一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及相关装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及相关装置，由于在预设区域至少有两层彩色光阻层，当对各彩色光阻层的图形进行热烘处理时，预设区域中的彩色光阻层可以构成隔垫物；并且由于在热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在热烘处理之前预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关，因此通过控制预设区域中的相邻两层彩色光阻层之间的交叠面积，可以在不影响彩色光阻层的厚度的情况下精细调整隔垫物的高度，从而不影响液晶显示面板的色度并降低工艺控制难度。
【专利说明】
一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及相关装置
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板、液晶显示面板及显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板(LCD，Liquid Crystal Display)，一般由彩膜基板和阵列基板对盒而成，且液晶分子层夹在彩膜基板和阵列基板之间，为了保证液晶分子层的厚度的均一性，通常需要设置支撑用的隔垫物。
[0003]现有的彩膜基板，一般包括:红色光阻层、绿色光阻层和蓝色光阻层，位于不同光阻层之间的黑矩阵以及位于黑矩阵上的主隔垫物和次隔垫物;其中主隔垫物的高度大于次隔垫物的高度。目前，一般在制作不同光阻层的工艺中，虽然可以使一种光阻层与主隔垫物和次隔垫物同时形成，但是由于不同掩膜板中对应形成光阻层的区域的光透过率相同，并且掩膜板中对应形成光阻层的区域的光透过率与对应形成主隔垫物区域的光透过率和对应形成次隔垫物区域的光透过率之间的关系是固定的。因此，当根据实际需求调整主隔垫物和次隔垫物的高度时，会造成该光阻层的厚度发生变化，从而导致液晶显示面板的色度变化，以及导致工艺控制难度加大。
【发明内容】
[0004]本发明实施例提供一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板、液晶显示面板及显示装置，用以解决现有技术中当根据实际需求调整主隔垫物和次隔垫物的高度时，造成的彩色光阻层的厚度发生变化导致的显示面板的色度变化以及工艺控制难度加大的问题。
[0005]因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，包括:
[0006]在衬底基板上依次形成至少三种彩色光阻层的图形；其中，在预设区域至少有两层彩色光阻层，以所述预设区域中靠近所述衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，所述第一光阻层在所述预设区域中的厚度高于所述第一光阻层在除所述预设区域之外的其它区域的厚度；
[0007]在形成各彩色光阻层的图形之后，还包括:对各所述彩色光阻层的图形进行热烘处理，所述预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物；并且在所述热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在所述热烘处理之前所述预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。
[0008]较佳地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，所述预设区域包括第一预设区域和第二预设区域，所述第一预设区域的隔垫物的高度大于所述第二预设区域的隔垫物的高度。
[0009]较佳地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数大于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数。
[0010]较佳地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数等于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数，且所述第一预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于所述第二预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。
[0011]较佳地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，各所述彩色光阻层的图形分别通过一次构图工艺形成。
[0012]相应地，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，覆盖所述衬底基板的至少三种彩色光阻层的图形，还包括:位于预设区域中的隔垫物，且所述隔垫物由至少两层所述彩色光阻层经过热烘处理后形成；
[0013]以所述预设区域中靠近所述衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，所述第一光阻层在所述预设区域中的厚度高于所述第一光阻层在除所述预设区域之外的其它区域的厚度;并且所述隔垫物的高度与在所述热烘处理之前所述预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。
[0014]较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述预设区域包括第一预设区域和第二预设区域，所述第一预设区域的隔垫物的高度大于所述第二预设区域的隔垫物的高度。
