专利名称：具有多层薄膜的pdp滤光片及其制造方法
技术领域：
本发明涉及等离子体显示面板(PDP)滤光片及其制造方法，更具体涉及具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，所述滤光片具有高折射率及光透射率，并且可提高生产设备的生产率。
背景技术：
一般而言，在等离子体显示面板(PDP)装置中，氖气+氩气(Ne+Ar)、氖气+氙气(Ne+Xe)等气体被限制在一空间内，该空间由前玻璃板、后玻璃板和分隔玻璃板所覆盖。在这种情况下，对阳极和阴极施加电压，并发射出用作背光的荧光。
通常通过具有规则电压的连续脉冲来操作等离子体显示面板装置。此外，由于气体放电需要较高电压，例如数百伏特，所以通过放大图像信号来操作等离子体显示面板装置。有助于实现大尺寸显示装置的气体放电的特性可应用于等离子体显示面板装置的操作方法。于是，等离子体显示面板装置适用于大尺寸显示装置。在等离子体显示面板装置中，气体放电的发生是由于在电极上施加直流(DC)或交流(AC)电压所导致。在这种情况下，发射出紫外(UV)线，从而激发磷光体发射出可见光。但是，在等离子体显示面板装置工作时，发射出大量磷光体闪烁、电磁波及近红外线。此外，还产生由氦气(He)和氙气(Xe)发出的橙色光。于是，等离子体显示面板装置的色纯度(color purity)次于阴极射线管(CRT)的色纯度。
因此，为了克服上述缺点，在等离子体显示面板装置中使用等离子体显示面板滤光片，该滤光片可以屏蔽电磁波和近红外线、防止闪烁和/或改善色纯度。此外，由于等离子体显示面板滤光片安装在面板组合件的前部，所以等离子体显示面板滤波片还需要具有令人满意的透明度。产生电磁波的主要原因是驱动电路与交流电极之间流动的电流以及用于等离子体放电的电极之间的高电压。由这些原因产生的电磁波主要处于30～200MHz的频带内。通常，在可见光谱内保持高光透射率及低折射率的透明导电膜或导电网被用作电磁屏蔽层，用于屏蔽所产生的电磁波。
图1是说明根据现有技术的等离子体显示面板滤光片的截面图。
参考图1，根据现有技术的等离子体显示面板滤光片包含两个低反射膜110、透明基板120和涂覆层130。通常，低反射膜110的一侧用低反射率涂层处理，低反射膜110的另一侧涂覆粘着材料，以使低反射膜110与透明基板120易于粘结在一起。因此，在图1中，分别在低反射膜110的外侧用低反射率涂层处理，而在低反射膜110的面对透明基板120的内侧涂覆粘着材料。此外，必要时，在低反射膜110的一侧添加颜料(pigment)，以用于色彩校正。透明基板120是光透射率大于预定值的基板，且通常由透明玻璃组成。此外，涂覆层130形成在透明基板120的一侧，即面向等离子体显示面板模块前部的一侧，如图1所示。涂覆层130具有多层薄膜结构，其使等离子体显示面板滤光片能够屏蔽电磁波和具有令人满意的光透射率。因此，等离子体显示面板滤光片的特性可由所述多层薄膜的结构及组成来决定。
通常，等离子体显示面板滤光片可被划分为两个产品类别，其中一个产品类别要求薄膜电阻低于约1.5欧姆/平方，而另一产品类别要求薄膜电阻低于约2.5欧姆/平方。根据所有国家目前要求的安全标准，A类对应于薄膜电阻小于约2.5欧姆/平方的产品范围，B类对应于薄膜电阻小于约1.5欧姆/平方的产品类别。另外，多层薄膜中所包含的组件及层数随每一产品类别而变化。与薄膜电阻小于约2.5欧姆/平方的产品类别A相比，薄膜电阻小于约1.5欧姆/平方的产品类别B的光透射率较低、光反射率较高。与此相关，在目前广泛应用的等离子体显示面板滤光片中，当等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻低于约1.5欧姆/平方时，该等离子体显示面板滤光片具有插入四个银层的4-银(Ag)结构。当等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻低于大约2.5欧姆/平方时，该等离子体显示面板滤光片具有插入三个银层的3-银结构。
图2是说明现有技术的具有4-银结构的多层薄膜。参考图2，第一氧化物膜220、第二氧化物膜230及银(Ag)240被堆叠在透明基板210上。此外，为防止银240被第一氧化物膜220氧化，另一第二氧化物膜250被堆叠在银240上。此结构被堆叠四次，从而形成具有4-银结构的多层薄膜。
