635纳米的窄带滤光片的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种光学薄膜技术，具体是635纳米的窄带滤光片。
【背景技术】
[0002]窄带滤光片的主要作用是对光进行光谱选择，使需要的光通过，不需要的波长光截止，它作为滤光和选择谱线的主要器件，有着广泛的应用。635纳米波长作为一种激光测距的光谱波长，现在的技术所提供的635纳米的窄带滤光片，其信噪比低，精度不高，不能满足市场要求。
【发明内容】
[0003]为了解决上述技术问题，我们提供一种635纳米窄带滤光片，从而实现成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于30D、透过率大于90%、具有良好信噪比、满足高精度的测量仪器的苛刻需要。
[0004]为达到上述目的，本实用新型公开一种635纳米的窄带滤光片，其特征是:以玻璃为基板，镀膜材料为Si02和Ti02 ;膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为Ti02层29纳米、Si02层132纳米、Ti02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层68纳米、Si02层431纳米、Ti02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层431纳米、Ti02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层90纳米、Si02层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为Ti02层28纳米、Si02层62纳米、Ti02层48纳米、Si02层73纳米、Ti02层44纳米、Si02层67纳米、Ti02层41纳米、Si02层66纳米、Ti02层41纳米、Si02层70纳米、Τ?02层39纳米、Si02层62纳米、Ti02层37纳米、Si02层63纳米、Ti02层34纳米、Si02层68纳米、Τ?02层53纳米、Si02层81纳米、Τ?02层47纳米、Si02层77纳米、Τ?02层50纳米、Si02层84纳米、Τ?02层59纳米、Si02层83纳米、Τ?02层49纳米、Si02层77纳米、Τ?02层49纳米、Si02层84纳米、Τ?02层61纳米、Si02层85纳米、Τ?02层48纳米、Si02层72纳米、Τ?02层36纳米、Si02层75纳米、Τ?02层92纳米、Si02层152纳米、Τ?02层97纳米、Si02层145纳米、Τ?02层83纳米、Si02层144纳米、Ti02层90纳米、Si02层145纳米、Ti02层85纳米、Si02层144纳米、Τ?02层88纳米、Si02层145纳米、Τ?02层88纳米、Si02层147纳米、Τ?02层93纳米、Si02层149纳米、Τ?02层101纳米、Si02层170纳米、Τ?02层111纳米、Si02层178纳米、Ti02层103纳米、Si02层169纳米、Τ?02层105纳米、Si02层175纳米、Τ?02层108纳米、Si02层173纳米、Ti02层104纳米、Si02层173纳米、Τ?02层107纳米、Si02层173纳米、Τ?02层108纳米、Si02层170纳米、Τ?02层103纳米、Si02层84纳米。
[0005]本实用新型公开一种635纳米的窄带滤光片，其特征为以玻璃为基板，以Si02和Τ?02为镀膜材料，采用电子束蒸发，真空度< 10\&，温度在小于250°(:以下的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式的控制，水晶监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于8A/S。
[0006]本实用新型在玻璃基板的两面，一面采用标准F-P结构进行，而另一面是一个截止次峰结构，这是一种非常优异的方法，可以大大提高产品特性，特别适用于大批量生产，物理特性也满足实际使用要求。
[0007]本实用新型提供一种635纳米的窄带滤光片，透过率T > 90%，截止区域的截止深度小于0.1%，获得优异的信噪比，比目前市场上的产品的性能有了大幅度的提高。
【附图说明】
[0008]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0009]图1为本实用新型实施例的结构示意图。
[0010]图中:11是玻璃基板12是第一膜系13是第二膜系。
[0011]图2为本实用新型实施例的测量曲线图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合实施例和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0013]本实用新型公开一种635纳米的窄带滤光片，其特征是:以玻璃为基板，镀膜材料为Si02和Ti02 ;膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为Τ?02层29纳米、Si02层132纳米、Τ?02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层68纳米、Si02层108纳米、Ti02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层90纳米、Si02层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为Ti02层28纳米、Si02层62纳米、Ti02层48纳米、Si02层73纳米、Ti02层44纳米、Si02层67纳米、Ti02层41纳米、Si02层66纳米、Τ?02层41纳米、Si02层70纳米、Τ?02层39纳米、Si02层62纳米、Τ?02层37纳米、Si02层63纳米、Τ?02层34纳米、Si02层68纳米、Τ?02层53纳米、Si02层81纳米、Τ?02层47纳米、Si02层77纳米、Τ?02层50纳米、Si02层84纳米、Ti02层59纳米、Si02层83纳米、Ti02层49纳米、Si02层77纳米、Ti02层49纳米、Si02层84纳米、Ti02层61纳米、Si02层85纳米、Τ?02层48纳米、Si02层72纳米、Τ?02层36纳米、Si02层75纳米、Τ?02层92纳米、Si02层152纳米、Τ?02层97纳米、Si02层145纳米、Τ?02层83纳米、Si02层144纳米、Ti02层90纳米、Si02层145纳米、Ti02层85纳米、Si02层144纳米、Ti02层88纳米、Si02层145纳米、Τ?02层88纳米、Si02层147纳米、Τ?02层93纳米、Si02层149纳米、Ti02层101纳米、Si02层170纳米、Ti02层111纳米、Si02层178纳米、Ti02层103纳米、Si02层169纳米、Ti02层105纳米、Si02层175纳米、Τ?02层108纳米、Si02层173纳米、Ti02层104纳米、Si02层173纳米、Τ?02层107纳米、Si02层173纳米、Τ?02层108纳米、Si02层170纳米、Τ?02层103纳米、Si02层84纳米。
[0014]通过上述技术方案，本实用新型通过采用玻璃为基板，以Si02和Ti02为镀膜材料，采用电子束蒸发，真空度< 10 3pa,温度在小于250°C以下的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式的控制，水晶监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于8 A/So透过率T >90%，半通带宽度为25纳米，通带以外区域0.4-1.1yTave的截止深度小于0.1%，所述性能的635纳米窄带滤光片为特性优异的窄带滤光片。
[0015]以上所述的仅是本实用新型的一种635纳米的窄带滤光片优选的实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变化和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种635纳米的窄带滤光片，其特征是:在基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为Ti02层29纳米、Si02层132纳米、Ti02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层68纳米、Si02层431纳米、Τ?02层68纳米、Si02层108纳米、Τ?02层90纳米、Si02层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为Ti02层28纳米、Si02层62纳米、Τ?02层48纳米、Si02层73纳米、Τ?02层44纳米、Si02层67纳米、Τ?02层41纳米、Si02层66纳米、Τ?02层41纳米、Si02层70纳米、Τ?02层39纳米、Si02层62纳米、Τ?02层37纳米、Si02层63纳米、Ti02层34纳米、Si02层68纳米、Ti02层53纳米、Si02层81纳米、Τ?02层47纳米、Si02层77纳米、Τ?02层50纳米、Si02层84纳米、Τ?02层59纳米、Si02层83纳米、Τ?02层49纳米、Si02层77纳米、Τ?02层49纳米、Si02层84纳米、Ti02层61纳米、Si02层85纳米、Τ?02层48纳米、Si02层72纳米、Τ?02层36纳米、Si02层75纳米、Τ?02层92纳米、Si02层152纳米、Τ?02层97纳米、Si02层145纳米、Ti02层83纳米、Si02层144纳米、Ti02层90纳米、Si02层145纳米、Ti02层85纳米、Si02层144纳米、Τ?02层88纳米、Si02层145纳米、Τ?02层88纳米、Si02层147纳米、Τ?02层93纳米、Si02层149纳米、Τ?02层101纳米、Si02层170纳米、Τ?02层111纳米、Si02层178纳米、Ti02层103纳米、Si02层169纳米、Ti02层105纳米、Si02层175纳米、Τ?02层108纳米、Si02层173纳米、Ti02层104纳米、Si02层173纳米、Ti02层107纳米、Si02层173纳米、Τ?02层108纳米、Si02层170纳米、Τ?02层103纳米、Si02层84纳米。
【专利摘要】本实用新型公开一种635纳米的窄带滤光片，其特征为：在基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计24层；第二膜系也是为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计68层。本实用新型提供成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于3OD，透过率大于90%，具有良好信噪比，满足高精度的激光测距仪的苛刻需要。
【IPC分类】G02B1/00, G02B5/20
【公开号】CN204855848
【申请号】CN201520551992
【发明人】王卫国, 其他发明人请求不公开姓名
【申请人】王卫国
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2015年7月28日