显示面板以及显示面板的制作方法与流程

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板以及显示面板的制作方法。

背景技术：

如图1所示，现有的显示面板3一般由彩膜基板31、阵列基板32以及设置在二者之间的液晶层33组成。其中，液晶层33的厚度h为液晶盒间隙(cellgap)。其中，液晶盒间隙(cellgap)由设置在彩膜基板31上的多个支撑柱34(photospacer，ps)控制。

随着超薄技术的发展，液晶盒间隙出现逐步降低的趋势，ps的高度也随之降低。然而受ps制作工艺的限制，难以制备高度过低的ps。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种显示面板以及显示面板的制作方法，为支撑柱的制备提供了较多的空间。

本发明实施例提供了一种显示面板，其包括：阵列基板，彩膜基板，色阻层，多个黑色矩阵，收容部以及多个支撑柱；

所述收容部设置在所述色阻层或所述多个黑色矩阵上；

所述支撑柱设置在对应的收容部中。

在一实施例中，所述色阻层设置在所述阵列基板上；

所述收容部设置在所述色阻层上。

在一实施例中，所述显示面板还包括保护层；

所述保护层设置在所述色阻层上；

所述多个收容部设置在所述保护层上。

在一实施例中，所述显示面板还包括：

第一过孔，设置在所述保护层上，所述第一过孔内具有导电材料；

第二过孔，设置在所述色阻层上，所述第二过孔内具有导电材料；

电极层，设置在所述保护层上，所述电极层通过所述第一过孔、所述第二过孔中的导电材料，与所述第一基板电性连接。

在一实施例中，所述色阻层设置在所述彩膜基板上，所述色阻层包括多个色阻单元；

所述多个黑色矩阵设置在所述彩膜基板上，所述黑色矩阵设置在对应的相邻色阻单元之间；

所述收容部设置在所述黑色矩阵上。

在一实施例中，所述收容部为孔，所述孔的深度相同或者不同。

在一实施例中，所述孔的孔径范围为15微米至20微米之间。

在一实施例中，所述多个支撑柱之间的高度差范围为0.1微米至5微米之间。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，其包括：

提供一阵列基板和彩膜基板；

在所述阵列基板上形成色阻层或在所述彩膜基板上形成色阻层；

当在所述阵列基板上形成所述色阻层时，在所述色阻层上形成收容部；

当在所述彩膜基板上形成所述色阻层时，与所述色阻层同层形成多个黑色矩阵；

在所述黑色矩阵上形成所述收容部；

在所述收容部中形成支撑柱。

在一实施例中，所述收容部为孔，所述孔的深度相同或者不同。

本发明实施例的显示面板以及显示面板的制作方法，在液晶盒间隙有限的情况下，通过设置收容部，为支撑柱的制备提高了较多的空间。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1为现有的显示面板的结构示意图。

图2为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。

图3为本发明实施例提供的显示面板的另一结构示意图。

图4为本发明实施例提供的显示面板的俯视图。

图5为本发明实施例提供的显示面板的再一结构示意图。

图6为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

请参照图2，图2为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板1包括阵列基板11、彩膜基板12以及设置在二者之间的液晶层16。

其中阵列基板11包括衬底和薄膜晶体管层。其中，衬底可以用于承载其上的薄膜晶体管层等结构。该衬底可以为由二氧化硅、三氧化二铝等材料制成的玻璃衬底。薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，用于控制显示面板1中液晶像素点的驱动。

彩膜基板12可以为玻璃基板，具体可以为无碱玻璃基板。其中彩膜基板12和阵列基板11上都设置有配向膜层，可以对液晶层16中的液晶分子进行配向，使光线通过或者遮蔽。

显示面板1还包括色阻层13以及黑色矩阵17。其中，色阻层13可以由着色剂、光固化树脂、光引发剂等材料组成。背光源发出的白光，经色阻层13后形成蓝色光、绿色光以及蓝色光，以使显示面板1进行彩色显示。具体的，可以涂布着色剂、光固化树脂、光引发剂等材料，经烘烤、曝光、显影等步骤后，形成上述色阻层13。

在一实施例中，如图2所示，色阻层13可以设置在阵列基板11上。在一实施例中，如图5所示，色阻层13还可以设置在彩膜基板12上。

当色阻层13设置在阵列基板1上时，如图3或4所示，显示面板1还可以包括保护层18，保护层18设置在色阻层13上。保护层18不仅可以保护色阻层13，防止色阻层13中的污染物侵入液晶盒中，还可以提供平坦表面。该保护层18可以采用环氧树脂、亚克力树脂等高分子材料制成。具体的，可以将上述高分子材料涂布在色阻层13上，然后经烘烤、曝光、显影等步骤后，形成上述保护层18。