在上述多层薄膜中，需要堆叠多层第二氧化物膜250。因此，增加了所需的涂覆设备、生产成本及生产时间，进而降低了生产率。
此外，当使用反应沉积方法在银240上涂覆可成为高折射率层的另一第一氧化物膜260时，银240的电导率及光透射率可能被降低。因此，为防止此种转换，在银240上选择性地涂覆其它第二氧化物膜250或其它第一氧化物膜260。在这种情况下，其它第一氧化物膜260并不需要反应涂覆。此外，第一氧化物膜260的折射率在光学上较低，其可能影响等离子体显示面板滤光片的整体物理特性。
此外，氧化铟锡(ITO)的原料——铟的单位成本很高。氧化铟锡被广泛用作其它第二氧化膜250。
发明内容
本发明提供一种导电膜滤光片，其位于银(Ag)薄膜的上，并且不使电导率下降，本发明还提供一种等离子体显示面板滤光片的导电材料，其不需要附加的氧化物保护层。
本发明还提供一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片及其制造方法，其可以降低传统第二氧化物薄膜沉积的靶材成本，而不降低电导率，并且延缓该传统第二氧化物膜的退化过程。
本发明还提供一种具有简单结构的多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，该薄膜可以改善等离子体显示面板滤光片的折射率及光透射率。
本发明还提供一种不需要添加大量氧的涂覆方法，其可以提高涂覆设备的生产率。
本发明还提供一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，所述薄膜不需要额外形成第二氧化物膜层。
根据本发明的一方面，提供一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，所述等离子体显示面板滤光片包括透明基板；位于透明基板上的至少一个重复单元层，所述至少一个重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层及金属薄膜层，并且堆叠各重复单元层；和形成在所述至少一个重复单元层上部上的高折射率透明薄膜层。
根据本发明的另一方面，提供一种制造等离子体显示面板滤光片的方法，该方法包含在透明基板上堆叠至少一个重复单元层，所述至少一个重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层及金属薄膜层；以及在所述至少一个重复单元层的上部上堆叠高折射率透光薄膜层。
根据结合下图的以下详尽说明，本发明的上述和/或其它方面与优点将显而易见和更易于理解。
图1是说明根据现有技术的等离子体显示面板滤光片的截面图。
图2说明根据现有技术的具有4-银结构的多层薄膜。
图3说明根据本发明的一个实施方案的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构。
图4说明根据本发明的一个实施方案的具有3-银结构的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构。
图5说明根据本发明的另一实施方案的具有4-银结构的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构。
具体实施例方式
现在详尽说明本发明的具体实施方案，其实施例示于附图中，其中相同的附图标记始终代表相同组件。下文参考附图对实施方案进行说明，以解释本发明。
图3说明根据本发明的一个实施方案的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构。如图3所示，第一Nb2O5层310-1、第一掺铝氧化锌(AZO)层320-1、第一银层330-1及第二Nb2O5层310-2依次堆叠在透明基板210上。
采用银(AG)靶材，且使用氩作为第一银层330-1中的溅射气体。在此，所使用的氩量对应于约160～200sccm(每分钟标准气体流量)。此外，当形成Nb2O5层310-1和310-2时，使用氩作为溅射气体，使用氧作为反应气体。在此，所使用的氩量可以为约140～210sccm，氧量可以为约所用氩量的4～12％，优选8～12％。此外，当形成第一掺铝氧化锌层320-1时，使用氩作为溅射气体，使用氧作为反应气体。在此，所使用的氩量可以为约160～200sccm，氧量可以为所用氩量的约8～12％。对于银层330-1、AZO层320-1和Nb2O5层310-1及310-2，可使用直流(DC)溅射或中频(MF)溅射。
