专利名称：物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件;以及成形物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件的方法
技术领域：
本发明涉及物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件，以及成形物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件的方法。就具体应用领域而言，本发明涉及在物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件中标靶与背衬板之间结合进粘结层的方法，一种范例粘结层是能在小于或等于约500℃的温度下、在小于或等于约24h的时间内形成一种与标靶牢固(strong)扩散粘结的层。“牢固”扩散粘结的定义是能通过本文所描述的剥离试验的粘结。在另一些应用领域，本发明涉及在物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件中标靶与背衬板之间的粘结层中结合进钛、锆和铜当中的一种或多种的方法。
背景技术：
物理蒸汽沉积(PVD)标靶在要求形成薄膜的制造过程中具有广泛用途，包括诸如溅射标靶。一种范例PVD过程是溅射过程，PVD过程的一种范例用途是在半导体加工领域中沿整个半导体基材形成薄膜。
一种现有技术PVD方法示意地表示在
图1。更具体地说，图1展示一种设备10，它包括在衬底14上方的PVD标靶/背衬板组件12。组件12包含连接在背衬板18上的溅射标靶16。标靶16可包含众多金属元素和合金当中的任何一种，而背衬板18可包含各种各样电或热传导材料，例如，铜或铝。
标靶16具有表面20，从该表面射出材料，并被称之为溅射表面。在操作中，表面20受到离子或原子的撞击并被用来使材料从该表面射向基材14。被射出的材料在图1中用箭头22标出。此种射出的材料落在基材14上形成覆盖基材的薄膜(未画出)。
背衬板18在图1所示溅射操作过程中提供几种功能。例如，背衬板18通常备有被做成使组件12能可拆卸地保持在溅射设备腔(未画出)内的形状。背衬板18通常又由电/热传导材料制成并用于将电场传递给溅射标靶16。标靶16与背衬板18之间的界面优选应包含牢固得足以在溅射操作期间将标靶16保持在背衬板18上的粘结层，还包含连续、均匀和导电的构造，以便能使电场从背衬板18均一地跨过界面传递给标靶16。目前用于成形标靶-背衬板界面的方法当中，有一种在标靶与背衬板之间提供焊剂(图1中15所示)的方法，从而将标靶与背衬板结合。焊剂例如可包含锡或铟之一或二者。
在焊剂的使用中，一种困难是焊剂常常不能很好地粘附在标靶材料上，因此标靶会从背衬板上分离，如果在背衬板/标靶粘结层中仅仅使用焊剂的话。此种问题在标靶包含钽、钴、锆、铂、铁、铌、钼、铬、铝、铜和锰当中的一种或多种时可能特别突出。为克服此种困难，常常在标靶表面提供一个过渡层19，然后再将标靶表面粘结到背衬板上。在所示标靶/背衬板构造中，标靶16具有表面17，它最终被用于形成与背衬板18的粘结。过渡层19在标靶与背衬板粘结之前成形在整个表面17上。
过渡层19一般包含镍。镍据认为能比铟或锡基焊剂更好地附着在各种各样标靶材料上，而铟或锡基焊剂据认为对镍的附着力又比对标靶材料来得好。据此，镍层19最终可与焊剂15粘结，从而将标靶16保持在背衬板18上。
