液晶显示面板的像素结构及像素形成方法
【专利摘要】本发明公开了一种液晶显示面板的像素结构及像素形成方法，该像素结构包括一第一基板；一彩色滤光层，形成于该第一基板上，该彩色滤光层包括多个滤光区块，用以过滤光线，及多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块；一覆盖层，形成于该第一遮光区块上；一第二基板；一薄膜晶体管，形成于该第二基板上；一主间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置；及一子间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置；其中该主间隔单元的一端与该覆盖层接触，且该子间隔单元与该第二遮光区块之间形成空隙。本发明可以减少液晶显示面板的产品开发复杂度。
【专利说明】
液晶显示面板的像素结构及像素形成方法
技术领域
[0001]本发明涉及一种液晶显示面板的像素结构及像素形成方法，特别是涉及一种可简化液晶显示面板制程的像素结构及像素形成方法。
【背景技术】
[0002]在液晶显示面板的制程中，为了在上下两基板之间形成空隙以填注液晶，液晶显示面板的上基板或下基板上会形成有多个主间隔单元及子间隔单元。主间隔单元的顶端会顶到另一基板以提供支撑，而子间隔单元和另一基板之间形成有空隙，以预留基板受力时的变形空间。在现有技术中，为了形成主间隔单元及子间隔单元，必须利用半色调光罩(halftone mask)制程精确地控制不同区块的曝光量，来使子间隔单元的长度比主间隔单元的长度短。然而半色调光罩制程的成本较高且制程较复杂，进而增加了液晶显示面板的产品开发困难度。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是:为了弥补现有技术的不足，提供一种液晶显示面板的像素结构，包括一第一基板；一彩色滤光层，形成于该第一基板上，该彩色滤光层包括多个滤光区块，用以过滤光线，及多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块；一覆盖层，形成于该第一遮光区块上；一第二基板；一薄膜晶体管，形成于该第二基板上；一主间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置；及一子间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置；其中该主间隔单元的一端与该覆盖层接触，且该子间隔单元与该第二遮光区块之间形成空隙。
[0004]本发明还提供一种液晶显示面板的像素形成方法，包括形成一彩色滤光层，于一第一基板上，该彩色滤光层包括多个滤光区块，用以过滤光线，及多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块；形成一覆盖层于该第一遮光区块上；形成一薄膜晶体管于一第二基板上；形成一主间隔单元于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置，且形成一子间隔单元于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置；及组合该第一基板及该第二基板；其中该主间隔单元的一端是与该覆盖层接触，且该子间隔单元与该第二遮光区块之间形成空隙。
【附图说明】
[0005]图1是本发明液晶显示面板的像素结构于组合前的示意图。
[0006]图2是本发明液晶显示面板的像素结构于组合后的示意图。
[0007]图3是本发明液晶显示面板的像素形成方法的流程图。
[0008]其中，附图标记说明如下:
[0009]110 第一基板
[0010]112 彩色滤光层
[0011]114滤光区块
[0012]116第一遮光区块
[0013]117覆盖层
[0014]118第二遮光区块
[0015]120第二基板
[0016]130液晶层
[0017]PSl主间隔单元
[0018]PS2子间隔单元
[0019]TFT薄膜晶体管
[0020]200流程图
[0021]210 至260 步骤
【具体实施方式】
[0022]请同时参考图1及图2。图1是本发明液晶显示面板的像素结构于组合前的示意图。图2是本发明液晶显示面板的像素结构于组合后的示意图。如图所示，本发明液晶显示面板的像素结构包括一第一基板110及一第二基板120。第一基板110上形成有一彩色滤光层112。彩色滤光层112包括多个滤光区块114 (例如红色滤光区块、绿色滤光区块、蓝色滤光区块)、第一遮光区块116及第二遮光区块118。滤光区块114是用以过滤光线，滤光区块114是分别由不同颜色的光阻材料所形成。第一遮光区块116及第二遮光区块118是用以阻隔光线。第一遮光区块116上还形成有一覆盖层117。第二基板120上形成有一薄膜晶体管TFT，一主间隔单元PSl及一子间隔单元PS2。主间隔单元PSl是形成于第二基板120上对应于第一遮光区块116的位置。子间隔单元PS2是形成于第二基板120上对应于第二遮光区块118的位置。主间隔单元PSl及子间隔单元PS2的长度相同。当第一基板110和第二基板120相互组合时，由于第一遮光区块116上形成有覆盖层117，因此主间隔单元PSl会和第一基板110上的覆盖层117接触，以在第一基板110和第二基板120之间提供支撑力，进而于第一基板110和第二基板120之间形成空隙，如此液晶材料可进一步填充于第一基板110及第二基板120之间的空隙，以形成一液晶层130。另外，由于第二遮光区块118上没有形成覆盖层，因此子间隔单元PS2和第一基板110上的第二遮光区块118之间形成有空隙，以预留第一基板110及/或第二基板120受力时的变形空间。当形成液晶层130之后，薄膜晶体管TFT可施加电压于液晶层130，以驱动液晶转动，进而显示图像。
