一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置。
【背景技术】
[0002]采用溶液加工制作OLED以及QLED显示器，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。
[0003]在印刷工艺中，由于受设备精度以及液滴尺寸的影响，对于传统的RGB Stripe(RGB条状)排列的像素结构，很难实现高分辨率显示器件的制备。当显示器件的分辨率达到200 ppi时，各子像素的宽度会减小到42 μm，同时由于像素界定层的存在，子像素的真实宽度会进一步减小到35 μ m左右，而对于10 pL体积的墨水，其直径就达27 μ m。如果再进一步提高分辨率，子像素尺寸会进一步减小，所以就很难控制各子像素内墨水相互独立而不溢出像素。
[0004]中国专利(CN 104009066A)中公开了一种像素排布结构，通过将相连像素的子像素共用Mask (掩膜)上的开口，从而有效提高显示器件的分辨率。但是，在印刷工艺中，单纯的引入这种像素排布结构，随着分辨率的增大，各子像素内的墨水还是会因像素尺寸变小而溢出像素坑，与相邻不同颜色的子像素发生颜色串扰，引起显示器件显示效果下降，因此在印刷工艺中直接应用这种结构，还是无法减小子像素的尺寸同时保持不同颜色子像素间沉积墨水的相互独立，因此这种像素结构无法实现高分辨率显示器的印刷工艺的制作。
[0005]在印刷工艺制备OLED的显示屏的工艺中，中国专利(CN 104393192 A，CN104409653 A)公布了一种像素结构设计，即各子像素采用双层像素界定层，第一层为亲水薄膜，第二层为疏水薄膜，从而实现墨水在像素电极附近的良好铺展与成膜，同时由于像素的第二界定层的疏水性，墨水在像素上形成较大接触角，从而防止墨水溢出，有效实现OLED显示屏的印刷工艺制备。但这种像素结构同样无法避免因显示器件分辨率增大引起像素面积减小，进而导致墨水因体积过大溢出像素坑，最终造成显示器件像素颜色串扰的问题。
[0006]因此，现有技术还有待于改进和发展。
【发明内容】
[0007]鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置，旨在解决现有技术中因显示器件分辨率增大而引起像素面积减小、进而导致墨水溢出像素坑造成颜色串扰的问题。
[0008]本发明的技术方案如下:
一种像素界定层结构，其中，包括第一像素界定层和位于第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第一像素界定层具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口。
[0009]所述的像素界定层结构，其中，所述第一像素界定层的厚度为50~500nm。
[0010]所述的像素界定层结构，其中，所述第二像素界定层的厚度为1000~5000nm。
[0011 ] 所述的像素界定层结构，其中，所述第一像素界定层为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层为疏水性薄膜层。
[0012]所述的像素界定层结构，其中，所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜，所述疏水性薄膜层为正性光阻薄膜。
[0013]—种显示面板，其中，其包括形成在阵列基板上的如上所述的像素界定层结构。
[0014]所述的显示面板，其中，所述阵列基板上的像素结构包括三种颜色的子像素构成的多个像素单元；每一像素单元由三种子像素成品字型排列形成正方形结构。
[0015]所述的显示面板，其中，所述子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。
[0016]一种显示装置，其中，包括如上所述的显示面板。
[0017]—种像素界定层结构的制备方法，其中，包括步骤:
在阵列基板上形成一层亲水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层；
在形成有第一像素界定层的阵列基板上形成一层疏水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口的第二像素界定层。
[0018]有益效果:通过本发明中的像素界定层结构，将同种颜色的多个子像素结合在一起同时印刷，从而成倍的增大了墨水的沉积区域。因此本发明可以有效减小各子像素的尺寸同时保证墨水不会因子像素面积过小而发生溢出，最终实现印刷型高分辨率显示器件的制备。
【附图说明】
[0019]图1为本发明的像素界定结构的较佳实施例的结构示意图。
[0020]图2为本发明的像素界定层结构的制作方法较佳实施例的流程图。
[0021]图3至图7为本发明的像素界定层结构制作方法的不同状态侧面剖视图。
【具体实施方式】
[0022]本发明提供一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0023]本发明所提供的一种像素界定层结构，如图1所示，包括第一像素界定层和位于第一像素界定层120上的第二像素界定层130，所述第一像素界定层120具有与各个子像素(如图1中的蓝色子像素111、绿色子像素112、红色子像素113)的发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层130具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口。
[0024]通过本发明的结构设计，可将同种颜色的多个子像素结合在一起同时印刷，从而成倍的增大了墨水的沉积区域。因此，通过这种结构可以有效减小单个子像素的尺寸同时保证墨水不会因子像素面积过小而发生溢出，最终实现印刷型高分辨率显示器件的制备。
[0025]其中的第一像素界定层120为亲水材料制备(亲水性薄膜层)，开口与各子像素的发光区域一一对应，第一像素界定层120定义了各子像素的发光区域；第二像素界定层130为疏水材料制备(疏水性薄膜层)，其中聚集在一起的具有相同颜色的子像素共用一个第二像素界定层130的开口，第二像素界定层130定义了印刷工艺中墨水的沉积区域，即第二像素界定层130的开口区域为多个子像素共用，从而大幅提高墨水的沉积面积，防止墨水溢出。
[0026]第一像素界定层120的厚度为50nm~500nm，第二像素界定层130的厚度为1000nm~5000nm。在印刷制备过程中，共用开口区域内的子像素是同时进行印刷制备的，由于第一像素界定层120为亲水材料制备，因此墨水沉积到这些区域后会在整个区域形成良好的铺展，由于共用的开口区域面积相对于单个子像素的面积成倍增大，结合第二像素界定层130的疏水性，因此可以沉积更多的墨水而不发生溢出。所以，采用本发明的结构，可以缩小子像素的尺寸同时保持墨水在沉积区域不发生溢出，从而提高显示器件的分辨率。
[0027]所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜，所述疏水性薄膜层为正性光阻薄膜。这样在曝光显影时互不影响。
[0028]本发明还提供上述像素界定层结构的制备方法，如图2所示，其包括:
5101、在阵列基板上形成一层亲水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层；
5102、在形成有第一像素界定层的阵列基板上形成一层疏水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口的第二像素界定层。
[0029]具体来说，如图3所示，首先在已经制作了 TFT阵列210以及图案化透明阳极220(用于形成各种颜色的子像素)的阵列基板200上沉积一层亲水性薄膜层，其中，所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜，随后对这层亲水性薄膜层进行曝光显影，形成与透明阳极220一一对应的开口，如图4所示，形成第一像素界定层120，图5为制作了第一像素界定层120的阵列基板