一种双面抛光光纤阵列的制作方法

文档序号:12905626阅读:325来源:国知局
一种双面抛光光纤阵列的制作方法与工艺

本实用新型涉及光通信及系统领域,特别涉及集成光子领域,具体是指一种双面抛光光纤阵列。



背景技术:

随着互联网技术的不断发展,现在朝着高速率,大容量,高质量的方向发展,因此对光传输器件的体积、光传输质量也要求越来越越来高,集成光子技术因具有高集成度、通道数多而备受青睐。

光纤阵列作为光子集成的关键光无源组件,具有低插入损耗,可靠性高且集成度高的特点。因此光纤阵列的应用越来越高。相应的,随着高速率及大容量的不断发展,光无源器件与光有源器件的结合显得尤为重要。因此本实用新型主要设计制作了一款双面抛光的光纤阵列,其特点为集成度高,体积小,可与高速有源芯片直接进行对光耦合,提高光学传输质量及传输速率。



技术实现要素:

本实用新型的目的是克服了上述现有技术中的缺点,提供一种能够显著提高器件的集成度高、体积小且可与高速有源芯片直接对光耦合,传输质量更好、适用范围更为广泛的一种光纤阵列。

为了实现上述发明目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种双面抛光光纤阵列,包括V型槽,所述V型槽内排放有一层光纤,所述光纤通过盖片和固定粘接剂与V型槽固定;所述光纤的端面经抛光与水平方向成45°或者48°角,所述盖片经抛光与水平方向3°角。

作为优选方案,所述光纤的前端有部分光纤裸露并延伸至V型槽之外;并通过保护胶将裸露光纤全部覆盖。

作为优选方案,所述V型槽使用高硼硅玻璃或者石英玻璃。

作为优选方案,所述光纤相邻两根之间中心轴线间的距离为750±1μm或者250±1μm或者127±1μm。

本实用新型的有益效果在于,集成度高、体积小且可与高速有源芯片直接对光耦合,传输质量更好、适用范围更为广泛。

附图说明

图1为本实用新型的侧视结构示意图。

图2为本实用新型的俯视结构示意图。

图3为本实用新型的出光面示意图。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的技术内容,特举以下实例详细说明具体实现方案如下:

本实用新型采用了双面抛光光纤阵列方案,代替光学棱镜改变光路传输方向,且降低与高速有源芯片的对光耦合效率,提高传输质量;并设计相关结构利于高速芯片粘接。具体实现如下:首先将光纤5按照顺序放到V型槽1的槽子内,然后使用光纤固定粘接剂3、将光纤5、V型槽1与盖片2组装起来,且组装过程中保证V型槽1与盖片2端面并错开一段位置,保证V型槽1前端有一部分光纤裸露在外面,且保证盖片2可以覆盖住V型槽1平台上的部分光纤5;然后使用固定压力将4个组件压紧,保证光纤与一层V型槽1的两侧以及盖片2接触,从而确保所有光纤在同一水平面上,然后使用紫外灯对光纤固定粘接剂3进行曝光固化。固化结束后,在双层V型槽2对应层的尾部裸光纤处点裸光纤保护胶4将光纤5保护起来。胶水完全固化后,首先通过适当的研磨抛光工艺将盖板表面抛光成3°角或者其他角度,对应图1中的θ1,抛光过程中需保证光纤研磨量,保证传输质量,后续再通过适当研磨抛光工艺,将端面研磨抛光成48°角或45°胶或者其他角度,对应图1中的θ2改变光路方向。

通过实施方案可以看出,对于双面抛光光纤阵列纤芯距可以不同,端面及盖片的抛光角度均可以更改,V型槽1裸露长度及盖板覆盖光纤长度均可以根据产品使用场景进行改变。因此本实用新型的可拓展性更加有利于产品的推广及应用。同时说明书和附图应被认为是说明性的而非限制性的。

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