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一种用于光刻设备的控制架构的制作方法
文档序号:12593785
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来源:国知局
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一种用于光刻设备的控制架构的制作方法与工艺
技术总结
本发明公开一种用于光刻设备的控制架构,包括:一总控制层,该总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯,该分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。
技术研发人员:
李文彬
受保护的技术使用者:
上海微电子装备有限公司
文档号码:
201510387060
技术研发日:
2015.07.06
技术公布日:
2017.01.11
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