图；
[0029]图4为光线在反射膜内进行反射的示意图；
[0030]图5为本发明实施例三提供的反射膜的制造方法的流程图；
[0031]图6为在衬底基板上形成反射层的示意图；
[0032]图7为在反射层上形成棱镜层材料的示意图；
[0033]图8为对棱镜层材料进行刻蚀形成基底和棱结构的示意图；
[0034]图9为在棱镜层上形成入射层的示意图。
【具体实施方式】
[0035]为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的反射膜及其制造方法和显示面板进行详细描述。
[0036]实施例一
[0037]图2为本发明实施例一提供的反射膜的结构示意图，图3为图2的截面图，如图2和图3所示，该反射膜包括:反射层I和位于反射层I的上方的棱镜层2，棱镜层2折射率大于反射层I的折射率。当外部光线入射至棱镜层2时，可在棱镜层2与反射层I之间的界面发生全反射，并最终从棱镜层2射出。
[0038]进一步地，棱镜层2包括:基底21和位于基底21上方的棱结构22。需要说明的是，本实施例中的基底21和棱结构22可分别独立形成，或将基底21和棱结构22 —体成型。
[0039]可选地，棱镜层2的材料为金属氧化物，金属氧化物拥有高折射率和高透过率，棱镜层2的高折射率可使得进入棱镜层2的光线在棱镜层2与反射层I之间的界面更容易发生全反射，而棱镜层2的高透过可减少棱镜层2对光线的吸收，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
[0040]可选地，还包括:入射层3，入射层3位于棱镜层2的上方。在棱镜层2上设置入射层3可有效保护棱镜层2免受污染，同时也方便该反射膜上方其他膜层的形成。
[0041]可选地，入射层3的材料包括:树脂材料或氮化硅。树脂材料和氮化硅均拥有低折射率和高透过率，入射层3的低折射率可使得射入至入射层3的光线更容易进一步的折射至棱镜层2内，而入射层3的高透过率可减少入射层3对光线的吸收。可选地，入射层3的材料与反射层I的材料相同。在本实施例中，反射层I的材料也可为具有低折射率和高透过率的树脂材料或氮化硅。
[0042]可选地，棱结构22的倾斜面与反射层I的表面呈设定角度A，设定角度A满足:ASarcsin(Ii1Ai2)+arcsin (n3/n2),其中Ii1为反射层I的折射率，n2为棱镜层2的折射率，n3为入射层3的折射率。
[0043]下面结合附图，对设定角度A的设计原理进行详细说明。
[0044]图4为光线在反射膜内进行反射的示意图，如图4所示，首先，为确保入射光线4在棱镜层2与反射层I之间的界面发生折射后不存在与反射层I的表面垂直的折射光线5，则应使得折射光线5对应的折射角度C应小于设定角度A。此时C=arcsin(sinB*n3/n2),当入射角度B等于90度时，折射角度C有最大值为C=arcsin (n3/n2)，同时折射角度C小于设定角度，因此 A>arcsin (n3/n2)(式 I)。
[0045]然后，为保证入射光线4能在棱镜层2与反射层I之间的界面发生全反射，则使得入射角度D应该大于临界角度 E,其中临界角度E=Brcsin(Ii1Ai2)。根据图中各角度之间的关系可以算出入射角度 D=A-C,又因为 C=arcsin (sinB*n3/n2),则 D=A_arcsin (sinB*n3/n2),当射角度B等于90度时，入射角度D有最小值为D=A-arcsin (n3/n2),有因为入射角度D大于临界角度 E，因此 A-arcsin (n3/n2) >arcsin (Ii1Ai2)，进而得出 A>arcsin (Ii1Ai2) +arcsin (n3/n2)(式 2)。
[0046]结合上述式I 和式 2 可得出，A>arcsin 0^/?) +arcsin (n3/n2)。
[0047]需要说明的是，当该反射膜中不存在入射层3时，则对应的n3=0，此时ASarcsinOVn2);当该反射膜中设置有入射层3时，则对应的1^=?,此时AUarcsinOi1/
η2) ο
[0048]本发明实施例一提供了一种反射膜，该反射膜包括:反射层和形成于反射层的上方的棱镜层，棱镜层折射率大于反射层的折射率。本实施例中的反射膜对光线的吸收能力较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
[0049]实施例二
[0050]本发明实施例二提供了一种显示面板，该显示面板包括:反射膜，该反射膜采用上述实施例一中提供的反射膜，具体可参见上述实施例一中的描述，此处不再赘述。
[0051]需要说明的是,本实施中的显示面板为透反式液晶显示面板。