含镍过渡层改进了各种各样标靶材料对背衬板的粘附。然而，现已发现，即便设有此种层，溅射加工期间依然会遇到PVD标靶从标靶/背衬板组件上分离或脱层的问题。含镍过渡层当用于含Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr、Al、Cu当中的一种或多种的标靶组合物时可能尤其不令人满意。标靶与背衬板的分离例如可发生在镍过渡层与标靶之间的界面处。倘若脱层超过标靶表面面积的约5％，则标靶/背衬板组件就可能变得因不再能在要求的参数范围内工作而不能使用。在某些情况下，脱层大于或等于约1％，便可使标靶/背衬板组件不能用。综上所述，若能研制一种使标靶粘附在背衬板上的新方法，以避免与镍过渡层有关的脱层问题，那将是可心的。
发明概述本发明一个方面包含PVD标靶/背衬板组件。该组件包括PVD标靶，该标靶具有一个表面和该表面上的粘结层。该粘结层具有不同于标靶表面的组成，并且背衬板被做成与PVD标靶表面之间相隔至少该粘结层。粘结层可包含一种能在小于或等于约24h内、在小于或等于约500℃的温度下形成一种对标靶的牢固扩散粘结的材料，并可包含，例如，铜、钛和锆当中的一种或多种。在具体的实施方案中，粘结层可由或基本由铜、钛和锆当中的一种或多种组成。“牢固”扩散粘结的定义是一种能通过本文所描述的剥离试验的粘结。
本发明另一个方面包括一种成形PVD标靶/背衬板组件的方法。将粘结层成形在PVD标靶的一个表面上，背衬板结合到该粘结层上。于是，背衬板被至少该粘结层与PVD标靶表面隔开。粘结层可包含，例如，铜、钛和锆当中的一种或多种。
附图简述本发明优选实施方案将在下面结合着下列附图加以描述。
图1是现有技术PVD设备的断面示意图。
图2是在本发明方法的初步加工步骤中一种PVD标靶的断面示意图。
图3是图2标靶在图2的后续加工步骤中的视图。
图4是图2标靶在图3的后续加工步骤中的视图。
图5是图2标靶在图4的后续加工步骤中的视图。
图6是图2标靶在图5的后续加工步骤中的视图，并被表示在PVD标靶/背衬板组件之中。
图7是图6组件的俯视图。
优选实施方案详述本发明包括成形标靶/背衬板组件的新方法，还包括可按该方法成形的标靶/背衬板组件。本发明方法可用于许多金属PVD标靶组合物中，例如包括含一种或多种过渡金属的组合物，以及含Tl和Al之一或二者的组合物。本发明方法尤其可应用于包含钽、钴、锆、铂、铁、铌、锰、铬、铝和铜当中的一种或多种的PVD标靶；因为此种组合物会给现有技术方法造成如本公开“背景技术”一节中所描述的特殊困难，而这些困难又可由本发明方法克服。另外，本发明方法尤其可应用于由或基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成的PVD标靶。要知道，所开列的复合物(complex)，例如CoTaZr，是就复合物的组分而言给出的，而不指化学计量。例如，可存在许多由或基本由CoTaZr按各种不同化学计量关系组成的复合物，术语“CoTaZr”旨在涵盖所有这些复合物。
本发明范例方法将参照图2～7加以描述。首先来看图2，其中画出PVD标靶30的断面图。标靶30包含溅射表面32和在溅射表面32对侧的背面34。背面34被画成包含表面异常36，后者包括，例如毛刺、污垢物或其他的表面粗糙的情况。畸形特征36画得相对于标靶30有些夸张，为的是看清畸形特征36。要知道，畸形特征36通常与标靶30的相对关系要比画的小得多。
图3表示表面34经过了清洁程序以后的标靶30。范例清洁程序包括，首先用溶剂清洁该表面以便从表面除掉碎渣，随后让表面暴露于等离子体腐蚀以去除毛刺或其他不希望的表面畸形特征并相应地使表面34光滑。优选地选择基本上不与标靶30的材料起反应的溶剂以避免标靶30的表面34氧化和/或腐蚀，范例溶剂是有机溶剂，如异丙醇。合适的等离子体腐蚀可采用氩等离子体在1200 V处理约20min。腐蚀优选在减压下进行，例如约10-6Torr的压力。
