一种基板、显示面板以及显示装置的制作方法

本发明属于显示技术领域，尤其涉及一种基板、显示面板以及显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，液晶显示器已经成为最为常见的显示装置。在液晶显示器中，由阵列基板上纵横交错的栅线和数据线控制各个像素，以实现图像的显示。栅极驱动信号和数据信号是从液晶显示器中的控制芯片发出的，通常利用覆晶薄膜(Chip On Film，简称COF)将栅极驱动信号和数据信号分别传输至阵列基板上的栅线和数据线。

COF通过扇出线区域上的扇出线连接至显示区域的栅线或数据线。一组扇出线中包括多条绕线，因为扇出线的整体呈扇形，位于该组扇出线左右两侧的绕线的长度会大于位于扇出线中间的绕线的长度，所以两侧绕线的阻抗比中间绕线的阻抗大，会使所传输的栅极驱动信号或数据信号的波形严重失真，影响驱动信号的均匀性。

目前大多采取将中间的绕线设置为折线形的方式，使位于扇出线区域两侧的绕线与中间的绕线的长度更加接近，则位于扇出线区域两侧的绕线与中间的绕线的阻抗也更加接近，以提高驱动信号的均匀性。但是，将绕线设置成折线形，会使绕线占用更大的空间，增大了液晶显示器的边框区域的宽度，难以满足当前对于窄边框产品的需求。所以，不能单从改变绕线的形状去使两侧绕线与中间绕线的阻抗相同，因此，现有技术的阵列基板上的绕线设计还需要进一步优化。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题在于提供一种基板、显示面板以及显示装置，旨在解决现有技术中的基板扇出线区域上两侧绕线的阻抗比中间绕线的阻抗大，会使信号的波形严重失真，影响驱动信号均匀性的问题。

本发明是这样实现的，一种基板，所述基板上设置有扇出线区域，所述扇出线区域包括

中间区域，所述中间区域上布设有若干条第一金属绕线；以及

侧边区域，所述侧边区域上亦布设有若干条第二金属绕线，所述侧边区域位于所述中间区域的两侧；

所述侧边区域上的第二金属绕线的长度大于所述中间区域上的第一金属绕线的长度；所述中间区域上的第一金属绕线的阻抗比所述侧边区域上的第二金属绕线的阻抗高。

进一步地，所述侧边区域上的第二金属绕线中，越靠近中间区域的第二金属绕线，其长度越短，阻抗越大。

进一步地，所述中间区域上的第一金属绕线中，越靠近所述中间区域中心位置的第一金属绕线，其长度越短，阻抗越大。

进一步地，所述的中间区域的第一金属绕线以折线形方式设置。

进一步地，所述侧边区域的第二金属绕线以折线形方式设置。

进一步地，所述第一金属绕线和/或第二金属绕线为沉积于所述基板上的导电层或者固定连接在所述基板上的导线。

本发明为解决上述技术问题，还提供了一种显示面板，包括上述的基板、彩膜基板、液晶层、第一偏光板、第二偏光板，所述基板为阵列基板，所述阵列基板内侧设有带有晶体管的第一电极层与覆盖第一电极层的第一配向层，所述第一电极层上具有所述的显示区域以及边框区域；所述彩膜基板的内侧设有第二电极层与覆盖第二电极层的第二配向层；所述液晶层配置于第一配向层与所述第二配向层之间；第一偏光板设置于所述阵列基板的外侧，第二偏光板设置于彩膜基板的外侧。

进一步地，所述显示面板可以为液晶面板、半导体发光二极管面板或有机发光二极管面板。

本发明还提供了一种显示装置，包括背光模组以及上述的显示面板。

本发明的基板，其扇出线区域的中间区域上的第一金属绕线采用的金属线材的阻抗比侧边区域上的第二金属绕线采用的金属线材的阻抗高。因此，能使中间区域上的第一金属绕线与侧边区域上的第二金属绕线的阻抗相同或者差异缩小。从而防止金属绕线所传输的栅极驱动信号或数据信号的波形失真，保证了驱动信号的均匀性。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。

图1是本发明实施例提供的基板扇出线区域上金属绕线的示意图；

图2是图1中的扇出线区域的放大示意图；

图3是本发明实施例提供的基板扇出线区域上的金属绕线的又一示意图；

图4是本发明实施例提供的一种液晶面板的示意图。

具体实施方式

为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1及图2所示，为本发明的一个实施例，提供了一种基板100，所述基板100上设置有显示区域10以及边框区域20，边框区域20上设置有若干个扇出线区域30。

