技术总结
本实用新型涉及电容屏技术领域，尤其涉及一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，包括多个蚀刻版本体（1）以及分别设置在多个蚀刻版本体（1）上的不同的蚀刻图案（2），不同的蚀刻图案（2）中均包括多条宽度相同的线条，其宽度为X，且不同的蚀刻图案（2）中的相邻线条之间的间距相同，其为Y，所述多个蚀刻版本体（1）的其中一边的相同位置上均设有方便用户检测且形状相同的固定检测图案（3），且所述固定检测图案（3）包括至少两条宽度为X的线条，且所述两条线条之间的距离为Y。这种蚀刻版检测方便且不会影响被检测产品。
技术研发人员：冯赵鑫;刘国安;郑国清
受保护的技术使用者：江西合力泰科技有限公司
文档号码：201720897778
技术研发日：2017.07.24
技术公布日：2018.01.16