在一实施例中，显示面板1还包括第一过孔19、第二过孔20以及电极层21。电极层21设置在保护层18上，第一过孔19设置在保护层18上，第二过孔20设置在色阻层13上。所述第一过孔19的孔径范围为3微米至5微米之间，所述第二过孔20的孔径范围为10微米至15微米之间。

电极层21可以采用导电性能良好的透明导电材料ito(indiumtinoxide，氧化铟锡)制成，而第一过孔19和第二过孔20内都填充有导电材料，因此电极层21通过第一过孔19和第二过孔20中的导电材料，与衬底上的薄膜晶体管层电性连接。

如图5所示，当色阻层13设置在彩膜基板12上时，该色阻层13包括多个色阻单元131。此时，彩膜基板12上还设有多个黑色矩阵17，每一个黑色矩阵17设置在对应的相邻色阻单元131之间。黑色矩阵17用于防止显示面板1中像素间的漏光，可以增加色彩的对比性。其中，黑色矩阵17可以采用金属材料或者黑色光阻材料制成。在一实施例中，可以采用树脂、炭黑等黑色光阻材料制成黑色矩阵17。

不论色阻层13设置在阵列基板11上，还是设置在彩膜基板12上，显示面板1都包括支撑柱15。其中，支撑柱15可以保持液晶层16中液晶的厚度均一性，可以防止因液晶厚度不均产生显示模糊。支撑柱15可以采用光阻材料制成，包括正性光阻和负性光阻。

随着超薄技术要求的不断提高，显示面板的液晶盒间隙越来越小，导致支撑柱的高度也越来越低，给支撑柱的制备工艺带来了巨大挑战。

为了解决上述问题，如图2所示，当色阻层13设置在阵列基板11上时，可以在色阻层13上设置多个收容部14，将支撑柱15设置在对应的收容部14中。对比图1所示的显示面板3可知，显示面板3和本实施例的显示面板1的液晶盒间隙均为h，显示面板3中用于制备支撑柱34的空间的高度为h，而显示面板1中用制备支撑柱15的空间的高度为(h+h)，即液晶盒间隙与色阻层13高度之和。

综上，通过在色阻层13上设置收容部14，可以在显示面板1竖直方向上留更多的空间制备支撑柱15。

同理的，还可以在色阻层13上设置支撑柱15。设置在收容部14中的支撑柱15和直接设置在色阻层13的支撑柱15之间，可以更方便的形成高度差，使显示面板1具有较好的液晶边缘(liquidcrystalmargin)。

具体的，可以在具有收容部14的色阻层13上整面涂布光阻材料，光阻材料因为流平作用，随着收容部14的形状起伏。再利用光罩对光阻材料进行曝光，显影后即可得到具有一定高度差的多个支撑柱15。该多个支撑柱15的高度差范围可以设置在0.1微米至5微米之间。其中，该光罩可以为具有相同或不同透过率的光罩。

当该显示面板1还包括设置在色阻层13上的保护层18时，多个收容部14还可以设置在保护层18上。

当色阻层13设置在彩膜基板12上时，如图5所示，还可以将收容部14设置在黑色矩阵17上，将支撑柱15设置在对应的收容部14中。对比图1所示的显示面板3可知，显示面板3和本实施例的显示面板1的液晶盒间隙均为h，显示面板3中用于制备支撑柱34的空间的高度为h，而显示面板1中用制备支撑柱15的空间的高度为(h+h’)，即液晶盒间隙与黑色矩阵17高度之和。

通过在黑色矩阵17上设置收容部14，可以在显示面板1竖直方向上留更多的空间制备支撑柱15。其中，收容部14可以为孔或者凹槽。如图5所示，当收容部14为孔时，孔的孔径范围为15微米至20微米之间。该孔的深度可以相同，也可以不同。需要说明的是，为了使显示面板1具有较好的液晶边缘(liquidcrystalmargin)，需要使支撑柱15之间具有较好的高度差，因此可以根据需要的高度差，将该多个孔设置成不同的深度。

同理的，还可以在黑色矩阵17上设置支撑柱15。设置在收容部14中的支撑柱15和直接设置在黑色矩阵17的支撑柱15之间，可以更方便的形成高度差，使显示面板1具有较好的液晶边缘(liquidcrystalmargin)。

具体的，可以在具有收容部14的黑色矩阵17上整面涂布光阻材料，光阻材料因为流平作用，随着收容部14的形状起伏。再利用光罩对光阻材料进行曝光，显影后即可得到具有一定高度差的多个支撑柱15。该多个支撑柱15的高度差范围可以设置在0.1微米至2微米之间。其中，该光罩可以为具有相同或不同透过率的光罩。

综上，收容部14可以为孔或者凹槽。如图2-4所示，当收容部14为孔时，孔的孔径范围为15微米至20微米之间。该孔的深度可以相同，也可以不同。需要说明的是，为了使显示面板1具有较好的液晶边缘(liquidcrystalmargin)，需要使支撑柱15之间具有较好的高度差，因此可以根据需要的高度差，将该多个孔设置成不同的深度。

