显示基板及其制备方法、显示装置与流程

技术特征：

1.一种显示基板，其特征在于，包括显示区域和围绕所述显示区域设置的密封区域，在所述显示区域和所述密封区域之间设置有辅助层，所述辅助层包括液晶性嵌段共聚物。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述液晶性嵌段共聚物为偶氮类液晶性嵌段共聚物。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述液晶性嵌段共聚物为

其中，1≤m≤20且m为整数；

或者，所述液晶性嵌段共聚物为

其中，

或者，所述液晶性嵌段共聚物为

4.根据权利要求1至3任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅助层与所述显示区域之间的距离为0.05mm～0.4mm。

5.根据权利要求1至3任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅助层的宽度为0.1mm～0.5mm。

6.根据权利要求1至3任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅助层的厚度为0.4μm～1.5μm。

7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括显示区域和围绕所述显示区域设置的密封区域，所述制备方法包括：

在所述显示区域和所述密封区域之间形成辅助层的步骤，所述辅助层包括液晶性嵌段共聚物。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述显示区域和所述密封区域之间形成辅助层的步骤包括：

对液晶性嵌段共聚物进行避光脱泡处理；

对脱泡后的所述液晶性嵌段共聚物进行涂覆，并利用可见光对所述液晶性嵌段共聚物照射，以形成所述显示基板的辅助层。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，还包括：

对封框胶材料进行避光脱泡处理；

对脱泡后的所述封框胶材料涂覆，以形成所述显示基板的密封区域。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6任意一项所述的显示基板。