参见图4，粘结层40设在标靶30的表面36上。粘结层40例如可包含钛、铜和锆中的一种或多种，在具体实施方案中可基本由或由钛、锆或铜中的一种或多种组成。粘结层40可最终形成对标靶30的牢固粘结，例如能够是能在小于或等于约24h中、在小于或等于约500℃的温度下形成与标靶牢固扩散粘结的层。“牢固”扩散粘结的定义是能通过本文所描述的剥离试验的粘结。
在一种范例实施方案中，层40包含钛。此种范例实施方案将在下面参照作为含钛层40的层40进行描述。然而要知道，本发明也可用于除被称之为含钛层的其他材料的情况，并且所描述的加工也可应用于例如含锆层40或含铜层40。
参见该范例实施方案，其中层40包含钛，该含钛层40可具有钛作为主要元素(所谓“主要元素”指的是钛以高于任何其他元素的含量存在，且可包括，例如，具有30wt％钛的材料，只要没有任何其他含量以大于或等于30wt％存在的元素)，其可基本由钛组成，或者可由钛组成。如果层40和标靶30二者都包含钛，则层40可包含不同于标靶30的钛的组合物。
成形层40的范例方法是离子沉积。具体地说，标靶30可置于减压下的真空腔中，例如，压力为10-6Torr，并带上正或负电荷。如果层40打算含钛，则可让一种钛基材携上与标靶30相反的电荷并以电子枪照射它。随后，钛将从基材上蒸发并撞击标靶。离子沉积方法在技术上是已知的。离子沉积是一种成形钛层40的范例方法，且不过是若干可用来成形钛层40的方法之一。另一种可用来成形层40的方法是电镀。
离子沉积方法的一个方面是，由该方法驱动的涂布材料，除了覆盖表面36形成涂层40之外，实际上可渗透到标靶30的表面36内一段短距离。涂层40可成形到，例如约2,000埃～约4,000埃的厚度，典型厚度为约3,000埃。有时，在涂层40成形期间或以后，涂层40的材料可扩散粘结到标靶30上。此种扩散粘结可发生在低于500℃的温度(例如，小于或等于200℃的温度)、小于或等于24h的时间(例如，数小时的时间)内。扩散粘结优选形成一种牢固粘结，其中“牢固”的定义是一种通过本文所描述的剥离试验的粘结。
如果用离子沉积来成形层40，则扩散粘结可发生在离子沉积期间。可能有利的是，让扩散粘结发生在沉积过程期间，因为这样，相对于扩散粘结发生在与沉积过程分开的步骤中而言，可节省加工步骤。
鉴于等离子体清洁(参照着图3的描述)和镀钛(参照着图4的描述)都可在减压下进行，故标靶30，在从等离子清洁步骤开始到离子沉积完成这段时间可保持在减压条件下。
如果材料40包含容易氧化的材料(例如钛)，可能较好的是在整个材料40的表面成形一种保护(或钝化)层，以减轻层40的材料的氧化。图5表示在层40上成形钝化层42的情形。钝化层42可包含，例如镍，并可采用例如镍的离子沉积来成形。在画出的实施方案中，层40包含上表面41和侧壁表面43。然而要知道，本发明涵盖那些在侧壁表面43上也成形钝化层42的其他实施方案。钝化层42优选至少是1200埃厚，例如可以至少是1500埃厚。
在采用离子沉积成形钝化层42的实施方案中，钝化层的成形可在减压下进行，例如，在10-6Torr的压力下。因此，标靶34可从等离子体清洁步骤(参照图3的描述)开始到钝化层42成形以后这段时间保持在减压下。这样能减少标靶30在大气携带的污染物中的暴露。
参见图6，焊剂层44设置在整个钝化层42的表面。焊剂层44例如可包含锡和铟之一或二者。背衬板46抵着焊剂44设置并通过焊剂44粘结在包含标靶30以及层40和42的组件上。背衬板46例如可包含铜。焊剂44可成形为，例如，至少约10,000埃厚。成形焊剂44的一种范例方法包括将第一部分焊剂涂在镍层44上，以及随后将镍加热到约200℃。然后，在第一部分上施加第二部分焊剂，并将这两部分焊剂压在组件50中的背衬板46和标靶30之间。在对组件50内的焊剂加压期间，焊剂处于软化和加热的形式。组件被夹紧在一起并冷却4～5 h以达到借助焊剂的粘结作用将背衬板46保持在标靶30上。此种粘结可替代地被称之为，背衬板46通过焊剂层44、钝化层42和粘结层40固定到标靶30上的粘结。图6的组件50可称作PVD标靶/背衬板组件。
