本实用新型涉及电容屏技术领域，尤其涉及一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版。
背景技术：
电容屏生产制作要保证良率较高的一个重要前提是ITO膜曝光蚀刻后的图案各通道的回路电阻一致性较高，常规检测ITO膜曝光蚀刻后的图案各通道的回路电阻时，因为不同产品的图案形状均不相同，即每个产品的图案各通道的回路电阻也不相同，这样检测完后工人对比起来比较麻烦，增加了工人的劳动强度，检测不是很方便；并且检测时需要用检测工具接触通道的两端，这样会对被检测的图案造成损耗，进而影响到ITO膜的良率。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种检测方便且不会影响被检测产品的电容屏ITO膜曝光蚀刻版。
本实用新型所采用的技术方案是：一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，包括多个蚀刻版本体以及分别设置在多个蚀刻版本体上的不同的蚀刻图案，不同的蚀刻图案中均包括多条宽度相同的线条，其宽度为X，且不同的蚀刻图案中的相邻线条之间的间距相同，其为Y，多个蚀刻版本体的其中一边上均设有方便用户检测且形状相同的固定检测图案，且固定检测图案包括至少两条宽度为X的线条，且两条线条之间的距离为Y。
采用以上结构，本实用新型具有以下优点：在每个蚀刻版本体设置位置形状相同的固定检测图案，因为蚀刻时条件都是相同的，所以如果那个固定检测图案有问题，则很大几率表示蚀刻图案出现问题，所以用户就可以直接检测这个固定检测图案即可，这样检测工具不需要触碰到蚀刻图案，即不会影响被检测产品，而且检测起来比较方便。
作为优选，每个蚀刻版本体上均设有四个固定检测图案，且四个固定检测图案分别设置在蚀刻版本体的四条边上。这样设置，考虑到了多边的影响因素，使得检测的准确性更高。
作为优选，固定检测图案还包括两条矩形螺旋线且两条矩形螺旋线相互交缠设置。这样设置，固定检测图案与蚀刻图像更加相似，使得检测的准确性更高。
附图说明
图1为本实用新型一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版的结构示意图。
如图所示：1、蚀刻版本体；2、蚀刻图案；3、固定检测图案。
具体实施方式
以下结合附图与具体实施方式对本实用新型做进一步描述，但是本实用新型不仅限于以下具体实施方式。
一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，包括多个蚀刻版本体1以及分别设置在多个蚀刻版本体1上的不同的蚀刻图案2，不同的蚀刻图案2中均包括多条宽度相同的线条，其宽度为X，且不同的蚀刻图案2中的相邻线条之间的间距相同，其为Y，其特征在于：多个蚀刻版本体1的其中一边的相同位置上均设有方便用户检测且形状相同的固定检测图案3，且固定检测图案3包括至少两条宽度为X的线条，且两条线条之间的距离为Y。这个X跟Y主要是依据可能会有一个范围，具体在这个范围内进行选择，使得检测的准确性更高。
每个蚀刻版本体1上均设有四个固定检测图案3，且四个固定检测图案3分别设置在蚀刻版本体1的四条边上。
固定检测图案3还包括两条矩形螺旋线且两条矩形螺旋线相互交缠设置。所述矩形螺旋线相互交缠设置就是类似蚊香那种结构，但是是矩形的，不是圆形的。