吸振装置及吸振方法、光刻机系统与流程

技术特征：

1.一种吸振装置，其特征在于，包括采用具有导磁性的硅钢制作的壳体(203)，所述壳体(203)内设置有相互贯通的第一腔室(203a)和第二腔室(203b)，所述第一腔室(203a)内设置有磁流变弹性体(207)，还包括贯穿于所述磁流变弹性体(207)、第二腔室(203b)、壳体(203)的具有导磁性的铁芯(205)，所述铁芯(205)的两端露出于所述壳体(203)之外，位于所述第二腔室(203b)的铁芯(205)缠绕有励磁线圈(204)。

2.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，所述壳体(203)的外围至少部分设置有隔绝磁性的隔离套(202)，所述铁芯(205)的两端露出于所述隔离套(202)之外。

3.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，露出于所述壳体(203)之外的铁芯(205)的其中一端固定设置有连接件(201)。

4.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，远离所述连接件(201)的铁芯(205)的一端与所述壳体(203)之间设置有线性轴承(206)或钢圈(210)。

5.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，远离所述连接件(201)的铁芯(205)的一端穿射于所述壳体(203)的通孔(211)。

6.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，远离所述连接件(201)的铁芯(205)的一端与所述壳体(203)之间也设置有磁流变弹性体(207)。

7.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，所述第一腔室(203a)的端面与所述壳体(203)的端面不相通。

8.如权利要求1所述的吸振装置，其特征在于，还包括传感器(208)，以获取振动体的振动信号，所述传感器(208)连接于控制器(209)，所述控制器(209)将所述吸振装置的吸振信号与所述振动信号对比，当所述振动信号与所述吸振信号不一致时，输出控制信号给所述励磁线圈(204)，以通过励磁线圈(204)的电流的大小控制所述磁流变弹性体(207)的刚度变强或变弱，直至 所述吸振装置的振动频率与振动体的振动频率相一致。

9.如权利要求8所述的吸振装置，其特征在于，所述传感器(208)为加速度传感器，用于采集振动体的加速度信号。

10.一种吸振方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，将如权利要求1至9中任一项的吸振装置(200)固定设置在振动体上，采用传感器(208)检测所述振动体是否产生振动信号，若振动体产生振动信号，采用控制器(209)控制所述吸振装置(200)；

步骤S2，传感器(208)将拾取振动体的振动信号传输给控制器(209)，控制器(209)辨别振动体的主频率；

步骤S3，控制器(209)判断所述吸振装置(200)的吸振频率与所述振动体的振动频率是否一致；当频率一致时，不改变励磁线圈(204)的电流大小，吸振装置(200)吸振；当频率不一致时，控制器(209)输出控制信号给所述励磁线圈(204)，以通过励磁线圈(204)的电流的大小控制所述磁流变弹性体(207)的刚度变强或变弱，直至所述吸振装置(200)的振动频率与振动体的振动频率相一致。

11.如权利要求10所述的吸振方法，其特征在于，当振动体的振动频率大于吸振装置(200)吸振频率时，增大励磁线圈(204)的电流，以通过提高磁场强度使磁流变弹性体(207)的刚度变强，以使吸振装置(200)的吸振频率增大；当振动体的振动频率小于吸振装置(200)的吸振频率时，减小励磁线圈(204)的电流，以通过降低磁场强度使磁流变弹性体(207)的刚度变弱，以使吸振装置(200)的吸振频率减小。

12.如权利要求10所述的吸振方法，其特征在于，所述吸振装置(200)的吸振频率为其中，K_t表示磁流变弹性体(207)的总刚度，m表示可动部件的总质量；所述其中，G表示磁场强度引起磁流变弹性体 (207)的剪切模量，A表示磁流变弹性体的剪切截面积，h表示磁流变弹性体的厚度，所述G＝G₀+ΔG，其中，G₀表示无磁剪切模量，ΔG表示随磁场强度变化的可变剪切模量。

13.如权利要求12所述的吸振方法，其特征在于，所述可动部件包括壳体(203)、磁流变弹性体(207)以及隔离套(202)和线性轴承(206)的一种或几种的组合，或者隔离套(202)和钢圈(210)的一种或几种的组合。

14.一种光刻机系统，包括主基板(304)，所述主基板(304)通过基础框架(302)设置于地基(301)上，所述主基板(304)与基础框架(302)之间还设置有一级减振器(303)，所述主基板(304)上设置有光刻投影物镜(307)，所述光刻投影物镜(307)靠近所述主基板(304)的侧壁上固定设置有法兰(305)，其特征在于，所述法兰(305)与主基板(304)之间设置有二级减振器(306)，所述光刻投影物镜(307)上设置有如权利要求1至9中任一项所述的吸振装置(200)。

15.如权利要求14所述的光刻机系统，其特征在于，所述光刻投影物镜(307)为长筒形状，所述吸振装置(200)设置于所述光刻投影物镜(307)的顶端和/或底端的侧壁上。

16.如权利要求15所述的光刻机系统，其特征在于，当所述光刻投影物镜(307)为一个方向振动时，采用两个吸振装置(200)对称分布设置。

17.如权利要求15所述的光刻机系统，其特征在于，当所述光刻投影物镜(307)为两个方向振动时，在每个振动方向至少设置有一个所述吸振装置(200)。

18.如权利要求14所述的光刻机系统，其特征在于，所述光刻投影物镜(307)为卧式结构，所述吸振装置(200)为多个，分布在所述卧式结构的光刻投影物镜(307)的中心线上。

19.如权利要求14所述的光刻机系统，其特征在于，所述主基板(305) 的下平面的边角位置带有四个支脚，每个所述主基板(305)的上平面的边角位置对应设置有一个所述吸振装置(200)。

20.如权利要求14所述的光刻机系统，其特征在于，所述一级减振器(303)和二级减振器(306)均为阻尼器、柔性块、弹簧中的一种或几种的组合。