组件50不同于现有技术标靶/背衬板组件12(图1)之处在于，组件50包含含钛层40(或本发明涵盖的另一种粘结层40)，以替代现有技术组件的含镍过渡层19。组件50可替代地被认为包含背衬板46，其通过至少粘结层40和标靶30隔开。在图示的实施方案中，背衬板46与标靶30之间不仅隔着粘结层40，而且还隔着焊剂层44和钝化层42。然而，要知道，本发明还涵盖其他实施方案(未画出)，其中层44和42之一或二者可取消。例如，粘结层40可利用扩散-粘结方法直接粘结到背衬板46上。
粘结层40区别于标靶30之处在于，粘结层40包含不同于标靶30的组合物。粘结层40可具有不同于标靶30的组成，倘若它包含与标靶部分相同的材料但含量不同于标靶30，或者如果它包含不同于标靶30的材料。本发明方法的优点在于，它可在粘结层40与标靶30之间形成牢固扩散粘结，即便当层40和标靶30不包含共同主要元素时。例如，粘结层40在一些标靶30不含铜的场合却主要含铜。另一个例子，层40在一些标靶30不含钛的场合却主要含钛。还有一个例子，层40在一些标靶30不含锆的场合，却主要含锆。
在钝化层42包含镍的构造中，一种替代的组件50的式样是，组件50可视为包含图1现有技术组件12的含镍过渡层，但它包含的此种层呈一种含镍层42与标靶30之间夹着粘结层40的形式。
在本发明的粘结层中采用钛、锆和/或铜的优点在于，这些材料与许多金属和合金，包括过渡金属、铊和铝，具有相容性，形成牢固粘结相互作用。例如，钛能与金属和合金在例如热膨胀方面相容。在剥离试验中，钛的层40据发现对标靶30具有优异粘附。为实施剥离试验，在包括焊剂44、含镍钝化层42、含钛层40和含钴/钽/锆标靶30的构造中，在该构造尚未粘结到背衬板上时，15mm宽NichibanTMClear Tape条带用手沿标靶板30的直径压在焊剂44上。随后，将条带从焊剂上拉离，然后观察在条带上所附着的数量。沿着垂直于第一次试验的直径的直径粘贴第二条条带，以重复该试验程序。条带的检查揭示，焊剂层44、含镍层42、含钛层40或标靶30中没有任何材料粘附在条带上，因此表明钛层40与标靶30之间具有卓越粘附。如果粘结层能通过上述剥离试验，那末该粘结层将被定义为形成与标靶的“牢固”粘结。换句话说，如果粘结层充分地粘结在标靶上，那末没有任何粘结层被该沿粘结层表面彼此垂直方向粘贴并拉离的NichibanTMClear Tape条带从标靶上拉脱。条带可直接粘贴在粘结层上，或者粘贴在粘附在粘结层表面的一个或多个层上。优选的是，条带直接粘贴在粘结层上。倘若条带粘贴在粘附在粘结层表面的一个或多个层上，则试验可能得不出结果，如果这一个或多个层彼此分离，而不能让足够应力作用到粘结层上以确定粘结层是否将与标靶分离的话。
尽管包含众多元素和组合物当中任何一种的标靶构造都可用于本发明方法，但某些元素和组合物可能由于，例如，某些元素和组合物与粘结层40形成的粘结比其他元素和组合物弱而不如其他的那样优选。例如，包含铟锡氧化物(ITO)的标靶可能在用于本发明方法方面就不如其他标靶那样优选。
图7是图6组件50的俯视图，显示，组件50在某些具体实施方案中包含圆外周边形状。要指出的是，图2～7仅仅是本发明的范例实施方案而已，除了具体画出的形状外，其他的背衬板和标靶形状也可用于本发明方法中。
