液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备的制作方法

本发明涉及一种改善液晶显示面板色偏的设计方法，特别是涉及一种液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备。

背景技术：

液晶显示面板通常是由一彩膜基板(Color Filter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer，LC Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。按照液晶的取向方式不同，目前主流市场上的液晶显示面板可以分为以下几种类型：垂直配向(Vertical Alignment，VA)型、扭曲向列(Twisted Nematic，TN)或超扭曲向列(Super Twisted Nematic，STN)型、平面转换(In-Plane Switching，IPS)型及边缘场开关(Fringe Field Switching，FFS)型。

所述垂直配向型(Vertical Alignment，VA)模式的液晶显示，例如图形垂直配向型(Patterned Vertical Alignment，PVA)液晶显示器或多区域垂直配向型(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)液晶显示设备，其中PVA型利用边缘场效应与补偿板达到广视角的效果。MVA型将一个画素分成多个区域，并使用突起物(Protrusion)或特定图案结构，使位于不同区域的液晶分子朝向不同方向倾倒，以达到广视角且提升穿透率的目的。

在IPS模式或FFS模式中，通过施加含有基本平行于基板的分量的电场，使液晶分子在平行于基板平面的方向相应而驱动液晶分子。IPS型液晶显示面板和FFS型液晶显示面板，二者具有广视角的优点。但由于蓝光的波长较短，与红光和绿光相比，达到相同穿透率(Transmittance)所需的相位差(Retardation)较小，红光、绿光和蓝光的穿透率-电压(V-T)曲线不同；而且，红光、绿光和蓝光在面板中的聚酰亚胺(PI)膜、平坦化层(PFA)、涂覆层(OC)等膜面的穿透率不同，也会导致出现色偏问题。

MVA模式目前主流多是采用将画素区分为亮区与暗区，因此光学表现上可以由两种V-T特性混合，另外在适当调整亮暗区面积比例，在大视角时可有效压制中灰阶泛白的问题。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本发明的目的在于，提供一种改善色偏的设计方法，特别是涉及一种液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备，不仅可以有效解决色偏问题，同时可有效提升画素设计开口率。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种液晶显示面板的画素结构，其特征在于，包括：多个画素单元，所述画素单元包括至少一透光区，其依据不同光程差并依特定面积比例区分画素透光区效果。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

本发明的另一目的为一种液晶显示面板，包括：第一基板；第二基板，与所述第一基板相对设置；液晶层，设置于所述第一基板与所述第二基板之间；且还包括所述的液晶显示面板的画素结构，设置于所述第一基板或所述第二基板上。且更包括第一偏光片设置于所述第一基板的一外表面上；以及第二偏光片设置于所述第二基板的一外表面上，其中所述第一偏光片与所述第二偏光片的偏振方向为互相平行。

本发明的再一目的为提供一种显示装置，包括背光模块，其特征在于：还包括所述的液晶显示面板。

在本发明的一实施例中，所述画素单元，利用不同相位差因素，可将画素单元等效区分为至少12区域。

在本发明的一实施例中，所述画素单元，利用一保护层不同梯度地形因素，可将画素单元等效区分为至少12区域。

在本发明的一实施例中，通过一半调式工艺过程改变所述保护层蚀刻工艺。

在本发明的一实施例中，一第一透光区由四个主透光区域所组成，一第二透光区由四个次透光区域所组成及一第三透光区由四个次二透光区域所组成。

在本发明的一实施例中，所述12区域分为3种不同梯度地形深度，其依所述3种不同梯度地形深度将画素结构分为内层为菱形，中层为菱形及外层为三角形，并将画素电极覆盖其上且保留狭缝设计。

在本发明的一实施例中，所述12区域分为3种不同梯度地形深度，其依所述3种不同梯度地形深度将画素结构分为内层，中层及外层都为矩形，并将画素电极覆盖其上且保留狭缝设计。

