个第二开口，使该至少一个第二开口与第二信号线在公共电极所在面上的正投影有重叠部分。
[0098]例如，在该制作方法中，可以通过与形成公共电极的构图工艺不同的构图工艺形成像素电极，在这种情况下，像素电极可以位于公共电极之上或者位于公共电极之下。例如，该阵列基板可以采用ADS模式。
[0099]或者，例如，形成公共电极还可以包括形成像素电极。在这种情况下，公共电极可以包括多个条状子公共电极，像素电极可以包括多个条状子像素电极，条状子公共电极与条状子像素电极交替设置，即，该阵列基板采用IPS模式。
[0100]下面结合图3a所示的ADS模式阵列基板对本实施例提供的制作方法进行详细说明。例如，该制作方法可以包括以下步骤71至步骤78。
[0101]步骤71:通过第一次构图工艺，在衬底基板上形成栅极11以及栅线(图3a中未示出栅线)。
[0102]步骤72:通过第二次构图工艺，形成覆盖栅极11和栅线的栅绝缘层12。
[0103]步骤73:通过第三次构图工艺，在栅绝缘层12上形成有源层14。
[0104]步骤74:通过第四次构图工艺，形成位于有源层14上并且与其接触的源极13a和漏极13b，以及数据线13c。
[0105]步骤75:通过第五次构图工艺，形成覆盖源极13a、漏极13b和数据线13c的第一绝缘层20，以及位于第一绝缘层20中的第一绝缘层过孔21。
[0106]步骤76:通过第六次构图工艺，在第一绝缘层20上形成公共电极30、位于公共电极30中且与数据线13c垂直的至少一个第一开口 31以及与公共电极30连接的公共电极线。
[0107]步骤77:通过第七次构图工艺，在公共电极30上形成第二绝缘层40以及位于第二绝缘层40中的第二绝缘层过孔41，第二绝缘层过孔41与第一绝缘层过孔21连通。
[0108]步骤78:通过第八次构图工艺，在第二绝缘层40上形成像素电极50，使像素电极50通过上述步骤75和77中形成的第一绝缘层过孔21和第二绝缘层过孔41与薄膜晶体管10的漏极13b连接。
[0109]上述步骤以公共电极和公共电极线同层设置为例进行说明。当然，公共电极和公共电极线也可以异层设置。例如，公共电极线也可以在步骤71中与栅线同时形成，在这种情况下，步骤76中形成的公共电极可以通过第一绝缘层20中的过孔与公共电极线连接。
[0110]本实施例提供的阵列基板的制作方法中，阵列基板中的第一信号线、第二信号线、第一开口、第二开口等可参考实施例一至实施例五中的相关描述，重复之处不再赘述。
[0111]以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。
【主权项】
1.一种阵列基板，包括: 沿第一方向延伸的第一信号线，其中，所述第一信号线为栅线或数据线；以及 公共电极，位于所述第一信号线之上，其中，所述公共电极中设置有至少一个第一开口，所述至少一个第一开口与所述第一信号线在所述公共电极所在面上的正投影有重叠部分；并且，所述公共电极包括与所述第一信号线的所述正投影部分重叠的第一部分以及位于所述第一信号线的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分与所述第一部分连接且同层设置。2.如权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开口为封闭式开口。3.如权利要求1所述的阵列基板，其中，所述公共电极中设置有多个所述第一开口。4.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其中，所述第一开口包括至少一个沿所述第一方向延伸的边缘，所述边缘为折线形或波浪形。5.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其中，所述第一开口沿所述第一方向的尺寸小于或等于所述第一开口沿与所述第一方向垂直的方向的尺寸。6.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其中，所述第一开口的沿所述公共电极所在面上的形状包括多边形、圆形或椭圆形。7.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其中， 所述第一开口相对于所述第一信号线轴对称。8.