1.一种光罩组件，其特征在于，所述光罩组件(3)包括具有透光区域(300)和遮光区域(301)的光罩(30)以及至少覆盖所述透光区域(300)的第一偏光层(31)，所述光罩组件(3)还包括与所述光罩(30)相对设置且能够围绕垂直于所述光罩(30)的轴线旋转的偏光基板(32)。
2.根据权利要求1所述的光罩组件，其特征在于，所述偏光基板(32)包括透光基材(320)和覆盖在所述透光基材(320)上的第二偏光层(321)。
3.根据权利要求2所述的光罩组件，其特征在于，所述第二偏光层(321)位于所述透光基材(320)的邻近所述光罩(30)的一侧。
4.根据权利要求2所述的光罩组件，其特征在于，所述第二偏光层(321)的厚度为50-500μm。
5.根据权利要求2所述的光罩组件，其特征在于，所述第一偏光层(31)的厚度为50-500μm。
6.根据权利要求2所述的光罩组件，其特征在于，所述第一偏光层(31)位于所述光罩(30)的远离所述偏光基板(32)的一侧。
7.根据权利要求2-6中任意一项所述的光罩组件，其特征在于，所述偏光基板(32)的旋转范围为使得所述第一偏光层(31)的光轴和所述第二偏光层(321)的光轴之间形成0-90°的夹角。
8.根据权利要求2-6中任意一项所述的光罩组件，其特征在于，所述第一偏光层(31)和所述第二偏光层(321)均为聚乙烯醇材料层。
9.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括曝光机和权利要求1-8中任意一项所述的光罩组件(3)，其中，所述偏光基板(32)位于所述曝光机和所述光罩(30)之间。