技术总结
本发明提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含化学式1所表示的化合物和有机碱化合物。下述化学式1中，当R1为氢时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数2～4的烷基；当R1为碳原子数1～4的烷基时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数1～4的烷基。本发明通过限制抗蚀剂剥离液组合物中所包含的有机溶剂的分子结构，从而提供有效地剥离光致抗蚀剂，在干式/湿式蚀刻工序中均可使用，并且所使用的抗蚀剂剥离液容易通过剥离设备中的过滤器，明显改善流量变化问题的抗蚀剂剥离液组合物。[化学式1]
技术研发人员：高京俊;金圣植;金正铉
受保护的技术使用者：东友精细化工有限公司
技术研发日：2017.12.01
技术公布日：2018.10.23