技术总结
本实用新型公开了一种双面对位曝光装置及含有该装置的激光直写设备，属于直写曝光机技术领域。本实用新型的双面对位曝光装置包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，特别是实现了对于无定位孔存在的PCB板的内层板的双面曝光的图像精确对位；本实用新型的设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。
技术研发人员：傅志伟
受保护的技术使用者：上海誉刻智能装备有限公司
文档号码：201720053360
技术研发日：2017.01.16
技术公布日：2017.09.08