[0015]较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数大于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数。
[0016]较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数等于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数，且所述第一预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于所述第二预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。
[0017]相应地，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种彩膜基板。
[0018]相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一种液晶显不面板。
[0019]本发明实施例提供的上述彩膜基板的制备方法、彩膜基板、液晶显示面板及显示装置，由于在预设区域至少有两层彩色光阻层，当对各彩色光阻层的图形进行热烘处理时，预设区域中的彩色光阻层可以构成隔垫物;并且由于在热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在热烘处理之前预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关，因此通过控制预设区域中的相邻两层彩色光阻层之间的交叠面积，可以在不影响彩色光阻层的厚度的情况下精细调整隔垫物的高度，从而不影响液晶显示面板的色度并降低工艺控制难度。
【附图说明】
[0020]图1为本发明实施例提供的彩膜基板的制备方法的流程图；
[0021]图2a为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图之一；
[0022]图2b为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面结构示意图之二；
[0023]图3a至图3e分别为实施例一执行各步骤后的剖面结构示意图；
[0024]图4a和图4b分别为实施例二执行各步骤后的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0025]为了使本发明的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图，对本发明实施例提供的彩膜基板的制备方法、彩膜基板、液晶显示面板及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0026]附图中各层薄膜厚度和形状不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本
【发明内容】
。
[0027]本发明实施例提供了一种彩膜基板的制备方法，如图1所示，包括以下步骤:
[0028]S101、在衬底基板上依次形成至少三种彩色光阻层的图形;其中，在预设区域至少有两层彩色光阻层，以预设区域中靠近衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，第一光阻层在预设区域中的厚度高于第一光阻层在除预设区域之外的其它区域的厚度；
[0029]S102、在形成各彩色光阻层的图形之后，还包括:对各彩色光阻层的图形进行热烘处理，预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物；并且在热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在热烘处理之前预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。
[0030]本发明实施例提供的上述彩膜基板的制备方法，包括:在衬底基板上依次形成至少三种彩色光阻层的图形;其中，在预设区域至少有两层彩色光阻层，以预设区域中靠近衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，第一光阻层在预设区域中的厚度高于第一光阻层在除预设区域之外的其它区域的厚度;在形成各彩色光阻层的图形之后，还包括:对各彩色光阻层的图形进行热烘处理，预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物;并且在热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在热烘处理之前预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。上述制备方法通过控制预设区域中的相邻两层彩色光阻层之间的交叠面积，可以在不影响彩色光阻层的厚度的情况下精细调整隔垫物的高度，从而不影响液晶显示面板的色度并降低工艺控制难度。
[0031]在具体实施时，以预设区域Q中具有两层彩色光阻层200_m(m=l、2)为例，通过本发明实施例提供的上述制备方法制备得到的彩膜基板，如图2a和图2b所示，靠近衬底基板100的彩色光阻层200_1为第一光阻层。如图2a所示，在热烘处理之前，在预设区域Q中彩色光阻层200_1与彩色光阻层200_2的交叠面积为SI。在热烘处理之后，预设区域Q中彩色光阻层200_1与彩色光阻层200_2形成的隔垫物的高度为hi。如图2b所示，在热烘处理之前，在预设区域Q中彩色光阻层200j与彩色光阻层200_2的交叠面积为S2，并且交叠面积S2小于交叠面积SI。在热烘处理之后，预设区域Q中彩色光阻层200_1与彩色光阻层200_2形成的隔垫物的高度为h2，并且高度h2小于高度hi。因此，预设区域Q中，在热烘处理之前，相邻两层彩色光阻层200_1和彩色光阻层200_2的交叠面积越大，在热烘处理之后，得到的隔垫物的高度越高。
