一种N阶声学超材料低频隔声结构的制作方法

技术总结
本发明公开了一种N阶声学超材料低频隔声结构，涉及机械噪声与环境噪声控制技术领域，所述结构包括多个沿x、y方向阵列扩展的(N


技术研发人员：王小鹏 叶鹰瑞 关天赐
受保护的技术使用者：西安交通大学
技术研发日：2020.10.23
技术公布日：2021/1/24