光罩组件以及曝光装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，具体地，涉及一种光罩组件以及曝光装置。

背景技术：

近年来，半色调掩膜版(Half Tone Mask)在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)技术中得到了越来越广泛的应用，例如，半色调掩膜版在彩色滤光片的基板制作中就备受青睐。半色调掩膜版包括透明衬底、形成在透明衬底上能够完全透光的光透射部分、能够完全阻挡光的光阻挡部分以及具有能够部分透光的半色调层的半透过部分。

图1为现有技术所提供的LCD的剖面结构示意图。LCD包括具有彩色滤色膜110的基板11(即彩色滤光片)、阵列基板10以及夹置在具有彩色滤色膜110的基板11和阵列基板10之间的液晶层12，其中彩色滤色膜110与液晶层12相对。

彩色滤光片是用于TFT-LCD中以呈现色彩的基本结构。TFT-LCD中的背光模块发出光源，透过偏光片，液晶，彩膜滤光片而呈现多彩的表示形式。图2示出了现有技术中用于液晶显示器的彩色滤光片2，彩色滤光片2包括玻璃基板20、黑色矩阵21、彩色层22即彩色滤色膜、ITO(氧化铟锡)导电膜层23、平坦层24以及间柱(PS)层25，其中彩色层22包括了红色(R)滤色层、绿色(G)滤色层和蓝色(B)滤色层以及白色(W)滤色层，当彩色滤光片2与阵列基板组合时，间柱层25将能够将彩色滤光片2与阵列基板间隔开来从而在二者之间填充液晶材料。间柱层25又包括主要间柱层和次要间柱层，其中主要间柱层和次要间柱层之间能够形成差异，主要是由于通过半色调掩膜版的光的透过率不同而实现的。

目前，调节通过半色调掩膜版的光的透过率主要采用以下两种方式，一种是在原本不透光的区域设置遮挡物，使透光区域的光透过率降低；另一种是使得半色调掩膜版具有四种光透过率。虽然上述两种方式在一定程度上能够改变光的透过率，但是一旦半色调掩膜版制备完毕后，光的透过率变化均会受到较大限制。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种光罩组件，该光罩组件能够任意调节透过光罩的透光区域的光的透过率。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种光罩组件，所述光罩组件包括具有透光区域和遮光区域的光罩以及至少覆盖所述透光区域的第一偏光层，所述光罩组件还包括与所述光罩相对设置且能够围绕垂直于所述光罩的轴线旋转的偏光基板。

优选地，所述偏光基板包括透光基材和覆盖在所述透光基材上的第二偏光层。

优选地，所述第二偏光层位于所述透光基材的邻近所述光罩的一侧。

优选地，所述第二偏光层的厚度为50-500μm。

优选地，所述第一偏光层的厚度为50-500μm。

优选地，所述第一偏光层位于所述光罩的远离所述偏光基板的一侧。

优选地，所述偏光基板的旋转范围为使得所述第一偏光层的光轴和所述第二偏光层的光轴之间形成0-90°的夹角。

优选地，所述第一偏光层和所述第二偏光层均为聚乙烯醇材料层。

在上述技术方案中，通过至少在所述光罩的所述透光区域覆盖所述第一偏光层以及在所述光罩相对位置处设置能够围绕垂直于所述光罩的轴线旋转的所述偏光基板，从而能够任意调节所述第一偏光层的光轴与所述偏光基板的光轴之间的夹角，由此可根据实际需求调节透过所述光罩的所述透光区域的光的透过率。

本实用新型的另一目的在于提供一种曝光装置，所述曝光装置包括曝光机和本实用新型所提供的光罩组件，其中，所述偏光基板位于所述曝光机和所述光罩之间。由于在所述曝光装置中采用了本实用新型所提供的光罩组件，其中所述偏光基板能够相对于至少覆盖于所述光罩的所述透光区域的所述第一偏光层旋转，从而能够调节通过所述光罩的所述透光区域的光的透过率，在该曝光装置的作用下能够方便的制备出彩色滤光片的不同的间柱层如主要间柱层和次要间柱层，从而改善了制备工艺，大大提高了作业效率。

本实用新型的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是根据现有技术所提供的LCD的剖面结构示意图；

图2是根据现有技术的用于液晶显示器的彩色滤光片的剖面结构示意图；

图3是根据本实用新型优选实施方式提供的光罩组件的整体结构示意图。

附图标记说明

10-阵列基板；11-基板；110-彩色滤色膜；12-液晶层；2-彩色滤光片；20-玻璃基板；21-黑色矩阵；22-彩色层；23-ITO导电膜层；24-平坦层；25-间柱层；3-光罩组件；30-光罩；300-透光区域；301-遮光区域；31-第一偏光层；32-偏光基板；320-透光基材；321-第二偏光层。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指结合实际应用的方向和附图中所示的方向理解。

