一种具有废料清理机构的三坐标铣床的制作方法

文档序号:24843559发布日期:2021-04-27 19:04阅读:103来源:国知局
一种具有废料清理机构的三坐标铣床的制作方法

1.本实用新型涉及铣床,尤其涉及一种具有废料清理机构的三坐标铣床。


背景技术:

2.铣床(milling machine)主要指用铣刀对工件多种表面进行加工的机床。通常铣刀以旋转运动为主运动,工件和铣刀的移动为进给运动。它可以加工平面、沟槽,也可以加工各种曲面、齿轮等。
3.铣床是用铣刀对工件进行铣削加工的机床。铣床除能铣削平面、沟槽、轮齿、螺纹和花键轴外,还能加工比较复杂的型面,效率较刨床高,在机械制造和修理部门得到广泛应用。
4.铣床是一种用途广泛的机床,在铣床上可以加工平面(水平面、垂直面)、沟槽(键槽、t形槽、燕尾槽等)、分齿零件(齿轮、花键轴、链轮)、螺旋形表面(螺纹、螺旋槽)及各种曲面。此外,还可用于对回转体表面、内孔加工及进行切断工作等。铣床在工作时,工件装在工作台上或分度头等附件上,铣刀旋转为主运动,辅以工作台或铣头的进给运动,工件即可获得所需的加工表面。由于是多刃断续切削,因而铣床的生产率较高。简单来说,铣床可以对工件进行铣削、钻削和镗孔加工的机床。现有技术的铣床无法有效的清理废料。


技术实现要素:

5.本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足,提供一种具有废料清理机构的三坐标铣床。
6.本实用新型是通过以下技术方案予以实现:
7.一种具有废料清理机构的三坐标铣床,包括铣床本体,铣床本体设有工作台,工作台的侧面设有滑轨,滑轨固定连接机架,滑轨滑动连接清扫架,清扫架与工作台平行,清扫架固定连接气缸,清扫架设有毛刷,毛刷与工作台接触,工作台的一端设有收集盒,收集盒的顶部设有开口,开口设有一对盖板,盖板和收集盒通过铰链连接,盖板通过铰链连接一号连杆的一端,一号连杆的另一端通过铰链连接滑块,收集盒设有滑道,滑块与滑道滑动连接,清扫架的滑动方向与滑块的滑动方向垂直,清扫架通过铰链连接二号连杆的一端,二号连杆的另一端通过铰链连接滑块。
8.根据上述技术方案,优选地,清扫架为v形,清扫架的凹陷侧朝向收集盒。
9.本实用新型的有益效果是:气缸带动清扫架沿着滑轨移动,清扫架的毛刷将工作台表面的废料清扫到工作台的一端。当清扫架移动时,清扫架带动二号连杆移动,二号连杆带动滑块沿着滑道移动,滑块移动时,滑块带动一号连杆移动,一号连杆带动盖板转动,盖板转动使收集盒的开口打开,使清扫架推动的废料进入从开口进入收集盒。
附图说明
10.图1示出了本实用新型的实施例的主视结构示意图。
11.图2示出了本实用新型的实施例的清扫架侧视结构示意图。
12.图3示出了本实用新型的实施例的收集盒结构示意图。
13.图中:1.铣床本体,2.工作台,3.滑轨,4.机架,5.清扫架,6.丝杠,7.毛刷,8.收集盒,9.开口,10.盖板,11.一号连杆,12.滑块,13.滑道,14.二号连杆,15.电机。
具体实施方式
14.为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。
15.如图所示,本实用新型一种具有废料清理机构的三坐标铣床,包括铣床本体1,铣床本体设有工作台2,工作台的侧面设有滑轨3,滑轨固定连接机架4,滑轨滑动连接清扫架5,清扫架与工作台平行,清扫架固定连接丝杠6,丝杠连接电机15,清扫架设有毛刷7,毛刷与工作台接触,工作台的一端设有收集盒8,收集盒的顶部设有开口9,开口设有一对盖板10,盖板和收集盒通过铰链连接,盖板通过铰链连接一号连杆11的一端,一号连杆的另一端通过铰链连接滑块12,收集盒设有滑道13,滑块与滑道滑动连接,清扫架的滑动方向与滑块的滑动方向垂直,清扫架通过铰链连接二号连杆14的一端,二号连杆的另一端通过铰链连接滑块。
16.电机和收集盒分别位于工作台的两侧。
17.本实施例的工作原理为:气缸带动清扫架沿着滑轨移动,清扫架的毛刷将工作台表面的废料清扫到工作台的一端。当清扫架移动时,清扫架带动二号连杆移动,二号连杆带动滑块沿着滑道移动,滑块移动时,滑块带动一号连杆移动,一号连杆带动盖板转动,盖板转动使收集盒的开口打开,使清扫架推动的废料进入从开口进入收集盒。
18.根据上述实施例,优选地,清扫架为v形,清扫架的凹陷侧朝向收集盒。上述结构的清扫架可以将废料集中到凹陷处。
19.本实用新型的有益效果是:气缸带动清扫架沿着滑轨移动,清扫架的毛刷将工作台表面的废料清扫到工作台的一端。当清扫架移动时,清扫架带动二号连杆移动,二号连杆带动滑块沿着滑道移动,滑块移动时,滑块带动一号连杆移动,一号连杆带动盖板转动,盖板转动使收集盒的开口打开,使清扫架推动的废料进入从开口进入收集盒。
20.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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