[0052]本发明实施例二提供了一种显示面板，该显示面板包括反射膜，该反射膜包括:反射层和形成于反射层的上方的棱镜层，棱镜层折射率大于反射层的折射率。本实施例中的反射膜对光线的吸收较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
[0053]实施例三
[0054]图5为本发明实施例三提供的反射膜的制造方法的流程图，如图5所示，该方法包括:[0055]步骤101:在衬底基板上形成反射层；
[0056]图6为在衬底基板上形成反射层的示意图,如图6所示,在步骤101中，通过气相沉积技术在衬底基板7上沉积一层反射层材料，进而形成反射层I，反射层材料为拥有低折射率的材料，可选地，反射层材料为树脂材料或氮化硅。
[0057]步骤102:在反射层上形成棱镜层，棱镜层的折射率大于反射层的折射率，棱镜层包括:基底和位于基底上方的棱结构。
[0058]可选地，步骤102包括:
[0059]步骤1021:在反射层上形成棱镜层材料；
[0060]图7为在反射层上形成棱镜层材料的示意图，如图7所示，在步骤1021中，通过气相沉积技术在反射层I上沉积一层棱镜层材料20。可选地,反射层材料为金属氧化物，金属氧化物拥有高折射率和高透过率。
[0061 ] 步骤1022:对棱镜层材料进行刻蚀形成基底和棱结构。
[0062]图8为对棱镜层材料进行刻蚀形成基底和棱结构的示意图，如图8所示，在步骤1022中，通过对棱镜层材料20进行刻蚀形成基底21和棱结构22，更进一步地，在设定时间内对棱镜层材料进行等向性刻蚀，从而实现对棱结构22的倾斜面与反射层I的表面所呈的设定角度A的控制。
[0063]可选地，在步骤102之后还包括:
[0064]步骤103:在棱镜层上形成入射层。
[0065]图9为在棱镜层上形成入射层的示意图，如图9所示，在步骤103中，通过气相沉积技术在棱镜层2上沉积一层入射层材料，进而形成入射层3。其中入射层材料拥有低折射率和高透过率的材料，可选地，入射层材料为树脂材料或氮化硅。
[0066]本发明实施例三提供了一种反射膜的制造方法，通过该方法形成的反射膜包括:反射层和棱镜层，棱镜层位于反射层的上方，且棱镜层折射率大于反射层的折射率，该反射膜对光线的吸收能力较弱，可实现对光线的高效反射，从而有效避免显示面板中色偏问题的产生。
[0067]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种反射膜，其特征在于，包括:反射层和位于所述反射层上方的棱镜层，所述棱镜层折射率大于所述反射层的折射率，所述棱镜层包括:基底和位于基底上方的棱结构。
2.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述棱镜层的材料包括:金属氧化物。
3.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，还包括:入射层，所述入射层位于所述棱镜层的上方。
4.根据权利要求1所述的反射膜，其特征在于，所述反射层的材料包括:树脂材料或氮化硅。
5.根据权利要求4所述的反射膜，其特征在于，所述入射层的材料与所述反射层的材料相同。
6.根据权利要求3所述的反射膜，其特征在于，所述棱结构的倾斜面与所述反射层的表面呈设定角度A，所述设定角度A满足:
A>arcsin (Ii1Ai2) +arcsin (n3/n2) 其中Ii1为所述反射层的折射率，n2为所述棱镜层的折射率，n3为所述入射层的折射率。
7.—种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至6中任一所述的反射膜。
8.一种反射膜的制造方法，其特征在于，包括: 在衬底基板上形成反射层； 在所述反射层上形成棱镜层，所述棱镜层的折射率大于所述反射层的折射率，所述棱镜层包括:基底和位于基底上方的棱结构。
9.根据权利要求8所述的反射膜的制造方法，其特征在于，所述在所述反射层上形成棱镜层之后还包括: 在所述棱镜层上形成入射层。
10.根据权利要求8所述的反射膜的制造方法，其特征在于，所述在所述反射层上形成棱镜层的步骤包括: 在所述反射层上形成棱镜层材料； 对所述棱镜层材料进行刻蚀形成所述基底和所述棱结构。
【文档编号】G02B1/00GK103926744SQ201410128442
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2014年4月1日 优先权日:2014年4月1日
【发明者】王振伟, 朱红, 方业周 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司