本发明实施例显示面板，在液晶盒间隙有限的情况下，通过在色阻层或黑色矩阵上设置多个收容部，使支撑柱设置在对应的收容部中，为支撑柱的制备提高了较多的空间。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，请参照图6，图6为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。

步骤s101，提供阵列基板和彩膜基板。

其中阵列基板可以包括衬底和薄膜晶体管层。其中，衬底可以用于承载其上的薄膜晶体管层等结构。该衬底可以为由二氧化硅、三氧化二铝等材料制成的玻璃衬底。薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管，用于控制显示面板中液晶像素点的驱动。

彩膜基板可以为玻璃基板，具体可以为无碱玻璃基板。其中彩膜基板和阵列基板上都设置有配向膜层，可以对液晶层中的液晶分子进行配向，使光线通过或者遮蔽。

步骤s102，在阵列基板上形成色阻层或在彩膜基板上形成色阻层。

色阻层可以由着色剂、光固化树脂、光引发剂等材料组成。背光源发出的白光，经色阻层后形成蓝色光、绿色光以及蓝色光，以使显示面板进行彩色显示。

其中，如图2、3以及5所示，色阻层13可以设置在阵列基板11上，也可以设置在彩膜基板12上。

具体的，可以在阵列基板11或彩膜基板12上涂布着色剂、光固化树脂、光引发剂等材料，经烘烤、曝光、显影等步骤后，形成上述色阻层13。

步骤s103，当在阵列基板上形成色阻层时，在色阻层上形成收容部。

其中，当色阻层13设置在阵列基板11上时，还可以在制备色阻层13时，同时形成如图3所示的第二过孔20。第二过孔20的孔径范围为10微米至15微米之间。

如图3所示，还可以在色阻层13上形成保护层18。保护层18不仅可以保护色阻层13，防止色阻层13中的污染物侵入液晶盒中，还可以提供平坦表面。该保护层18可以采用环氧树脂、亚克力树脂等高分子材料制成。具体的，可以将上述高分子材料涂布在色阻层13上，然后经烘烤、曝光、显影等步骤后，形成上述保护层18。在此过程中，还可以在保护层18上形成第一过孔19。所述第一过孔19的孔径范围为3微米至5微米之间。

进一步的，还可以在保护层18上形成电极层21。电极层21可以采用导电性能良好的透明导电材料ito(indiumtinoxide，氧化铟锡)制成。具体的，直接在保护层18上涂布ito，ito填充入第一过孔19和第二过孔20中，因此电极层21通过第一过孔19和第二过孔20，与衬底上的薄膜晶体管层电性连接。

如图2所示，收容部14可以设置在色阻层13上。如图3所示，当色阻层13上还形成有保护层18时，多个收容部14还可以设置在保护层18上。

步骤s104，当在彩膜基板上形成色阻层时，与色阻层同层形成多个黑色矩阵。

如图5所示，当在彩膜基板12上形成色阻层13时，该色阻层13包括多个色阻单元131。具体的，在每相邻两色阻单元131之间形成一黑色矩阵17。黑色矩阵17用于防止显示面板1中像素间的漏光，可以增加色彩的对比性。其中，黑色矩阵17可以采用金属材料或者黑色光阻材料制成。在一实施例中，可以采用树脂、炭黑等黑色光阻材料制成黑色矩阵17。

步骤s105，在黑色矩阵上形成收容部。

如图5所示，通过在黑色矩阵17上设置收容部14，可以在显示面板1竖直方向上留更多的空间制备支撑柱15。

步骤s106，在收容部中形成支撑柱。

综上，收容部14可以为孔或者凹槽。当收容部14为孔时，孔的孔径范围为15微米至20微米之间。该孔的深度可以相同，也可以不同。需要说明的是，为了使显示面板1具有较好的液晶边缘(liquidcrystalmargin)，需要使支撑柱15之间具有较好的高度差，因此可以根据需要的高度差，将该多个孔设置成不同的深度。

接着可以在收容部14中形成支撑柱15。具体的，当收容部14设置在色阻层13上时，可以在具有收容部14的色阻层13上整面涂布光阻材料。当收容部14设置在黑色矩阵17上时，可以在具有收容部14的黑色矩阵17上整面涂布光阻材料。光阻材料因为流平作用，随着收容部14的形状起伏。再利用光罩对光阻材料进行曝光，显影后即可得到具有一定高度差的多个支撑柱15。该多个支撑柱15的高度差范围可以设置在0.1微米至2微米之间。其中，该光罩可以为具有相同或不同透过率的光罩。

本发明实施例显示面板的制作方法，在液晶盒间隙有限的情况下，通过在色阻层或黑色矩阵上设置多个收容部，使支撑柱设置在对应的收容部中，为支撑柱的制备提高了较多的空间。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。