积层体的制作方法_3

文档序号:9529178阅读:来源:国知局
可W通过将例如PVA树脂的材料溶解于溶剂例如水中 而制备的涂布溶液涂布于所述基膜而形成、或者通过将例如PVA树脂的材料层合而形成的 膜(W下称作偏光功能膜)例如PVA树脂膜堆叠到所述基膜而形成。除非另外特别定义, 在考虑到合适的延伸处理和延伸后得到的偏光膜的功能情况下,可W使用所述方法中的将 可偏光膜粘贴到基膜的方法。在该处理中,可W不使用分隔层而将所述偏光功能膜直接堆 叠在所述基膜上、或使用粘合剂进行堆叠。能够用于该处理的粘合剂层的种类没有特殊限 审IJ,可W使用制备偏光片时通常用于将保护膜粘合到偏光膜的水基PVA类粘合剂层。此外, 可W在具有所述偏光材料层的基膜的表面上进行公知的粘合处理,例如电晕处理或底漆处 理。
[0047] 在所述积层体中,可W用二色性材料对所述偏光材料层进行染色。作为二色性材 料,可W使用任一种显示出合适二色性质的、已知用于形成偏光膜的材料。作为所述二色性 材料可W使用舰化物、有机染料及其混合物。所述舰化物可W为但不限于:舰化裡、舰化钢、 舰化锋、舰化侣、舰化铅、舰化铜、舰化领、舰化巧、舰化锡或舰化铁。
[0048] 在所述积层体中,所述偏光材料层的厚度(延伸前的厚度)没有特殊限制,考虑到 延伸后的厚度,可W在合适范围内进行选择。例如,所述偏光材料层的厚度可W在15μm至 100μm的范围内。在另一个实施例中,所述厚度可W为20μm至90μm、20μm至80μm、 20μm至 70μm、20μm至 60μm、20μm至 50μm、或 20μm至 40μm。
[0049] 本申请的另一个方面提供一种形成偏光膜的方法,其包括延伸所述积层体,即,该 积层体包含基膜W及形成于该基膜的一个或两个表面上的偏光材料层。
[0050] 在延伸所述积层体之前,可W进行用上述二色性材料将所述偏光材料层染色的染 色处理。例如,可W通过将所述积层体浸溃于染色溶液中而进行所述染色处理。例如,可W 通过将上述二色性材料溶解在溶剂中来制备所述染色溶液。通常,将水用作为所述染色溶 液的溶剂。在所述染色溶液中,所述二色性材料的比率没有特殊限制。通常,相对于100重 量份的所述溶剂,所述染色溶液可化含有约0. 1重量份至4. 3重量份的所述二色性材料。作 为所述二色性材料,可W使用上述材料。当使用舰作为所述二色性材料时,还可W向所述染 色溶液中添加舰化物W促进舰的溶解并改善染色效率。相对于100重量份的所述溶剂,通 常可W加入约0. 02重量份至20重量份或0. 1重量份至10重量份的所述舰化物,但本申请 不限于此。所述舰化物可w为,但不限于:舰化钟、舰化裡、舰化钢、舰化锋、舰化侣、舰化铅、 舰化铜、舰化领、舰化巧、舰化锡或舰化铁。通常,在所述染色溶液中的浸溃时间为约5秒至 5分钟,在所述处理中所述染色溶液的溫度通常可W在20°C至50°C的范围内,但本申请不 限于此。
[0051] 在所述染色处理后可W进行所述延伸处理,或者不作染色处理就进行所述延伸处 理。进行所述延伸处理的方法没有特殊限制,可W使用已知的方法。所述积层体的延伸可 W在溶液中进行,例如,水溶液。进行所述延伸处理的溶液溫度没有特殊限制,只要可W进 行合适的延伸即可,通常可W为85°CW下、20°C至70°C、或30°C至65°C。可W进行所述延 伸W使延伸后的偏光膜的厚度在约ΙΟμπιW下、约8μπιW下、约7μπιW下、约6μπιW下、 或约5μπιW下的范围内。所述延伸后的偏光膜的厚度的下限没有特殊限制,例如可W为约 0. 5μmW上、1μmW上、1. 5μmW上、2μmW上、或2. 5μmW上。因此,可从从约2倍至15 倍或约5倍至15倍的拉伸比进行所述延伸。在上述拉伸比范围内,所述偏光材料层或者所 述偏光膜的二色性材料可W被合适地定向。