在根据本发明的多层薄膜中，金属薄膜层由银或包含银的合金形成。由于在多层堆叠时，银具有优异的电导率、红外线反射率及光透射率，故可以有效地使用银。但是，银的化学及物理稳定性较弱，会因为诸如污染物、水蒸气、热及光等环境因素而劣化。因此，可优选采用银与稳定的金属如金、铂、钯、铟和锡中至少一种的合金。在此，该合金中的银含量对应于小于约50-100wt％的值，尽管该合金中的银含量不受特别限制。通常，当在银中添加另一金属时，银的优异电导率及光学特性可能会被削弱。因此，要求多个金属薄膜层中的至少一个金属薄膜层不包含银与其它金属的合金。当整个金属薄膜层由银而非银的合金制成时，多层薄膜可具有优异的电导率及光学特性。但是，其对环境的适应力可能很弱。
参考图3，第一Nb2O5层310-1和第一AZO层320-1依次堆叠在透明基板210上。在此，透明基板210可以是透明玻璃。另外，第一Nb2O5层310-1的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第一AZO层320-1的厚度可以为约3～7nm。
在此，透明基板210通常采用厚度约2.0～3.5毫米的淬火玻璃或半淬火玻璃制成，或者采用诸如丙烯酸的透明塑料材料制成。透明基板210优选具有高透明性和耐热性。此外，高聚物复合物和高聚物复合物的堆叠体可被用作透明基板210。透明基板210可优选具有至少80％的透光率和至少约60℃的玻璃化转变温度。所述高聚物复合物在可见波长光谱内可以是透明的。此外，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚砜(PS)、聚醚砜(PES)、聚苯乙烯(polystyrene)、聚对萘二甲酸乙二酯(polyethylenenaphthalate)、聚芳酯(polyarylate)、聚醚醚酮(PEEK)聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚酰亚胺、三醋酸纤维素(TAC)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)可包含在所述高聚物复合物中。但是，上述高聚物复合物不限于上述给出名称的复合物。PET在价格、耐热性及透明度方面具有优势。
在图3中，第一银层330-1被涂覆在第一AZO层320-1上，从而形成第一金属薄膜层。在此，第一银层330-1的厚度符合约10～12nm。在现有技术中，采用氧化铟锡(ITO)层，而非AZO层。氧化铟锡在可见光谱的550nm波长下具有约90％的高光透射率、约2×10-4Ωcm的低电阻率h和高工作效能。因此，氧化铟锡被广泛用作液晶显示器(LCD)、PDP和有机发光二极管(OLED)的透明电极。但是，尽管具有这种光学和电学特性，ITO层的原料——铟(In)的生产成本非常高。相反，氧化锌(ZnO)在红外及可见光谱中具有高透光率，对于电导和等离子体具有高耐久性。因此，ZnO适用于制造暴露于辐射的中的透明基板。
通过上述操作形成的第一Nb2O5层310-1、第一AZO层320-1和第一银层330-1形成一个重复单元层。在形成重复单元层之后，可通过在第一银层330-1的顶部上堆叠第二高折射率透明薄膜层来制造具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片。根据现有技术，在形成第二高折射率透明薄膜层之前，应先涂覆第二氧化物层250，即第二ITO层，如图2所示。在此，第二氧化物层250用作阻挡层，以防止在涂覆另一第一Nb2O5层260时，由于氧等离子体而使银240的电导率退化。但是，根据本发明的涂覆方法引入靶材，其形成令人满意的电导率。在此，根据本发明的涂覆方法保持氧化条件。此外，所述涂覆方法用于沉积高折射率透明薄膜层，而不需要添加大量氧气。具体而言，在Nb2O5涂覆膜中，当利用靶材Nb2Ox涂覆Nb2O5覆膜时，其中x表示一介于4.5至4.99之间的值，可保持能够通电形成阴极的电导率。因此，可通过添加少量氧气来形成Nb2O5涂覆膜。在此，优选靶材Nb2Ox，其中x表示一介于4.8至4.99之间的值。可以在没有额外形成根据现有技术的第二氧化物层的情况下，使用此靶材Nb2Ox制造等离子体显示面板滤光片。