[0032]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，各彩色光阻层的图形分别通过一次构图工艺形成。这样可以通过灰度掩膜板或半透掩膜板同时形成预设区域内的厚度高于除预设区域之外的其它区域的厚度的第一光阻层。其中，与预设区域对应的灰度掩膜板或半透掩膜板的光透过率大于与除预设区域之外的其它区域对应的灰度掩膜板或半透掩膜板的光透过率。
[0033]需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影、热烘等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
[0034]在具体实施时，由于在制备各彩色光阻层的工艺中具有热烘处理，因此，本发明实施例提供的制备方法中，在对各彩色光阻层的图形进行热烘处理使预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物，可以不同额外增加热烘处理的工艺步骤，从而可以节省制备成本。
[0035]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，各彩色光阻层的材料为与各彩色光阻层对应颜色的感光性树脂光刻胶。这样可以直接通过光刻工艺制作不同颜色的彩色光阻层，从而可以简化工艺制备过程。
[0036]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，预设区域包括第一预设区域和第二预设区域，第一预设区域的隔垫物的高度大于第二预设区域的隔垫物的高度。这样可以确定第一预设区域的隔垫物为主隔垫物，第二预设区域中的隔垫物为次隔垫物。
[0037]具体地，可以通过控制预设区域中彩色光阻层的层数控制形成的隔垫物的基础高度，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，第一预设区域中彩色光阻层的层数大于第二预设区域中彩色光阻层的层数。
[0038]具体地，可以采用不同光透过率的半透掩膜板或灰度掩膜板控制预设区域中彩色光阻层的厚度以控制主隔垫物和次隔垫物的基础高度，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，第一预设区域中彩色光阻层的层数等于第二预设区域中彩色光阻层的层数，且第一预设区域中各彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于第二预设区域中各彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。
[0039]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，衬底基板可以为玻璃基板，或者，衬底基板也可以为具有多个像素区域的阵列基板，在此不作限定。
[0040]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制备方法中，当衬底基板为阵列基板时，在衬底基板上依次形成至少三种彩色光阻层的图形之前，还包括:在衬底基板的各像素区域中形成至少一个薄膜晶体管的图形。
[0041]进一步地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，在衬底基板上一般还设置有例如黑矩阵等其它结构和膜层，由于这些结构和膜层的设置均与现有技术相同，在此不作赘述。
[0042]下面以衬底基板上包括三种彩色光阻层，即第一种彩色光阻层、第二种彩色光阻层和第三种彩色光阻层为例对本发明提供的制备方法进行说明，但不限制本发明。
[0043]实施例一、
[0044]当第一预设区域中彩色光阻层的层数等于第二预设区域中彩色光阻层的层数时，以第一预设区域和第二预设区域分别包括两层彩色光阻层为例进行说明。
[0045]该彩膜基板的制作过程，具体可以包括以下步骤:
[0046](I)通过一次构图工艺在衬底基板100上形成第一种彩色光阻层110_1的图形，如图3a所示。
[0047]具体地，采用旋涂法在衬底基板100上涂覆第一种彩色感光性树脂光刻胶，然后利用灰度掩膜板或半透掩膜板进行曝光，再经过显影和热烘处理后，形成作为第一光阻层的第一种彩色光阻层110_1的图形，如图3a所示。
[0048](2)在形成有第一种彩色光阻层110_1的图形的衬底基板100上形成第二种彩色感光性树脂光刻胶，对第二种彩色感光性树脂光刻胶进行图案化处理，分别在衬底基板100上形成第二种彩色光阻层110_2的图形，以及在第一预设区域0_1中的第一种彩色光阻层110_I上形成一层第二种彩色光阻层110_2的图形;其中，在第一预设区域Q_1中，第一种彩色光阻层110_1与第二种彩色光阻层110_2具有交叠面积S_l;如图3b所示。
[0049]具体地，采用旋涂法在形成有第一种彩色光阻层110_1的衬底基板100上涂覆第二种彩色感光性树脂光刻胶，然后利用灰度掩膜板或半透掩膜板进行曝光，再进行显影后，在衬底基板100上形成第二种彩色光阻层110_2的图形，以及在第一预设区域0_1中形成位于第一种彩色光阻层110_1上的一层第二种彩色光阻层110_2的图形；如图3b所示，在第一预设区域Q_1中，第一种彩色光阻层110_1与第二种彩色光阻层110_2之间具有交叠面积S_l。
[0050](3)对形成有第二种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理，使第一预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物。
[0051]具体地，对形成有第二种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理后，第一预设区域Q_1中的隔垫物120j包括:第一种彩色光阻层110_1与第二种彩色光阻层110_2，且具有高度11_1，如图3c所示。
