一种用于光刻设备的控制架构的制作方法

文档序号:12593785阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开一种用于光刻设备的控制架构,包括:一总控制层,该总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯,该分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。

技术研发人员:李文彬
受保护的技术使用者:上海微电子装备有限公司
文档号码:201510387060
技术研发日:2015.07.06
技术公布日:2017.01.11

当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1