根据本发明的一个实施方案，可堆叠至少两个上述重复单元层。图4说明作为实施例的三个重复单元层的结构，图5说明作为实施例的四个重复单元层的结构的实例。
当包括至少三个重复单元层时，最接近透明基板210的重复单元层的高折射率透明薄膜层与最远离透明基板210的重复单元层的高折射率透明薄膜层具有相同厚度。位于所述至少三个重复单元层中间的重复单元层的高折射率透明薄膜的厚度不同于所述具有相同厚度的高折射率透明薄膜的厚度。根据重复单元层的数目，等离子体显示面板滤光片的物理特性可以改变，在下文将对其进行详尽说明。
图4说明根据本发明一个实施方案的具有3-银结构的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构。如图4所示，第一Nb2O5层310-1、第一AZO层320-1、第一银层330-1、第二Nb2O5层310-2、第二AZO层320-2、第二银层330-2、第三Nb2O5层310-3、第三AZO层320-3、第三银层330-3和第四Nb2O5层310-4被依次堆叠在透明基板210上。
第二重复单元层被依次堆叠在参考图3所描述的第一银层330-1上。具体而言，第二Nb2O5层310-2、第二AZO层320-2与第二银层330-2依次形成。在此，第二Nb2O5层310-2的厚度可以为约24～33nm，优选为约25～33nm，第二AZO层320-2的厚度可以为约3～7nm。此外，第二银层330-2的厚度可以为约11～14nm。
第三重复单元层被依次堆叠在第二重复单元层上。在此，第三Nb2O5层310-3的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第三AZO层320-3的厚度可以为约3～7nm。此外，第三银层330-3的厚度可以为约10～12nm。第三重复单元层的Nb2O5层310-3及AZO层320-3的各自厚度分别与第一重复单元层相应的Nb2O5层310-1及AZO层320-1的厚度相同。
可以通过在第三重复单元层的顶部堆叠第四Nb2O5层310-4来制造具有包含三个重复单元层的多层薄膜的等离子体显示面板滤光片。在此，第四Nb2O5层310-4的厚度可以为25～33nm。
根据本发明的一个实施方案，当涂覆Nb2O5层时，在氩气氛中利用Nb2O5靶材即陶瓷靶材而不是使用铌(Nb)靶材和反应溅射方法来涂覆Nb2O5层。当使用反应溅射时，所注入的氧气及氩气(Ar)量满足约200sccm。当使用陶瓷靶材时，所注入的氩气量满足约140～210sccm。此外，所注入的氧气量为氩气量的约4～12％，优选约8～12％。因此，在涂覆银层之后，甚至在向银层涂覆Nb2O5层时，银层的电导率也未退化。因此，即使在省略阻挡层，重复单元层的特性也没有发生变化。具体而言，根据现有技术，涂覆诸如ITO层或AZO层的阻挡层，以防止在涂覆Nb2O5层时由于氧等离子体而使银层的电导率退化。但是，在本发明中，可省略该阻挡层。具体而言，如图2所示的4-银结构的四个第二氧化物薄膜层不是必需的。
根据本发明的多层薄膜的高折射率透明薄膜层的平均折射率大于根据现有技术的高折射率透明薄膜层的平均折射率。在此，根据现有技术的高折射率透明薄膜层具有阻挡层。因此，根据本发明的高折射率透明薄膜层的光透射率及透光频宽可提高。
包含如图4所示的三个重复单元层的等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻为约0.9～2.5欧姆/平方，优选为约0.9～1.1欧姆/平方，光透射率为75±4％。
图5是说明根据本发明另一实施方案的具有4-银结构的等离子体显示面板滤光片的多层薄膜结构的视图。
与图4中多层薄膜的描述类似，多个重复单元层被依次堆叠。在此，重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层及金属薄膜层。用于形成如图5所示的多层薄膜的工艺条件与上文在图3及图4中所述的制造条件相同。另外，如图5所示，最接近透明基板210的第一重复单元层与最远离透明基板210的第四重复单元层具有相同厚度。第二重复单元层与第三重复单元层具有相同厚度，将在下文对此进行详尽描述。