虽然，在上面已就所含层40包含钛的范例实施方案对本发明各个方面做了描述，但要知道，如果粘结层40包含其他材料，例如，锆或铜，则可采用类似的加工方法。如果层40包含锆，则该层可具有锆作为主要元素，可主要由锆组成，或者可由锆组成。如果层40包含铜，则该层可具有铜作为主要元素，可主要由铜组成，或者由铜组成。
权利要求
1.PVD标靶/背衬板组件，包含具有表面的PVD标靶；该PVD标靶包含Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl中的一种或多种；所列举的复合物是就组分而言，而不指化学计量关系；在PVD标靶该表面上的粘结层；该粘结层具有不同于标靶表面的组成；该粘结层形成与标靶的牢固扩散粘结；和与PVD标靶表面相隔至少该粘结层的背衬板。
2.权利要求1的组件，其中粘结层包含钛。
3.权利要求1的组件，其中粘结层基本由钛组成。
4.权利要求1的组件，其中粘结层包含锆。
5.权利要求1的组件，其中粘结层基本由锆组成。
6.权利要求1的组件，其中粘结层包含铜。
7.权利要求1的组件，其中粘结层基本由铜组成。
8.一种PVD标靶/背衬板组件，包含具有表面的PVD标靶；在PVD标靶该表面上的含钛粘结层；该粘结层具有不同于标靶表面的组成；以及与PVD标靶表面相隔至少该粘结层的背衬板。
9.权利要求8的组件，其中钛是粘结层的主要元素。
10.权利要求8的组件，其中钛是粘结层的主要元素，且其中粘结层的厚度为约2000埃～约4000埃。
11.权利要求8的组件，其中粘结层基本由钛组成。
12.权利要求8的组件，其中粘结层由钛组成。
13.权利要求8的组件，还包含在背衬板与粘结层之间的焊剂层。
14.权利要求13的组件，其中焊剂层包含铟和锡之一或二者。
15.权利要求8的组件，还包含在粘结层上的钝化层；以及在背衬板与钝化层之间的焊剂层，该焊剂层抵着钝化层和背衬板。
16.权利要求15的组件，其中焊剂层包含铟和锡之一或二者。
17.权利要求15的组件，其中钝化层包含镍并具有至少约1500埃的厚度。
18.权利要求15的组件，其中钝化层包含镍。
19.权利要求15的组件，其中钝化层基本由镍组成。
20.权利要求15的组件，其中钝化层由镍组成。
21.权利要求8的组件，其中PVD标靶包含至少一种过渡金属。
22.权利要求8的组件，其中PVD标靶包含Tl、Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr、Al和Cu中的一种或多种。
23.权利要求8的组件，其中PVD标靶基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成；其中复合物是就组分而言，而不指化学计量关系。
24.一种PVD标靶/背衬板组件，包含具有表面的PVD标靶；在PVD标靶该表面上的含锆粘结层；该粘结层具有不同于标靶表面的组成；以及与PVD标靶表面相隔至少该粘结层的背衬板。
25.权利要求24的组件，其中锆是粘结层的主要元素。
26.权利要求24的组件，其中锆是粘结层的主要元素，且其中粘结层的厚度为约2000埃～约4000埃。
27.权利要求24的组件，其中粘结层基本由锆组成。
28.权利要求24的组件，其中粘结层由锆组成。
29.权利要求24的组件，其中PVD标靶包含Tl、Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr、Al和Cu中的一种或多种。
30.权利要求24的组件，其中PVD标靶基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成；其中复合物是就组分而言，而不指化学计量关系。
31.一种PVD标靶/背衬板组件，包含具有表面且不含铜的PVD标靶；在PVD标靶该表面上的含铜粘结层；以及与PVD标靶表面相隔至少该粘结层的背衬板。