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，还包括: 沿第二方向延伸的第二信号线，其中，所述第二方向与所述第一方向相交，所述公共电极中还设置有至少一个第二开口，所述至少一个第二开口与所述第二信号线在所述公共电极所在面上的正投影有重叠部分。9.如权利要求8所述的阵列基板，其中， 所述第一信号线为所述栅线，所述第二信号线为所述数据线；或者 所述第一信号线为所述数据线，所述第二信号线为所述栅线。10.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，还包括:像素电极，其中， 所述像素电极与所述公共电极同层设置，所述公共电极包括多个条状子公共电极，所述像素电极包括多个条状子像素电极，所述条状子公共电极与所述条状子像素电极交替设置；或者 所述像素电极与所述公共电极异层设置，所述像素电极位于所述公共电极之上或者位于所述公共电极之下。11.如权利要求1至3任一项所述的阵列基板，还包括:彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括多列滤光图案，每列所述滤光图案沿所述第一方向排列，同一列所述滤光图案的颜色相同或不同，所述滤光图案中与所述第一信号线相邻且位于所述第一信号线两侧的两列滤光图案中位置对应的滤光图案具有不同的颜色。12.如权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其中，所述公共电极还包括位于所述第一信号线的所述正投影之外的第三部分，所述第三部分与所述第一部分连接且同层设置，并且所述第三部分和所述第二部分分别位于所述第一部分的相对的两侧。13.—种显示装置，包括如权利要求1至12任一项所述的阵列基板。14.如权利要求13所述的显示装置，还包括:彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括多列滤光图案，每列所述滤光图案沿所述第一方向排列，同一列所述滤光图案的颜色相同或不同，所述滤光图案中与所述第一信号线相邻且位于所述第一信号线两侧的两列滤光图案中位置对应的滤光图案具有不同的颜色。15.—种阵列基板的制作方法，包括: 形成沿第一方向延伸的第一信号线，其中，所述第一信号线为栅线或数据线；以及 通过一次构图工艺形成位于所述第一信号线之上的公共电极以及设置于所述公共电极中的至少一个第一开口，其中，所述至少一个第一开口与所述第一信号线在所述公共电极所在面上的正投影有重叠部分；并且，所述公共电极包括与所述第一信号线的所述正投影部分重叠的第一部分以及位于所述第一信号线的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分与所述第一部分连接且同层设置。16.如权利要求15所述的制作方法，其中， 形成所述公共电极还包括形成像素电极，其中，所述公共电极包括多个条状子公共电极，所述像素电极包括多个条状子像素电极，所述条状子公共电极与所述条状子像素电极交替设置；或者 通过一次构图工艺形成像素电极，其中，所述像素电极位于所述公共电极之上或者位于所述公共电极之下。17.如权利要求15或16所述的制作方法，还包括: 在形成所述第一信号线之前或之后，形成沿第二方向延伸的第二信号线，其中，所述第二方向与所述第一方向相交； 形成所述公共电极还包括形成设置于所述公共电极中的至少一个第二开口，其中，所述至少一个第二开口与所述第二信号线在所述公共电极所在面上的正投影有重叠部分。
【专利摘要】一种阵列基板及其制作方法和显示装置，该阵列基板包括沿第一方向延伸的第一信号线、以及公共电极；所述第一信号线为栅线或数据线；所述公共电极位于所述第一信号线之上，所述公共电极中设置有至少一个第一开口，所述至少一个第一开口与所述第一信号线在所述公共电极所在面上的正投影有重叠部分；并且，所述公共电极包括与所述第一信号线的所述正投影部分重叠的第一部分以及位于所述第一信号线的所述正投影之外的第二部分，所述第二部分与所述第一部分连接且同层设置。该阵列基板可减轻对位等因素造成的数据线或栅线两侧串色不良。
【IPC分类】G02F1/1362, G02F1/1335, G02F1/1343
【公开号】CN104898335
【申请号】CN201510400851
【发明人】姜文博, 韩帅, 王世君, 吕振华
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年7月9日