本实用新型提供了一种光罩组件，光罩组件3包括具有透光区域300和遮光区域301的光罩30以及至少覆盖透光区域300的第一偏光层31，光罩组件3还包括与光罩30相对设置且能够围绕垂直于光罩30的轴线旋转的偏光基板32。通过至少在光罩30的透光区域300覆盖第一偏光层31以及在光罩30相对位置处设置能够围绕垂直于光罩30的轴线旋转的偏光基板32，从而能够任意调节第一偏光层31的光轴与偏光基板32的光轴之间的夹角，也就是说由于偏光基板32相对于第一偏光层31能够旋转，则使得第一偏光层31的偏光方向和偏光基板32的偏光方向之间成任意夹角，由此可根据实际需求调节透过光罩30的透光区域300的光的透过率，例如当第一偏光层31的光轴和偏光基板32的光轴之间的夹角为0°即第一偏光层31的偏光方向和偏光基板32的偏光方向相同时，透过光罩30的透光区域300的光的透过率为100％，当第一偏光层31的光轴和偏光基板32的光轴之间的夹角为90°即第一偏光层31的偏光方向与偏光基板32的偏光方向相垂直时，透过光罩30的透光区域300的光的透过率为0％，当第一偏光层31的光轴和偏光基板32的光轴之间的夹角为45°即第一偏光层31的偏光方向和偏光基板32的偏光方向成45°夹角时，透过光罩30的透光区域300的光的透过率为50％，当然还可以根据实际所需的光的透过率，旋转偏光基板32以调节第一偏光层31的光轴和偏光基板32的光轴之间的夹角。其中，光罩30中的遮光区域301可由含铬(Cr)的材料沉积形成。

图2示出了现有的彩色滤光片的剖面结构示意图。在彩色滤光片2的间柱层25的制备过程中，首先在平坦层24上沉积有机材料，然后便可在上述光罩组件3的作用下曝光。由于在光罩组件3的作用下可以任意调节光的透过率，增加了制程的调节范围，从而改善了制备工艺，提高了作业效率。

为了便于制备，第一偏光层31可选用具有偏振作用的材料如聚乙烯醇沉积在光罩30上制得，优选地，第一偏光层31沉积于光罩30的远离偏光基板32的一侧。另外，第一偏光层31的厚度优选为不大于500μm，这样既提高了透光效果，又便于沉积制备，与此同时还大大降低了制备成本。进一步地，第一偏光层31的厚度优选为50-500μm，更进一步地，第一偏光层31的厚度可优选为不大于100μm。

可以理解的是，偏光基板32能够起到偏振作用，因此对偏光基板32的结构形式可为多种，只要满足偏振功能即可。如图3中所示，偏光基板32可包括透光基材320和覆盖在透光基材320上的第二偏光层321。其中，第二偏光层321可选用具有偏振作用的材料如聚乙烯醇沉积在透光基材320上制备得到，优选地，第二偏光层321位于透光基材320的邻近光罩30的一侧。为了提高透光效果，第二偏光层321的厚度不大于500μm，此外，使得第二偏光层321的厚度不大于500μm，不仅便于沉积制备，而且还大大降低了制备成本。进一步地，第二偏光层321的厚度优选为50-500μm，更进一步地，第二偏光层321的厚度优选为不大于100μm。另外，对于透光基材320的材料的选择并没有特别的限制，只要能够透光即可，例如可选用玻璃作为透光基材320。

还可以理解的是，偏光基板32围绕垂直于光罩30的轴线在偏光基板32所在的平面内进行旋转，其中偏光基板32的旋转范围可使得第一偏光层31的光轴和第二偏光层321的光轴之间形成0-90°的夹角。

本实用新型还提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括曝光机和本实用新型所提供的光罩组件3，其中，偏光基板32位于所述曝光机和光罩30之间。在所述曝光装置中，由于采用了本实用新型所提供的光罩组件3，其中偏光基板32能够相对于至少覆盖于光罩30的透光区域300的第一偏光层31旋转，从而能够调节通过光罩30的透光区域300的光的透过率，其中曝光机可根据实际需求进行选择现有类型的曝光机，此处不再赘述。由此，当在彩色滤光片2的间柱层25的制备过程中选用上述曝光装置时，能够较为便利的制备出不同的间柱层25如主要间柱层和次要间柱层，从而改善了制备工艺，大大提高了作业效率。

以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于上述实施方式中的具体细节，在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本实用新型的保护范围。

另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本实用新型的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本实用新型的思想，其同样应当视为本实用新型所公开的内容。