在本发明的一实施例中，更包括一薄膜晶体管，用以驱动整个画素单元。

本发明的有益效果是可有效解决液晶显示面板色偏问题及改善大视角泛白问题。

附图说明

图1a是本发明一实施例的垂直配向型液晶显示设备在0度视角、45度视角及60度视角的情形下，色偏角度所对应的穿透率-灰阶值曲线。

图1b是本发明一实施例的混合两种改善色偏角度所对应的亮度-灰阶曲线。

图2是本发明一实施例的混合低色偏区域模型。

图3是本发明一实施例的液晶显示面板示意图。

图3a是本发明一实施例的液晶显示面板的画素结构的12画素区域示意图。

图3b是本发明一实施例的液晶显示面板的画素结构的3种液晶层的光程差。

图4a是本发明一实施例利用穿透率-电压曲线解释3种GAMMA曲线。

图4b是本发明一实施例利用穿透率-灰阶值解释3种GAMMA曲线。

图5是本发明一实施例通过半调式(Half Tone)工艺过程制造具有梯度形貌的画素结构示意图。

图6是本发明一实施例的由3种光程差所形成的12区域示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

附图和说明被认为在本质上是示出性的，而不是限制性的。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。另外，为了理解和便于描述，附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本发明不限于此。

在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中，为了理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。将理解的是，当例如层、膜、区域或基底的组件被称作“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接在所述另一组件上，或者也可以存在中间组件。

另外，在说明书中，除非明确地描述为相反的，否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件，但是不排除任何其它组件。此外，在说明书中，“在......上”意指位于目标组件上方或者下方，而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

本发明的液晶显示设备可包括背光模块及液晶显示面板。液晶显示面板可包括薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板、彩色滤光片(Color Filter，CF)基板与形成于两基板之间的液晶层。

在一实施例中，本发明的液晶显示面板可为曲面型显示面板，且本发明的液晶显示设备也可为曲面型显示装置。

在一实施例中，本发明的薄膜晶体管(TFT)或其他主动开关及彩色滤光片(CF)可形成于同一基板上。

图1a为垂直配向型液晶显示设备在0度视角、45度视角及60度视角的情形下，色偏角度所对应的穿透率-灰阶值曲线。请参照图1a，在0度色偏视角所对应的穿透率-灰阶值曲线110、在45度色偏视角所对应的穿透率-灰阶值曲线120及在60度色偏视角所对应的穿透率-灰阶值曲线130。因此随着色偏视角角度越高，在同一个灰阶值中，亮度穿透率就越高。

图1b为混合两种改善色偏角度所对应的亮度-灰阶曲线。请参照图1b，在MVA模式中，可采用将画素区分为亮区与暗区，因此光学表现上可以由两种V-T特性混合，另外在适当调整亮暗区面积比例，所以在大视角时可有效压制中灰阶泛白的问题。而在亮区画素140与暗区画素150，彼此在亮度-灰阶图式中混合调整成画素160。

图2为混合低色偏区域模型。请参照图2，常见的低色偏(Low Color Shift)技术主要原理是将传统4区域利用分压或额外驱动方式再切割为8区域。因此在大视角观看下会有多范畴补偿的效果。如子低色偏区域210及主低色偏区域220相混合成低色偏区域200。

图3为本发明一实施例的液晶显示面板30示意图及图3a为本发明一实施例的液晶显示面板的画素结构的12画素区域示意图。请参照图3及图3a，在本发明的一实施例中，所述液晶显示面板30包括：第一基板301(例如薄膜晶体管基板)；第二基板302(例如彩色滤光片基板)，与所述第一基板301相对设置；液晶层303，设置于所述第一基板301与所述第二基板302之间；且还包括所述改善色偏的画素结构，设置于所述第一基板与所述第二基板之间(例如位于所述第一基板的表面)，并包括：多个画素单元300，所述画素单元300由第一透光区310，第二透光区320及第三透光区330，三个区域所组成，其依据不同光程差并依特定面积比例区分画素透光区效果，并设置于所述第一基板301与所述第二基板302之间。且更包括第一偏光片306设置于所述第一基板301的一外表面上；以及第二偏光片307设置于所述第二基板302的一外表面上，其中所述第一偏光片306与所述第二偏光片307的偏振方向为互相平行。