[0052] 根据需要,所述延伸处理也可W与交联处理一起进行。例如,可W通过将所述积 层体浸溃于棚酸水溶液中而进行所述交联处理,当在所述棚酸水溶液中进行所述延伸处理 时,延伸可W与交联一起进行。所述交联处理是一种不溶解化处理,用于防止膨胀的偏光材 料层或者偏光膜的PVA树脂溶解于水。
[0053] 通过将棚酸或棚酸盐溶解在水中可W得到所述棚酸水溶液。除了所述棚酸或棚酸 盐之外,还可W使用例如棚、乙二醒和戊二醒等棚化合物。所述棚酸的浓度没有特殊限制, 可W调整使棚酸相对于100重量份的水,W 1重量份至10重量份存在。在所述棚酸水溶液 中,例如可W添加舰化物,W防止所述偏光功能层材料即PVA树脂层所吸附的舰被洗脱。所 述舰化物的浓度通常可W为0. 〇5wt%至15wt%或0. 5wt%至8wt%。所述舰化物可W是在 所述染色处理中描述的材料。在所述棚酸水溶液中的浸溃时间通常可W为约15秒至5分 钟,所述棚酸水溶液的溫度通常可W在20°C至70°C的范围内。
[0054] 上述交联处理可W先于所述染色处理而进行。在该情况下,可W使用所述棚酸水 溶液依次进行交联处理、染色处理和延伸处理。为了制备薄偏光膜,可W将所述偏光材料层 的材料例如所述PVA树脂溶解于所述染色溶液中,因此,所述交联处理先于所述染色处理 而进行时可W更有效。根据需要,可W使用棚酸水溶液进行另外的交联处理,W加入在所述 延伸处理前的所述染色处理中损失的棚酸。 阳化5] 在所述延伸处理之后可W进行清洗处理。所述清洗处理是一种对含有所述延伸后 的偏光膜的积层膜的残留物进行清洗的处理。当该处理进行不充分时,在所述积层体干燥 后,所述棚酸可能从所述薄偏光膜中露出。例如,可W在含有舰化钟的清洗液中进行所述清 洗,W防止例如所述PVA树脂的材料溶解。在所述清洗液中,所述舰化钟的浓度通常可W为 约0. 5wt%至lOwt%。所述清洗液的溫度通常可W为约10°C至50。浸溃时间可W为约1 秒至1分钟,但本发明不限于此。
[0056] 随后,可W进行干燥处理。可W通过合适的已知方法,例如自然干燥法、吹风干燥 法、或加热干燥法来进行所述干燥处理。所述干燥溫度与时间没有特殊限制,可W调整W进 行合适的干燥。
[0057] 含有延伸后的偏光膜的积层体可W不经处理而使用,或者根据需要在剥离所述基 膜之后使用。根据需要,通过合适的转移处理将所述基膜从所述偏光膜上剥离下来,并转移 至另一光学功能膜。 阳05引有益效果
[0059] 本发明提供一种能够有效地形成偏光膜的基膜、一种积层体W及一种形成偏光膜 的方法,所述偏光膜的厚度为约10μπιW下、约8μπιW下、约7μπιW下、约6μπιW下、或约 5μπιW下,并且显示出优异的功能,例如偏光性能。隐藏,能够通过防止延伸处理中的撕裂 或卷曲,并且能够通过容易地延伸偏光材料例如PVA树脂而形成偏光膜。
【附图说明】
[0060] 图1是示例性的积层体的剖视图。
【具体实施方式】
[0061] 下面,将参考实施例和比较例对本申请进行详细描述,但本申请的范围不限于下 面的实施例。
[0062] 通过下面的方法测量实施例和比较例中的性质。
[0063] 1.拉伸特性的评估
[0064] 通过下面的方法评估基膜或偏光材料层(实施例和比较例中的PVA树脂膜)的拉 伸特性。通过将实施例或比较例的基膜或偏光材料层切成15mmX90mm(宽X长)的尺寸制 备样本。然后将该样本的顶部的10mm W及底部的10mm粘贴并固定于测量设备狂P plus, ΤΑ)中。接着,图示出在室溫W 300mm/min的延伸速度在纵向上延伸直到所述样本断裂为止 的距离对所测定的力的图狂轴:距离,Y轴:力)
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