铜带去毛刺装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及铜带制造领域，特别是涉及一种铜带去毛刺装置。
【背景技术】
[0002]铜带在生产过程中，其两侧边缘通常会存在毛刺。带毛刺的铜带易因送料不顺导致模具异常、损坏。所以通常需要将铜带的毛刺去除，否则严重影响铜带后续的使用。目前都采用人工刮除的方式去除毛刺，其工作效率低下、毛刺去除不干净。
【发明内容】
[0003]本实用新型主要解决的技术问题是提供一种铜带去毛刺装置，能够快速有效的清除毛刺，结构简单，安全可靠。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种铜带去毛刺装置，包括:机架，所述机架一侧设置有放料卷辊，另一个设置有收料卷辊，所述放料卷辊和收料卷辊上设置有铜带，所述机架中部设置有多个弹性支杆，所述弹性支杆上连接有去毛刺刀片，所述弹性支杆的端部与铜带相接触。
[0005]在本实用新型一个较佳实施例中，所述多个弹性支杆对称设置有在铜带上下两侧，所述弹性支杆的顶端设置有耐磨层。
[0006]在本实用新型一个较佳实施例中，所述去毛刺刀片的横截面呈扇形，所述去毛刺刀片的背部与铜带相接触。
[0007]在本实用新型一个较佳实施例中，所述多个弹性支杆依次均匀设置放料卷辊和收料卷辊之间。
[0008]在本实用新型一个较佳实施例中，所述机架左右两侧设置有毛刺落料槽。
[0009]本实用新型的有益效果是:本实用新型铜带去毛刺装置，能够快速有效的清除毛刺，结构简单，安全可靠。
【附图说明】
[0010]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中:
[0011]图1是本实用新型铜带去毛刺装置一较佳实施例的结构示意图；
[0012]附图中各部件的标记如下:1、机架，2、放料卷辊，3、收料卷辊，4、铜带，5、弹性支杆，6、毛刺刀片。
【具体实施方式】
[0013]下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0014]请参阅图1，一种铜带去毛刺装置，包括:机架1，所述机架一侧设置有放料卷辊2，另一个设置有收料卷辊3，所述放料卷辊2和收料卷辊3上设置有铜带4，所述机架I中部设置有多个弹性支杆5，所述弹性支杆5上连接有去毛刺刀片6，所述弹性支杆5的端部与铜带4相接触。
[0015]另外，所述多个弹性支杆5对称设置有在铜带3上下两侧，所述弹性支杆5的顶端设置有耐磨层。
[0016]另外，所述去毛刺刀片6的横截面呈扇形，所述去毛刺刀片6的背部与铜带相接触。
[0017]另外，所述多个弹性支杆5依次均匀设置放料卷辊2和收料卷辊3之间。
[0018]另外，所述机架I左右两侧设置有毛刺落料槽。
[0019]区别于现有技术，本实用新型铜带去毛刺装置，能够快速有效的清除毛刺，结构简单，安全可靠。
[0020]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种铜带去毛刺装置，其特征在于，包括:机架，所述机架一侧设置有放料卷辊，另一个设置有收料卷辊，所述放料卷辊和收料卷辊上设置有铜带，所述机架中部设置有多个弹性支杆，所述弹性支杆上连接有去毛刺刀片，所述弹性支杆的端部与铜带相接触。
2.根据权利要求1所述的铜带去毛刺装置，其特征在于，所述多个弹性支杆对称设置有在铜带上下两侧，所述弹性支杆的顶端设置有耐磨层。
3.根据权利要求1所述的铜带去毛刺装置，其特征在于，所述去毛刺刀片的横截面呈扇形，所述去毛刺刀片的背部与铜带相接触。
4.根据权利要求1所述的铜带去毛刺装置，其特征在于，所述多个弹性支杆依次均匀设置放料卷辊和收料卷辊之间。
5.根据权利要求1所述的铜带去毛刺装置，其特征在于，所述机架左右两侧设置有毛刺落料槽。
【专利摘要】本实用新型公开了一种铜带去毛刺装置，包括：机架，所述机架一侧设置有放料卷辊，另一个设置有收料卷辊，所述放料卷辊和收料卷辊上设置有铜带，所述机架中部设置有多个弹性支杆，所述弹性支杆上连接有去毛刺刀片，所述弹性支杆的端部与铜带相接触。通过上述方式，本实用新型铜带去毛刺装置，能够快速有效的清除毛刺，结构简单，安全可靠。
【IPC分类】B23D79-02
【公开号】CN204397073
【申请号】CN201420553536
【发明人】周荣和
【申请人】无锡一名精密铜带有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2014年9月25日