在本发明一实施例中，本发明的显示装置，包括背光模块，还包括一种液晶显示面板30，包括：第一基板301(例如薄膜晶体管基板)；第二基板302(例如彩色滤光片基板)，与所述第一基板301相对设置；液晶层303，设置于所述第一基板301与所述第二基板302之间；且还包括所述液晶显示面板的画素结构，设置于所述第一基板与所述第二基板之上(例如位于所述第一基板的表面)，并包括：多个画素单元300，所述画素单元300由第一透光区310，第二透光区320及第三透光区330，三个区域所组成，其依据不同光程差并依特定面积比例区分画素透光区效果，并设置于所述第一基板301与所述第二基板302之间。且更包括第一偏光片306设置于所述第一基板301的一外表面上；以及第二偏光片307设置于所述第二基板302的一外表面上，其中所述第一偏光片306与所述第二偏光片307的偏振方向为互相平行。

请参照图3a，在本发明的一实施例中，所述画素结构包括所述画素单元300，所述画素单元300由第一透光区310(由四个主透光区域312，314，316及318所组成)，第二透光区320(由四个次透光区域322，324，326及328所组成)及第三透光区330(由四个次二透光区域332，334，336及338所组成)，而所述三个区域所组成依据，是根据不同深度并依特定面积比例区分画素透光区效果。

图3b为本发明一实施例的液晶显示面板的画素结构的3种液晶层的光程差。在本发明的一实施例中，所述第一画素透光区单元300，利用光程差△nd(由三个340，350，360光程差)不同梯度地形因素，可将画素等效区分为12区域。

图4a为本发明一实施例利用穿透率-电压曲线解释3种GAMMA曲线。请参照图4a，在3.6液晶层间隙(Cell Gap)所对应的穿透率-电压值曲线410，在3.9液晶层间隙(CellGap)所对应的穿透率-电压值曲线420及在4.2液晶层间隙(Cell Gap)所对应的穿透率-电压值曲线430。

图4b为本发明一实施例利用穿透率-灰阶值解释3种GAMMA曲线。请参照图4a，在3.6液晶层间隙(Cell Gap)所对应的穿透率-灰阶值曲线410，在3.9液晶层间隙(Cell Gap)所对应的穿透率-灰阶值曲线420及在4.2液晶层间隙(Cell Gap)所对应的穿透率-灰阶值曲线430。

图5为本发明通过半调式(Half Tone)工艺过程制造具有梯度形貌的画素结构示意图。请参照图5，在本发明的一实施例中，通过一半调式工艺过程改变所述保护层蚀刻工艺。且利用液晶盒内不同梯度地形造成画素区分效果，因而取代传统使用电压分压的方式。例如第一基板具有四层结构，包括：透明基板(SB)层510、保护(Passivation)层520、光阻材料(PR)层530及氧化铟锡(ITO)层550所组成。且需经过成膜步骤、曝光步骤、显影步骤、蚀刻步骤及剥膜步骤，此流程需重复5次，才能完成基板。所述成膜步骤是在玻璃基板510上，铺上一层所需求材质的薄膜(保护层520、光阻材料层530、氧化铟锡层550)；所述曝光步骤是使用光罩540在光阻530上，显影出所需的光阻530图形；所述显影步骤是留下上阶段光阻530图形部分的光阻530；所述蚀刻步骤是在已经有光阻530图形的基板510上，蚀刻出所需的图；所述剥膜步骤用已经蚀刻出所需图形的基板510，将覆盖于图形上的光阻530去除以便进行后续工程。

图6为本发明一实施例的由3种光程差所形成的12区域示意图。请参照图6，在本发明的一实施例中，所述12画素区域分为3种不同梯度地形深度，其依所述3种不同梯度地形深度将画素结构分为内层为菱形310，中层为菱形320及外层为三角形330，并将画素电极覆盖其上且保留狭缝设计。

在本发明的一实施例中，所述12画素区域分为3种不同梯度地形深度，其依所述3种不同梯度地形深度将画素结构分为内层，中层及外层都为矩形(370，380，390)，并将画素电极覆盖其上且保留狭缝设计。

在本发明的一实施例中，所述液晶显示面板的画素更包括主动开关，例如薄膜晶体管，用以驱动整个画素。

本发明的有益效果是可有效解决液晶显示面板色偏问题及改善大视角泛白问题。

“在一些实施例中”及“在各种实施例中”等用语被重复地使用。所述用语通常不是指相同的实施例；但它也可以是指相同的实施例。“包含”、“具有”及“包括”等用词是同义词，除非其前后文意显示出其它意思。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。