包含在第一重复单元层中的第一Nb2O5层410-1的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第一AZO层420-1的厚度可以为约3～7nm。此外，第一银层430-1的厚度可以为约10～12nm。
第二Nb2O5层410-2、第二AZO层420-2和第二银层430-2被依次堆叠。在此，包含在第二重复单元层中的第二Nb2O5层410-2的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第二AZO层420-2的厚度可以为约3～7nm。此外，第二银层430-2的厚度可以为约11～14nm。
包含在第三重复单元层中的第三Nb2O5层410-3的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第三AZO层420-3的厚度可以为约3～7nm。此外，第三银层430-3的厚度可以为约11～14nm。具体而言，第三重复单元层的每一层的厚度与第二重复单元层的各自层的厚度相同。
第四Nb2O5层410-4的厚度可以为约25～33nm，优选为约27～33nm，第四AZO层420-4的厚度可以为约3～7nm。此外，第四银层430-4的厚度可以为约10～12nm。具体而言，第四重复单元层的每一层的厚度与第一重复单元层的各自层的厚度相同。
可以通过在第四重复单元层的顶部上堆叠第五Nb2O5层410-5来完成具有包括该重复单元层的多层薄膜的等离子体显示面板滤光片。在此，第五Nb2O5层410-5的厚度可以为25～33nm。
包含如图5所示的重复单元层的等离子体显示面板滤光片的薄膜电阻为约0.6～1.2欧姆/平方，优选为约0.7～1.1欧姆/平方，光透射率为67±5％。
在本发明中，重复单元层的优选数目为3至6个重复单元层。尽管上文已经在图3及图4中描述了包括三或四个重复单元层的多层薄膜，但本发明并不受此限制。最接近透明基板210的重复单元层的子层与最远离透明层210的重复单元层的子层具有相同厚度。此外，位于该重复单元层的中间的所有重复单元层的各自子层具有相同厚度。根据重复单元层的数目，等离子体显示面板滤光片的物理特性可以变化。
在本发明中，为了改善多层薄膜的机械强度或对环境的适应性，可以在不包括其中堆叠透明基板的多层薄膜的表面上形成硬涂覆层。此外，可以在导电表面上形成不降低电导率和光学特性的预定保护层。在此，该导电表面是指在透明基板上形成重复单元层的表面。
此外，为了改善金属薄膜对环境的适应性以及该金属薄膜与高折射率透明薄膜的粘着性，可以在金属薄膜与高折射率透明薄膜之间包含不损坏电导率和光学特性的预定无机材料。该无机材料可包括铜、镍、铬、金、铂、锌、锆、钛、钨、锡、钯或至少两种上述无机材料的合金。该无机材料的优选厚度为0.02～2nm。当该厚度不足时，其粘着性可能不会被改善。此外，可通过在多层薄膜顶部上形成由单层或多层组成的防反射层，来获得光透射率增加的多层薄膜。
根据本发明，提供一种导电膜滤光片，其位于银(Ag)薄膜上，并且不会使电导率下降，还提供一种等离子体显示面板滤光片的导电材料，其不需要附加的氧化物保护层。
根据本发明，可以降低沉积传统第二氧化物膜的靶材成本，而不会降低其电导率，并且延缓传统第二氧化物膜的退化过程。
根据本发明，提供一种具有简单结构的多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，从而可以改善等离子体显示面板滤光片的折射率及光透射率。
根据本发明，提供一种不需要添加大量氧的涂覆方法，从而可以提高涂覆设备的生产率。
根据本发明，提供一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，其不需要根据现有技术额外形成第二氧化物膜层。
尽管已经展示和说明了本发明的一些实施方案，但本发明并不限于所述实施方案。相反，本领域技术人员应了解，可以修改所述实施方案，而不背离本发明的原理与精神，本发明的范围由权利要求及其等价内容限定。
权利要求