[0052](4)在形成有第二种彩色光阻层110_2的图形的衬底基板100上形成第三种彩色感光性树脂光刻胶，对第三种彩色感光性树脂光刻胶进行图案化处理，分别在衬底基板100上形成第三种彩色光阻层110_3的图形，以及在第二预设区域0_2中的第二种彩色光阻层110_2上形成一层第三种彩色光阻层110_3的图形;其中，在第二预设区域Q_2中，第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3具有交叠面积S_2;如图3d所示。
[0053]具体地，采用旋涂法在形成有第二种彩色光阻层110_2的衬底基板100上涂覆第三种彩色感光性树脂光刻胶，然后利用灰度掩膜板或半透掩膜板进行曝光，再进行显影后，在衬底基板100上形成第三种彩色光阻层110_3的图形，以及在第二预设区域0_2中形成位于第二种彩色光阻层110_2上的一层第三种彩色光阻层110_3的图形；如图3d所示，在第二预设区域S_2中第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3之间具有交叠面积S_2，并且，交叠面积S_1大于交叠面积S_2。
[0054](5)对形成有第三种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理，使第二预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物。
[0055]具体地，对形成有第三种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理，第二预设区域0_2中的隔垫物120_2包括:第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3共两层光阻层且具有高度h_2，其中高度h_2大于高度11_3，如图3e所示。
[0056]在具体实施时，步骤(2)(3)和步骤(4)(5)的顺序可以根据实际需要将制作工艺流程进行互换。这样可以先形成较低高度的隔垫物，再形成较高高度的隔垫物。
[0057]实施例二、
[0058]当第一预设区域中彩色光阻层的层数大于第二预设区域中彩色光阻层的层数时，以第一预设区域包括三层彩色光阻层，第二预设区域包括两层彩色光阻层为例进行说明。
[0059]该彩膜基板的制作步骤除了包括实施例一中的步骤(I)至步骤(3)，还包括以下步骤:
[0060](4)在形成有第二种彩色光阻层110_2的图形的衬底基板100上形成第三种彩色感光性树脂光刻胶，对第三种彩色感光性树脂光刻胶进行图案化处理，分别在衬底基板100上形成第三种彩色光阻层110_3的图形，以及在第一预设区域Qj中形成位于隔垫物120 j上的一层第三种彩色光阻层110_3的图形，以及在第二预设区域0_2中形成位于第二种彩色光阻层110_2上的一层第三种彩色光阻层110_3的图形;在第一预设区域5_1中，第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3之间具有交叠面积S_l，在第二预设区域5_2中第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3之间具有交叠面积S_2，并且交叠面积S_1大于交叠面积3_2 ；如图4a所示。
[0061]具体地，采用旋涂法在形成有第二种彩色光阻层110_2的衬底基板100上涂覆第三种彩色感光性树脂光刻胶，然后利用灰度掩膜板或半透掩膜板进行曝光，再进行显影后，在衬底基板100上形成第三种彩色光阻层110_3的图形，并且分别在第一预设区域Qj中形成位于隔垫物120 j上的一层第三种彩色光阻层110_3的图形，以及在第二预设区域0_2中形成位于第二种彩色光阻层110_2上的一层第三种彩色光阻层110_3的图形；如图4a所示，在第一预设区域S_1中，第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3之间具有交叠面积3_1，在第二预设区域5_2中第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3之间具有交叠面积3_2，并且交叠面积S_1大于交叠面积S_2。
[0062](5)对形成有第三种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理，分别使第一预设区域和第二预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物。
[0063]具体地，对形成有第三种彩色光阻层的衬底基板进行热烘处理，第一预设区域5_1中的隔垫物120_1包括:第一种彩色光阻层110_1、第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3，且具有高度h_2，以及第二预设区域Q_2中的隔垫物120_2包括:第二种彩色光阻层110_2与第三种彩色光阻层110_3，且具有高度h_3，其中高度11_2大于高度11_3，如图4b所不O
[0064]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，如图3e和图4b所示，包括衬底基板100，覆盖衬底基板100的至少三种彩色光阻层110_n(n= 1、2、3)的图形，还包括:位于预设区域Q_p(p=l、2)中的隔垫物120_p，且隔垫物由至少两层彩色光阻层经过热烘处理后形成；
[0065]以预设区域Q_p中靠近衬底基板100的彩色光阻层110_n为第一光阻层，第一光阻层在预设区域Q_P中的厚度高于第一光阻层在除预设区域Q_P之外的其它区域的厚度;并且隔垫物120_p的高度与在热烘处理之前预设区域Q_p中相邻两层彩色光阻层的交叠面积S_p呈正相关。
[0066]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图3e和图4b所示，预设区域Q_P包括第一预设区域Q_1和第二预设区域9_2，第一预设区域Qj的隔垫物120_1的高度大于第二预设区域Q_1的隔垫物120_2的高度。
[0067]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图4b所示，第一预设区域Q_1中彩色光阻层的层数大于第二预设区域Q_2中彩色光阻层的层数。