该基板100可应于多种显示面板，例如：液晶面板、半导体发光二极管面板、有机发光二极管面板等。

具体地，扇出线区域30包括中间区域301以及侧边区域302，该侧边区域302位于中间区域301的两侧。中间区域301上布设有若干条第一金属绕线1a，侧边区域302上亦布设有若干条第二金属绕线1b。侧边区域302上的第二金属绕线1b的长度大于中间区域301上的第一金属绕线1a的长度；而中间区域301上的第一金属绕线1a的阻抗比侧边区域302上的第二金属绕线1b的阻抗高。为了使中间区域301上的第一金属绕线1a的长度更接近侧边区域302上的第二金属绕线1b的长度，本实施例中，中间区域301的第一金属绕线1a以折线形方式设置，侧边区域302上的第二金属绕线1b的部分位置也以折线形方式设置。

具体地，上述中间区域301上各条第一金属绕线1a的长度可以相同，也可以不相同。请参见图2，中间区域301上所有的第一金属绕线1a的长度相同，中间区域301上所有的第一金属绕线1a均可采用相同阻抗的金属线材。请参见图3，中间区域301上的第一金属绕线1a中，越靠近中间区域302中心位置的第一金属绕线1a，其长度越短，其需要采用阻抗越大的金属线材。

同样的，侧边区域302上的第二金属绕线1b，其长度可以不同或者相同。请继续参见图2，侧边区域302上的第二金属绕线1b的长度相同，侧边区域302上的第二金属绕线1b可采用相同阻抗的金属线材。请继续参见图3，侧边区域302上的第二金属绕线1b中，越靠近中间区域301的第二金属绕线1b，其长度越短，其需要采用阻抗越大的金属线材。

上述第一金属绕线1a和第二金属绕线1b为沉积于基板100上的导电层或者固定连接在基板100上的导线。

本实施例可以采用沉积方法将第一金属绕线1a和第二金属绕线1b布设于基板上。

本实施例的基板100的制作步骤如下：

玻璃清洗，去除异物；

划分区域，将玻璃表面上划分出所述显示区域10以及扇出线区域30，其中，所述扇出线区域30再划分出所述的中间区域301以及侧边区域302；

成膜工艺，采用不同阻抗的金属材料在干净的玻璃表面，通过溅射沉积形成不同阻抗的金属薄膜，其中，所述中间区域301上的金属薄膜的阻抗比侧边区域302上的金属薄膜的阻抗高；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射玻璃上的光刻胶，进行曝光，其中，所述掩模板上的通孔以外的位置为所述显示区域10以及扇出线区域30的布线位置；所述掩模板上对应于所述中间区域301第一金属绕线1a的线状区域的长度小于对应于所述侧边区域302第二金属绕线1b的线状区域的长度；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板100放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，即制得所述的基板100。

本实施例的基板100，其扇出线区域30的中间区域301上的第一金属绕线1a采用的金属线材的阻抗可以比侧边区域302上的第二金属绕线1b采用的金属线材的阻抗高。因此，能使中间区域301上的第一金属绕线1a与侧边区域302上的第二金属绕线1b的阻抗相同或者差异缩小。从而防止金属绕线所传输的栅极驱动信号或数据信号的波形失真，保证了驱动信号的均匀性。

下面，本实施例以液晶面板为例，具体描述上述基板100的实施方式。

请参见图4，为本实施例提供的一种液晶面板，包括上述的基板100、彩膜基板200、液晶层4、第一偏光板5以及第二偏光板6。上述的基板100为阵列基板；基板100内侧设有带有晶体管11的第一电极层12与覆盖第一电极层12的第一配向层13。基板100的第一电极层12上具有上述的显示区域10以及边框区域20，边框区域20上设置有若干个上述的扇出线区域30。彩膜基板200的内侧设有第二电极层21与覆盖第二电极层21的第二配向层22。液晶层4配置于第一配向层13与所述第二配向层22之间；第一偏光板5设置于基板100的外侧，第二偏光板6设置于彩膜基板200的外侧。

本实施例还提供了一种显示装置(图中未示出)，包括显示面板以及背光模组，该显示面板具有上述的基板100。可以理解，上述显示面板可以是液晶面板、半导体发光二极管面板、有机发光二极管面板等面板。

以上所述仅为本发明的一个实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。