技术特征：
技术总结
本发明公开了一种光刻机同步控制系统及方法，所述光刻机同步控制系统包括干涉仪分系统和外部分系统，所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡，所述同步控制卡通过外同步通道与所述外部分系统连接，所述多通道光纤卡通过光纤通道与所述外部分系统连接。本发明提供的技术方案，通过将干涉仪分系统和工件台掩模台分系统的硬件解耦，使干涉仪分系统的同步控制卡可以连接更多的测量轴和外部分系统，增加了干涉仪分系统以及工件台掩模台分系统的扩展性。通过提供格式和接口标准统一的外同步通道，实现外部分系统的扩展，提高了同步控制系统的通用性。
技术研发人员：方欣
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
技术研发日：2015.12.30
技术公布日：2017.07.07