[0068]具体地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图3e所示，第一预设区域Q_1中彩色光阻层的层数等于第二预设区域Q_1中彩色光阻层的层数，且第一预设区域中各彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于第二预设区域中各彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。
[0069]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种彩膜基板。该液晶显示面板解决问题的原理与上述彩膜基板相似，因此该液晶显示面板的实施可以参见前述彩膜基板的实施，重复之处在此不再赘述。
[0070]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示面板。该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示装置的实施可以参见上述彩膜基板的实施例，重复之处不再赘述。
[0071]本发明实施例提供的上述彩膜基板的制备方法、彩膜基板、液晶显示面板及显示装置，由于在预设区域至少有两层彩色光阻层，当对各彩色光阻层的图形进行热烘处理时，预设区域中的彩色光阻层可以构成隔垫物;并且由于在热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在热烘处理之前预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关，因此通过控制预设区域中的相邻两层彩色光阻层之间的交叠面积，可以在不影响彩色光阻层的厚度的情况下精细调整隔垫物的高度，从而不影响液晶显示面板的色度并降低工艺控制难度。
[0072]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括: 在衬底基板上依次形成至少三种彩色光阻层的图形；其中，在预设区域至少有两层彩色光阻层，以所述预设区域中靠近所述衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，所述第一光阻层在所述预设区域中的厚度高于所述第一光阻层在除所述预设区域之外的其它区域的厚度； 在形成各彩色光阻层的图形之后，还包括:对各所述彩色光阻层的图形进行热烘处理，所述预设区域中的彩色光阻层构成隔垫物;并且在所述热烘处理之后构成的隔垫物的高度与在所述热烘处理之前所述预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述预设区域包括第一预设区域和第二预设区域，所述第一预设区域的隔垫物的高度大于所述第二预设区域的隔垫物的高度。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数大于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数。4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数等于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数，且所述第一预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于所述第二预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。5.如权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，各所述彩色光阻层的图形分别通过一次构图工艺形成。6.—种彩膜基板，包括衬底基板，覆盖所述衬底基板的至少三种彩色光阻层的图形，其特征在于，还包括:位于预设区域中的隔垫物，且所述隔垫物由至少两层所述彩色光阻层经过热烘处理后形成； 以所述预设区域中靠近所述衬底基板的彩色光阻层为第一光阻层，所述第一光阻层在所述预设区域中的厚度高于所述第一光阻层在除所述预设区域之外的其它区域的厚度;并且所述隔垫物的高度与在所述热烘处理之前所述预设区域中相邻两层彩色光阻层的交叠面积呈正相关。7.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述预设区域包括第一预设区域和第二预设区域，所述第一预设区域的隔垫物的高度大于所述第二预设区域的隔垫物的高度。8.如权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数大于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数。9.如权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一预设区域中彩色光阻层的层数等于所述第二预设区域中彩色光阻层的层数，且所述第一预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和大于所述第二预设区域中各所述彩色光阻层在进行热烘处理之前的厚度之和。10.—种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求6-9任一项所述的彩膜基板。11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求10所述的液晶显示面板。
【文档编号】G02F1/1335GK105824148SQ201610371241
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2016年5月30日
【发明人】王龙, 刘园
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司