彩膜基板、彩膜基板的制备方法及液晶显示器的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法及液晶显示器。
【背景技术】
[0002]在液晶显示器的制备过程中，先独立制备阵列基板和彩膜基板，再将阵列基板与彩膜基板进行对盒，形成液晶盒。其中，彩膜基板上的黑矩阵与阵列基板上的扫描线、数据线及薄膜晶体管(TFT)等部件的位置相对应，通过所述黑矩阵挡住所述的扫描线、数据线及薄膜晶体管等部件。
[0003]在阵列基板与彩膜基板进行对盒过程中，特别是对于大尺寸的液晶显示器，阵列基板与彩膜基板之间经常会出现对位偏差，使黑矩阵与扫描线、数据线及薄膜晶体管之间发生错位。所述错位，会使黑矩阵的边缘出现漏光，从而发生串扰(V-CrossTalk)现象，影响液晶显示器的显示效果。
[0004]液晶显示器作为显示器的主流，应用的场合越来越广，相应的性能也要进行改善。比如，显示器的尺寸越来越大、色彩越来越丰富、亮度越来越高等。然而上述性能的改善都会直接或间接的增加液晶显示器的制备难度。工艺上稍有不慎，便使液晶显示器产生漏光现象，并影响显示效果。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明提供一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法、及液晶显示器，以避免漏光现象的产生。
[0006]为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，包括:
[0007]制备玻璃基板；
[0008]在所述玻璃基板上制备黑矩阵；以及
[0009]在所述黑矩阵上依次生成多种颜色的色阻，以形成彩膜层，所述色阻包括主体部和延长部，且所述主体部呈矩形，所述延长部位于所述主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸。
[0010]优选地，所述延长部呈矩形、圆形、菱形或梯形中的一种。
[0011]优选地，所述延长部与所述主体部部分重合。
[0012]优选地，所述延长部的中心与所示主体部的顶点重合。
[0013]优选地，在所述黑矩阵上依次生成多种颜色的色阻，以形成彩膜层，所述色阻包括主体部和延长部，且所述主体部呈矩形，所述延长部位于所述主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸的步骤具体包括:
[0014]在所述黑矩阵上涂布第一颜色的光刻胶，并进行预烘烤；
[0015]通过掩模板对所述光刻胶进行曝光；
[0016]进行显影及蚀刻，以形成第一颜色的色阻；以及
[0017]按照预设涂布顺序，依此形成其他预设颜色。
[0018]优选地，所述掩模板包括掩模板主体部和掩模板延长部，且所述掩模板主体部呈矩形，所述掩模板延长部位于所述掩模板主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸。
[0019]优选地，所述预设涂布顺序包括如下中的一种:红、蓝、绿三色色阻；红、蓝、绿、黄四色色阻；或红、蓝、绿、白四色色阻；且当涂布所述三色色阻时，所形成的三色色阻呈条形、对角线或马赛克状分布；当涂布所述四色色阻时，所形成的四色色阻呈马赛克状分布。
[0020]优选地，所述在所述黑矩阵上依次生成多种颜色的色阻，以形成彩膜层，所述色阻包括主体部和延长部，且所述主体部呈矩形，所述延长部位于所述主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸的步骤之后，还包括:
[0021]在所述彩膜层上溅镀透明电极层。
[0022]本发明还提供了一种彩膜基板，包括:
[0023]玻璃基板；
[0024]黑矩阵，形成于所述玻璃基板上；以及
[0025]彩膜层，形成于所述黑矩阵上，所述彩膜层包括多种颜色的色阻，且所述色阻包括主体部和延长部，且所述主体部呈矩形，所述延长部位于所述主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸。
[0026]本发明还提供了一种液晶显示器，包括上述的彩膜基板。
[0027]相对于现有技术，本发明的彩膜基板、彩膜基板的制备方法及液晶显示器，通过在彩膜层的各色阻的顶点处设置延长部，避免了色阻由于表面张力而进行收缩进而形成漏光区域，从而避免了漏光的现象，且制备工艺简单、成本低廉。
【附图说明】
[0028]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
[0029]图1为本发明实施例一中彩膜基版的制备方法的流程示意图；
[0030]图2A?2C为本发明实施例一中单个色阻的俯视示意图；
[0031]图3A?3D为本发明实施例一中多个色阻的俯视示意图；
[0032]图4为本发明实施例二中彩膜基板的剖面示意图；
[0033]图5为本发明实施例三中液晶显示器的剖面示意图。
【具体实施方式】
[0034]请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本发明具体实施例，其不应被视为限制本发明未在此详述的其它具体实施例。
[0035]实施例一
[0036]请参阅图1，所示为本发明中一种彩膜基板的制备方法。
[0037]在步骤SlOl中，制备玻璃基板。
[0038]可以理解的是，本步骤的制备工艺，主要是按照预定尺寸进行切割，并通过清洗机进行清洗。
[0039]在步骤S102中，在所述玻璃基板上制备黑矩阵。
[0040]具体而言，所述制备黑矩阵的步骤还可以细化为:
[0041](I)在所述玻璃基板上溅镀黑色膜，所述黑色膜包括黑铬膜或黑色颜料膜；
[0042](2)在所述黑色膜上进行光刻胶涂布并进行预烘烤，形成光刻胶层；
[0043](3)通过光刻掩模对所述光刻胶层进行紫外线照射；
[0044](4)对所述光刻胶层依次进行曝光、显影；
[0045](5)依照显影结果对所述黑色膜进行蚀刻；以及
[0046](6)对黑色膜进行光刻胶剥离，并形成黑矩阵，所述黑矩阵用于遮光。
[0047]在步骤S103中，在所述黑矩阵上依次生成多种颜色的色阻，以形成彩膜层。
[0048]请参阅图2A?2C，所示为本发明实施例中单个色阻的俯视示意图。概而言之，色阻包括色阻主体部31和色阻延长部(32、33或34)。其中色阻主体部31呈矩形，所述色阻延长部(32、33或34)位于所述主体部31的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸，并可以呈任意预设形状。如图2A所示色阻延长部32呈矩形、或如图2B所示色阻延长部33呈圆形、亦或如图2C所示色阻延长部34呈不规则多边形中的一种，如菱形或梯形。且，所述色阻的延长部(32、33或34)与所主体部31部分重合。其中一种重合的情形为:所述延长部(32、33或34)的中心与所示主体部31的顶点重合。
[0049]可以理解的是，在本发明中，还需要设计一种不规则形状的掩模板。所述不规则形状的掩模板包括掩模板主体部和掩模板延长部，且所述掩模板主体部呈矩形，所述掩模板延长部位于所述掩模板主体部的矩形各顶点处向所述矩形的相对侧延伸，并可以呈任意预设形状。由于所述掩模板的形状与其形成的色阻一一对应，因此其形状即亦可参照上述图2A?2C所示。
[0050]所述依次形成彩膜层的具体步骤，包括:
[0051](I)在所述黑矩阵上涂布第一颜色的光刻胶，并进行预烘烤；
[0052](2)通过上述掩模板对所述光刻胶进行曝光；
[0053](3)进行显影及蚀刻，以形成第一颜色的色阻；以及
[0054](4)按照预设涂布顺序，返回步骤(I)的工艺以依此形成其他预设颜色的色阻。
[0055]其中，所述预设涂布顺序为包括以下中一种:(I)红、蓝、绿，即RBG三色；(2)红、蓝、绿、黄，即RBGY四色；或⑶红、蓝、绿、白，即RGBW四色。其好处是:更大程度的保护了靠后设置的颜色，使其呈现出