[0023]依据上述配置，本发明液晶显示面板的像素结构的主间隔单元PSl及子间隔单元PS2的长度可以相同，而不需要利用半色调光罩(halftone mask)制程来使子间隔单元PS2的长度比主间隔单元PSl的长度短。换句话说，主间隔单元PSl及子间隔单元PS2可以利用一般光罩在同一个制程中同时形成，进而减少生产成本及简化制程。因此当本发明液晶显示面板的像素结构应用于液晶显示面板的制程时，可以减少液晶显示面板的产品开发困难度。
[0024]另外，在本发明实施例中，覆盖层117是由至少一光阻材料所形成。举例来说，在形成彩色滤光层112时，覆盖层117和多个滤光区块114其中之一滤光区块(例如红色滤光区块)可以同时形成，而不需新增一道制程以形成覆盖层117。
[0025]再者，在本发明上述实施例中，主间隔单元PSl的一端是和第一基板110上的覆盖层117的上表面接触，然而，在本发明其他实施例中，主间隔单元PSl的一端亦可以被第一基板110上的覆盖层117包覆，也就是说，主间隔单元PSl的一端是插入第一基板110上的覆盖层117以提供支撑力。
[0026]请参考图3，图3是本发明液晶显示面板的像素形成方法的流程图200。本发明液晶显示面板的像素形成方法的流程如下列步骤:
[0027]步骤210:形成一彩色滤光层，于一第一基板上，该彩色滤光层包括多个滤光区块，用以过滤光线，及多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块；
[0028]步骤220:形成一覆盖层于该第一遮光区块上；
[0029]步骤230:形成一薄膜晶体管于一第二基板上；
[0030]步骤240:形成一主间隔单元于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置，且形成一子间隔单元于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置；
[0031]步骤250:组合该第一基板及该第二基板；及
[0032]步骤260:形成一液晶层于该第一基板和该第二基板之间。
[0033]另外，在本发明方法中，覆盖层和多个滤光区块其中之一滤光区块可以同时形成，也就是说，覆盖层是由至少一光阻材料所形成，且步骤210及步骤220可以同时执行。再者，在步骤240中，主间隔单元及子间隔单元也是可以同时形成，且主间隔单元的一端是被覆盖层所包覆。
[0034]相较于现有技术，本发明液晶显示面板的像素结构的主间隔单元PSl及子间隔单元PS2的长度可以相同，而不需要利用半色调光罩制程来使子间隔单元的长度比主间隔单元的长度短。因此本发明液晶显示面板的像素结构及像素形成方法可以减少生产成本及简化制程，进而减少液晶显示面板的产品开发困难度。
[0035]以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种液晶显示面板的像素结构，其特征在于，包括: 一第一基板; 一彩色滤光层，形成于该第一基板上，该彩色滤光层包括: 多个滤光区块，用以过滤光线；及 多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块； 一覆盖层，形成于该第一遮光区块上； 一第二基板； 一薄膜晶体管，形成于该第二基板上； 一主间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置；及 一子间隔单元，形成于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置； 其中该主间隔单元的一端与该覆盖层接触，且该子间隔单元与该第二遮光区块之间形成空隙。2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该主间隔单元及该子间隔单元的长度相同。3.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该覆盖层是由至少一光阻材料所形成。4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，该主间隔单元的一端是被该覆盖层包覆。5.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，还包括一液晶层，设置于该第一基板及该第二基板之间。6.一种液晶显示面板的像素形成方法，其特征在于，包括: 形成一彩色滤光层，于一第一基板上，该彩色滤光层包括多个滤光区块，用以过滤光线，及多个遮光区块，用以阻隔光线，该些遮光区块包括一第一遮光区块及一第二遮光区块； 形成一覆盖层于该第一遮光区块上； 形成一薄膜晶体管于一第二基板上； 形成一主间隔单元于该第二基板上对应于该第一遮光区块的位置，且形成一子间隔单元于该第二基板上对应于该第二遮光区块的位置；及组合该第一基板及该第二基板； 其中该主间隔单元的一端是与该覆盖层接触，且该子间隔单元与该第二遮光区块之间形成空隙。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，该主间隔单元及该子间隔单元是同时形成，且该主间隔单元的一端是被该覆盖层包覆。8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，该覆盖层是由至少一光阻材料所形成。9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，该覆盖层和该多个滤光区块其中之一滤光区块是同时形成。10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，还包括形成一液晶层于该第一基板及该第二基板之间。
【文档编号】G02F1/1335GK105824146SQ201510013317
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2015年1月10日
【发明人】方斯郁
【申请人】南京瀚宇彩欣科技有限责任公司, 瀚宇彩晶股份有限公司