积层体的制作方法
【技术领域】
[0001] 本申请设及一种基膜、积层体W及形成偏光膜的方法。
【背景技术】
[0002] 将二色性材料吸附并定向到聚乙締醇类树脂（W下称作"PVA树脂"）中来形成偏 光膜的方法是众所周知的。偏光膜的代表性用途为显示设备，例如液晶显示器化CD)。例 如，厚度为约60至80μm的PVA树脂类偏光膜被粘贴到LCD液晶面板的两面。
[0003] PVA树脂是亲水性的。因此，偏光膜对溫度或湿度的变化敏感，容易伸长或收缩，并 且容易有缺陷，例如卷曲。因此，为了抑制伸长和收缩W及减少溫度和湿度的影响，通常把 保护膜粘贴到PVA树脂偏光膜的两面。然而，当偏光膜具有较大厚度时则难W抑制伸长和 收缩，并且当偏光膜被粘贴到液晶面板等时会引起应力，可能在设备上产生污溃。此外，近 来，对薄型设备或低耗能设备的需求增加，并且对薄偏光膜的需求也在增加。
[0004] 例如，专利文件1公开了一种形成薄偏光膜的方法。 阳00引现有巧术专件
[0006] 专利文件
[0007] 专利文件1:韩国专利第1175700号。
【发明内容】
[0008] 发明目的
[0009] 本申请旨在提供一种基膜，积层体W及形成偏光膜的方法。
[0010] 技术方案
[0011] 本申请的一个方面提供一种基膜。一种示例的基膜例如，可W是一种在延伸可显 示偏光功能的材料例如PVA树脂的处理中使用的膜（W下称作"延伸膜"或"延伸基膜"）。 此处，如图1所示，可W通过在基膜101的一个或两个表面上堆叠包含由于延伸而能显示出 偏光功能的材料的层102 (W下称作"偏光材料层"）形成积层体100并延伸该积层体来进 行延伸处理。
[0012] 为了更有效地进行运样的延伸处理，并最终得到高功能的薄偏光膜，可W在考虑 到被共同延伸的偏光材料层的情况下来确定基膜的特性。
[001引此时，基膜的特性可W包括，例如，可W通过拉伸试验而测定的各种物理性质。在 拉伸试验中所确定的拉伸曲线通常可W被划分为表示伸长（mm)与所施加的负载的关系的 负载-伸长曲线；W及显示工程应变与工程应力关系的应力-应变曲线。除非另外特别 定义，否则在本说明书中定义的特性可W由后者，即，表示工程应变与工程应力关系的应 力-应变曲线确定。
[0014]在本申请中，通过下面的方法说明拉伸曲线。首先，将待测拉伸曲线的样本制备成 15mmX70mm(宽度X长度）的大小。样本的宽度和长度为用于延伸的长度，排除了固定于 拉伸试验机的部分。接着，将样本固定于拉伸试验机中，在室溫W约300mm/min的拉伸速度 在纵向方向上拉伸直到样本断裂为止，然后图示出到该样本断裂为止的距离对所测定的力 的图狂轴：距离，Y轴：力）。接着，应用样本的面积与厚度，将该图转换为伸长率对拉伸强 度的图狂轴：伸长率，Y轴：拉伸强度），待描述的各拉伸特性可W从该转换的图来测定。此 处使用的术语"室溫"是未提高或降低的自然溫度，可W是约10至30°c、约25°C、或约23°C。 此外，除非另外具体定义，否则物理性质对应于室溫下测得的物理性质。
[0015]例如，可W选择所述基膜W使得W相同方法测定的拉伸曲线的积分值（A)与所述 偏光材料层的积分值度）的差（A-B)的绝对值在l，500Nmm至10,000Nmm范围内。在另 一个实施例中，所述差的绝对值可W为约2,000NmmW上、2,500NmmW上、3,000NmmW上、 3,500NmmW上、或4,000NmmW上。此外，在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为约 9,OOONmmW下、8,OOONmmW下、7,OOONmmW下、或 6, 500NmmW下。
[0016] 例如，可W选择所述基膜W使得所述基膜的拉伸强度与所述偏光材料层的拉伸强 度的差的绝对值在约0. 5MPa至40MPa的范围内。其中，所述拉伸强度是指将在所述拉伸试 验中样本断裂时的最大拉伸负载除W该样本延伸前的截面积所得到的值。
[0017]例如，可W选择所述基膜W使得所述基膜的伸长率与所述偏光材料层的伸长率的 差的绝对值在15%至500%的范围内。在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为20%W 上。此外，在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为400 %W下、300 %W下、200 %W下、或 160%W下。
[0018] 例如，可W选择所述基膜W使得所述基膜的屈服点与所述偏光材料层的屈服点的 差的绝对值在IMPa至50MPa的范围内。在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为3MPa W上或5MPaW上。此外，在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为45MPaW下、40MPaW 下、或35MPaW下。
[0019]例如，可W选择所述基膜W使得所述基膜的弹性极限与所述偏光材料层的弹性极 限的差的绝对值范围为1，OOOMPaW下。在另一个实施例中，所述差的绝对值可W为50MPa W上、lOOMPaW上、150MPaW上、200MPaW上、或230MPaW上。此外，在另一个实施例中，所 述差的绝对值可W为900MPaW下、SOOMPaW下、700MPaW下、或660MPaW下。
[0020] 上述基膜的特性的绝对值由所采用的偏光材料层的特性决定，并没有特殊限制。
[0021] 然而，为了防止可偏光材料层在延伸后的收缩所引起的缺陷，所述基膜需要满足 方程式1 : 阳〇巧[方程式U
[0023] E/R> 5，
[0024] 在方程式1中，E为室溫下测定的延伸基膜的伸长率（单位：％ )，R为恢复率（单 位：％)。此处，所述伸长率可W从拉伸曲线计算得到，该拉伸曲线是通过在测量溫度下进 行上述拉伸试验而获得的。
[00巧]此外，所述恢复率是通过将所述基膜的纵向长度灯）代入方程式"100X(T-A)/A" 中所得到的值。所述纵向长度灯）是将所述基膜切成50mmX100mm(宽度X长度）的尺寸、 通过将与该基膜具有相同宽度和长度而厚度为30μm的PVA膜层合到所述基膜的一个表面 上而制备积层体、在水（溫度：60°C)中将积层体在长度方向上延伸为原始长度的五倍，从 水中取出延伸后的积层体，除去PVA膜，然后将该积层体在室溫保持1小时测量的。方程式 1中的"A"为延伸前的所述基膜的长度。
[00%] 当将根据方程式1的比率巧/R)调整到上述范围时，由于在后续延伸处理中的有 效延伸，可W得到具有优异的偏光功能或透光率的非常薄的偏光膜。在另一个实施例中，所 述比率巧/时可W为10W上、15W上、20W上、25W上、或30W上。在另一个实施例中，所 述比率（E/R)可W为 600W下、500W下、400W下、300W下、200W下、100W下、70W下、 65W下、60W下、55W下、50W下、45W下、或 40W下。
[0027]所述基膜可W满足方程式1并具有约200%至1500%的伸长率范围。在另一个 实施例中，所述伸长率可W为约250%W上、或约300%W上。在另一个实施例中，所述伸 长率可W为约 1400%W下、1300%W下、1200%W下、1100%W下、1000%W下、900%W下、 800%W下、700%W下、600%W下、或 550%W下。 阳02引此外，所述基膜的恢复率可W为30 %W下、25 %W下、或约20 %W下。所述恢复率 还可W为约5%W上、10%W上、或15%W上。
[0029]在所述基膜中，通过上述方法测定的拉伸曲线（延伸