1.一种色阻层结构，其特征在于，所述色阻层结构包含：
一第一色阻；以及
一第二色阻，所述第一色阻设置于所述第二色阻之上；
其中所述第一色阻包含一凸部以及一基底部，所述凸部设置于所述基底部之上，且所述凸部具有一第一宽度小于所述基底部的总宽度。
2.如权利要求1所述的色阻层结构，其特征在于：所述凸部位于所述基底部的一中间区域。
3.如权利要求1所述的色阻层结构，其特征在于：所述凸部具有一第一高度，所述基底部具有一第二高度，所述第一高度大于所述第二高度。
4.如权利要求1所述的色阻层结构，其特征在于：所述第一宽度小于25微米。
5.如权利要求1所述的色阻层结构，其特征在于：所述基底部的所述总宽度大于或等于25微米。
6.如权利要求1所述的色阻层结构，其特征在于：所述第二色阻具有一第三高度，所述第三高度大于所述第二高度。
7.一种色阻层结构的制造方法，所述制造方法包含下列步骤：
将一第一色阻形成于一第二色阻上；以及
将一掩膜置于所述第一色阻上方，通过紫外光照射所述掩膜及所述第一色阻，以形成如权利要求1所述的色阻层结构；
其中所述掩膜具有一全透光区以及一狭缝区，所述狭缝区围绕所述全透光区。
8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于：所述第一色阻包含一凸部以及一基底部，所述全透光区对应于所述凸部的位置，所述狭缝区对应于所述基底部的位置。
9.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于：所述狭缝区具有至少一狭缝以及至少一遮光线，所述狭缝的宽度等于所述遮光线的宽度。
10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于：所述狭缝的宽度为2至4微米。