1.一种具有多层薄膜的等离子体显示面板滤光片，该等离子体显示面板滤光片包含透明基板；位于所述透明基板上的至少一个重复单元层，其包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层和金属薄膜层，并且堆叠各重复单元层；和形成在所述至少一个重复单元层上部上的高折射率透明薄膜层。
2.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述高折射率透明薄膜层由五氧化二铌(Nb2O5)组成。
3.权利要求2的等离子体显示面板滤光片，其中在氧气氛中使用靶材Nb2Ox来涂覆Nb2O5，其中x表示一介于4.5至4.99范围内的值。
4.权利要求3的等离子体显示面板滤光片，其中在氧气氛中使用靶材Nb2Ox来涂覆Nb2O5，其中x表示一介于4.8至4.99范围内的值。
5.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属薄膜层由银和包括银的合金中的任意一种组成。
6.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属氧化物膜层由掺铝氧化锌(AZO)组成。
7.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述高折射率透明薄膜层的厚度介于25nm至33nm之间。
8.权利要求7的等离子体显示面板滤光片，其中所述高折射率透明薄膜层的厚度介于27nm与33nm之间。
9.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中所述金属氧化物膜层的厚度介于10nm与12nm之间。
10.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中提供至少两个重复单元层；来自所述重复单元层的最接近透明基板的金属薄膜层和最远离透明基板的金属薄膜层的厚度介于10nm和12nm之间；以及除了包括最接近及最远离所述透明基板的金属薄膜层的重复单元层之外，包括在其它重复单元层中的金属薄膜层的厚度介于11nm和14nm之间。
11.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中提供三个重复单元层，并且所述多层薄膜的薄膜电阻介于0.9欧姆/平方和2.5欧姆/平方之间，光透射率介于71％和79％之间。
12.权利要求11的等离子体显示面板滤光片，其中所述多层薄膜的薄膜电阻介于0.9欧姆/平方和1.1欧姆/平方之间。
13.权利要求1的等离子体显示面板滤光片，其中提供四个重复单元层，并且所述多层薄膜的薄膜电阻介于0.6欧姆/平方和1.2欧姆/平方之间，光透射率介于62％和72％之间。
14.权利要求13的等离子体显示面板滤光片，其中所述多层薄膜的薄膜电阻介于0.7欧姆/平方和1.1欧姆/平方之间，光透射率介于63％与71％之间。
15.一种制造等离子体显示面板滤光片的方法，该方法包括在透明基板上堆叠至少一个重复单元层，所述至少一个重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层和金属薄膜层；和在所述至少一个重复单元层的上部上堆叠高折射率透明薄膜层。
16.权利要求15的方法，其中所述高折射率透明薄膜层由Nb2O5组成。
17.权利要求16的方法，其中在氧气氛中使用靶材Nb2Ox涂覆Nb2O5，其中x表示一介于4.5至4.99范围内的值。
18.权利要求15的方法，其中所述金属薄膜层由银和包含银的合金中的任意一种组成。
19.权利要求15的方法，其中所述金属氧化物膜层由掺铝氧化锌组成。
全文摘要
一种具有多层薄膜的等离子体显示面板(PDP)滤光片，该等离子体显示面板滤光片包括透明基板；位于透明基板上的至少一个重复单元层，该至少一个重复单元层包含高折射率透明薄膜层、金属氧化物膜层及金属薄膜层，并堆叠各重复单元层；以及形成在所述至少一个重复单元层上部上的高折射率透明薄膜层。
文档编号H01J11/44GK101083191SQ20071000314
公开日2007年12月5日 申请日期2007年1月31日 优先权日2006年5月30日
发明者吴定烘, 柳济春, 李长勋 申请人:三星康宁株式会社