一种彩膜基板、显示装置及制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示器的制作领域，特别是一种彩膜基板、显示装置及制作方法。
【背景技术】
[0002]现有的显示面板制作过程中，在对阵列基板与彩膜基板进行真空对盒时，为了避免像素受力不均而致使周边显示不均的现象发生，需要维持盒厚的均一性。
[0003]如图1所示，现有的做法是在彩膜基板上设置一些隔垫物(即图1中的柱状图形)。但是目前在非显示区域(虚线右侧)的隔垫物，却采用了与显示区域(虚线左侧)的隔垫物相同的设计，而非显示区域上设置的功能图层显然要少于显示区域。这样一来，非显示区域的隔垫物相比于显示区域的隔垫物，与阵列基板TFT存在更大间隙hi。当显示面板受到挤压时(如对显示面板进行切割)，由于非显示区域的隔垫物接触阵列基板的有效面积减少，因此静摩擦力产生的应力多集中于显示区域，这使得像素受力不均的问题并没有得到有效改善。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是解决显示面板应外部受力，而导致像素显示不均的问题。
[0005]为解决上述技术问题，一方面，本发明的实施例提供一种彩膜基板，包括形成有平坦层的非显示区域，所述非显示区域包括第一区域和第二区域，所述第一区域中设置有隔垫物，所述第二区域中未设置隔垫物；
[0006]所述第一区域还设置有位于所述平坦层与衬底基板之间的垫高图形。
[0007]其中，所述彩膜基板还包括:
[0008]显示区域；
[0009]所述第一区域的隔垫物相对于所述彩膜基板的衬底基板的高度不低于所述显示区域中的隔垫物相对于所述彩膜基板的衬底基板的高度。
[0010]其中，所述显示区域还形成由黑矩阵和/或彩色滤光层；
[0011]所述垫高图形包括:与所述显示区域的黑矩阵同层同材料形成的第一垫高图形，和/或与所述显示区域的彩色滤光层同层同材料形成的第二垫高图形。
[0012]优选地，所述第二区域设置有位于所述平坦层与衬底基板之间的垫高图形。
[0013]此外，本发明的实施例还提供一种包括上述彩膜基板的显示装置。
[0014]此外，本发明的实施例还提供一种彩膜面板的制作方法，所述彩膜面板包括有形成平坦层的非显示区域，所述非显示区域包括设置隔垫物的第一区域，以及未设置隔垫物的第二区域；其中，所述制作方法包括:
[0015]在形成所述平坦层前，在所述第一区域的衬底基板上形成垫高图形。
[0016]其中，所述制作方法还包括:
[0017]在显示区域形成隔垫物的步骤；
[0018]所述第一区域的隔垫物相对于所述衬底基板的设置高度不低于所述显示区域的隔垫物。
[0019]其中，所述制作方法还包括:
[0020]在显示区域的衬底基板上，形成黑矩阵和/或彩色滤光层的步骤；
[0021]在形成所述平坦层前，在所述第一区域的衬底基板上形成垫高图形，包括:
[0022]在所述平坦层形成前，通过所述黑矩阵的制图工艺，在所述第一区域的衬底基板上，形成与所述黑矩阵同一材料层制成的第一垫高图形；和/或
[0023]在所述平坦层形成前，通过所述彩色滤光层的制图工艺，在所述第一区域的衬底基板上，形成与所述彩色滤光层同一材料层制成的二垫高图形。
[0024]其中，在形成所述平坦层前，在所述第一区域的衬底基板上形成垫高图形，还包括:
[0025]在所述第二区域的衬底基板上形成垫高图形。
[0026]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0027]本发明的方案在非显示区域的隔垫物下方，进一步设置了垫高图形，因此相比于现有技术，在阵列基板与彩膜基板对盒后，位于非显示区域的隔垫物与阵列基板的间隙得到了明显的减小。当整个显示面板受到外力后，非显示区域上的隔垫物能够更早地接触到阵列基板，从而为显示区域的像素分担更多的应力，避免了像素出现显示不均的现象。
【附图说明】
[0028]图1为本发明现的彩膜基板在与阵列基板对盒后的结构的示意图；
[0029]图2至图5为本发明的彩膜基板在与阵列基板对盒后的结构的示意图；
[0030]图6A至图6D为本发明的彩膜基板的制作方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0031]为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0032]在现有技术中，非显示区域的隔垫物的设置高度与阵列基板存在较大的间隙，因此当显示面板受到外力后，显示区域上的隔垫物承受较多的应力，从而使附近的像素应受力而出现显示不均的现象。有鉴于此，本发明的实施例提供了一种彩膜基板，可有效提高非显示区域的隔垫物对像素提供的保护力度。
[0033]如图2所示，本实施例的彩膜基板包括:
[0034]形成有平坦层3的非显示区域(即图2中封框胶4的右侧区域)，该非显示区域进一步包括设置隔垫物(即图2中柱状图形)的第一区域Al，以及未设置隔垫物的第二区域A2 ；
[0035]需要给予说明的是，平坦层3属于彩膜基板的现有图层，是通过沉积而形成的，由于没有使用掩膜工艺进行图形化处理，因此完全覆盖了整个衬底基板上，即上述平坦层3也会保留在整个非显示区域上。
[0036]其中，上述第一区域Al还设置有位于平坦层3与衬底基板I之间的垫高图形2。
[0037]对比图1和图2可以看出，本实施例的彩膜基板在第一区域Al上设置了垫高图形2，从而增加了第一区域Al的隔垫物相对于衬底基板I的设置高度。在对盒后，本实施例第一区域Al的隔垫物与阵列基板TFT的间隙h2要远小于图1所示的现有技术中的间隙hi。因此当对盒后的显示面板受力时，第一区域Al的隔垫物能够承担更多的应力，从而为像素提供更好的保护，有效避免了像素发生显示不均的现象。
[0038]进一步地，本实施例的彩膜基板还包括显示区域(即图2中封框胶4的左侧区域)，该显示区域上也设置有隔垫物。为了进一步减少显示区域所承受的应力，作为优选方案，本实施例中的第一区域Al上的隔垫物相对于衬底基板I的设置高度不低于显示区域的隔垫物对于衬底基板I的设置高度。在显示面板受到外力后，第一区域Al上的隔垫物先接触到阵列基板，形成对阵列基板的支撑。
[0039]下面结合一个具体的实现方式，对本实施例的彩膜基板的应用进行详细说明。
[0040]在本实现方式中，为不增加彩膜基板的制作成本，复用彩膜基板原有的黑矩阵和彩色滤光层的掩膜工艺，形成垫高图形。
[0041]图3为对盒后的显示面板的剖视图，图3上半部分为阵列基板TFT，图3下半部分为彩膜基板，中间设置有支撑阵列基板TFT与彩膜基板的封框胶4。
[0042]本实现方式以封框胶4的位置划分显示区域(封框胶4左侧)与非显示区域(封框胶4右侧)。
[0043]具体地，非显示区域由第一区域Al和第二区域A2组成；第一区域Al与显示区域上均设置有隔垫物(即图3