1.一种光模块，其特征在于，所述光模块包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的光波导层、第一光栅、第二光栅和有源层，
其中，所述有源层用于发出沿平行于所述有源层的长度方向传播的激光，所述第一光栅用于将所述激光的传播方向改变为垂直于所述第一光栅且朝向所述第二光栅的方向，所述第二光栅用于将射入所述第二光栅的激光的传播方向改变为平行于所述第二光栅的方向，且通过所述第二光栅的光能够射入所述光波导层。
2.根据权利要求1所述的光模块，其特征在于，所述第一光栅和所述第二光栅均设置在所述光波导层和所述有源层之间，且所述第一光栅靠近所述有源层设置，所述第二光栅靠近所述光波导层设置。
3.根据权利要求1或2所述的光模块，其特征在于，所述第一光栅包括：2个预设一阶光栅和1个预设二阶光栅，
所述2个预设一阶光栅分别位于所述预设二阶光栅的两侧。
4.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，所述第二光栅包括辅助一阶光栅和辅助二阶光栅，
所述辅助一阶光栅的位置与所述2个预设一阶光栅中的任一预设一阶光栅的位置相对应，所述辅助二阶光栅的位置与所述预设二阶光栅的位置相对应。
5.根据权利要求4所述的光模块，其特征在于，所述光模块还包括：设置在所述衬底基板与所述光波导层之间的氧化层，
所述氧化层包括：依次设置在所述衬底基板上的第一埋氧层、反射层和第二埋氧层。
6.根据权利要求5所述的光模块，其特征在于，所述反射层为分布式布拉格反射镜DBR，
所述DBR包括依次设置在所述第一埋氧层上的n个二氧化硅层和n个硅层，所述n为大于或等于1的整数。
7.根据权利要求3所述的光模块，其特征在于，所述光模块还包括：设置在所述有源层远离所述第二光栅一侧的缓冲层，所述缓冲层远离所述有源层的表面设置有凸起，且所述凸起的位置与所述第一光栅中预设二阶光栅的位置相对应。
8.根据权利要求6所述的光模块，其特征在于，所述激光在所述第一光栅中的波长为预设波长，所述激光在所述DBR中的波长为辅助波长，
所述预设二阶光栅与每个所述预设一阶光栅的接缝相位为八分之三的所述预设波长，所述预设二阶光栅的中间相移为四分之一的所述预设波长；每个所述硅层以及所述二氧化硅层的厚度均为四分之一的所述辅助波长。
9.一种光模块的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1至8任一所述的光模块，所述方法包括：
在衬底基板上形成光波导层、第一光栅、第二光栅和有源层；
其中，所述有源层用于发出沿平行于所述有源层的长度方向传播的激光，所述第一光栅用于将所述激光的传播方向改变为垂直于所述第一光栅且朝向所述第二光栅的方向，射入所述第二光栅的激光能够在所述光波导层中传播，且所述第二光栅用于将射入所述第二光栅的激光的传播方向改变为平行于所述第二光栅的方向，且通过所述第二光栅的光能够射入所述光波导层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，
所述第一光栅和所述第二光栅设置在所述光波导层和所述有源层之间，且所述第一光栅靠近所述有源层设置，所述第二光栅靠近所述光波导层设置；
所述第一光栅包括2个预设一阶光栅和1个预设二阶光栅，所述第二光栅包括辅助一阶光栅和辅助二阶光栅，所述2个预设一阶光栅分别位于所述预设二阶光栅的两侧；所述辅助一阶光栅的位置与所述2个预设一阶光栅中的任一预设一阶光栅的位置相对应，所述辅助二阶光栅的位置与所述预设二阶光栅的位置相对应。