32.权利要求31的组件，其中铜是粘结层的主要元素。
33.权利要求31的组件，其中铜是粘结层的主要元素，且其中粘结层的厚度为约2000埃～约4000埃。
34.权利要求31的组件，其中粘结层基本由铜组成。
35.权利要求31的组件，其中粘结层由铜组成。
36.权利要求31的组件，其中PVD标靶包含Tl、Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr和Al中的一种或多种。
37.权利要求31的组件，其中PVD标靶基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成；其中复合物是就组分而言，而不指化学计量关系。
38.一种成形PVD标靶/背衬板组件的方法，包括在PVD标靶表面上成形粘结层并在小于或等于约24 h内、在小于或等于约500℃的温度下在粘结层与标靶之间形成牢固扩散粘结；粘结层的成形包括借助离子沉积将粘结层涂布在该表面；该牢固扩散粘结是在离子沉积期间形成的；以及将背衬板结合到标靶上；背衬板的结合是通过一种包括至少该粘结层的连接措施实现的，因此背衬板与PVD标靶表面之间相隔至少该粘结层。
39.权利要求38的方法，还包括让PVD标靶的表面暴露于等离子体腐蚀，然后再形成该粘结层。
40.权利要求39的方法，还包括在粘结层上成形钝化层；在钝化层上成形焊剂层；且其中背衬板与标靶的结合包括利用焊剂粘结该背衬板；以及PVD标靶从它暴露于等离子体腐蚀至少直至成形焊剂层的步骤都处于减压下。
41.权利要求40的方法，其中钝化层包含镍。
42.权利要求38的方法，其中钛是粘结层的主要元素。
43.权利要求38的方法，其中粘结层基本由钛组成。
44.权利要求38的方法，其中锆是粘结层的主要元素。
45.权利要求38的方法，其中粘结层基本由锆组成。
46.权利要求38的方法，其中铜是粘结层的主要元素。
47.权利要求38的方法，其中粘结层基本由铜组成。
48.权利要求38的方法，还包括在粘结层上成形钝化层；在钝化层上成形焊剂层；且其中背衬板与标靶的结合包括利用焊剂粘结该背衬板。
49.权利要求38的方法，其中PVD标靶包含至少一种过渡金属。
50.权利要求38的方法，其中PVD标靶包含Tl、Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr、Al和Cu中的一种或多种。
51.权利要求38的方法，其中PVD标靶基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成；其中复合物是就组分而言，而不指化学计量关系。
52.一种成形PVD标靶/背衬板组件的方法，包括在PVD标靶表面上成形粘结层，该粘结层包含锆和钛之一或二者；以及将背衬板结合到标靶上；背衬板的结合是通过一种包括至少该粘结层的连接措施实现的，因此背衬板与PVD标靶表面之间相隔至少该粘结层。
53.权利要求52的方法，其中粘结层的成形包括借助离子沉积将粘结层涂布到该表面上。
54.权利要求52的方法，还包括让PVD标靶的表面暴露于等离子体腐蚀，然后再形成该粘结层；其中粘结层的成形包括借助离子沉积将粘结层涂布到该表面上；以及其中PVD标靶在暴露和涂布期间都处于减压下。
55.权利要求54的方法，还包括在粘结层上成形钝化层；在钝化层上成形焊剂层；且其中背衬板与标靶的结合包括利用焊剂粘结该背衬板；以及PVD标靶从它暴露于等离子体腐蚀至少直至成形焊剂层的步骤都处于减压下。
56.权利要求55的方法，其中钝化层包含镍。
57.权利要求52的方法，其中粘结层的成形包括借助离子沉积将粘结层涂布到该表面上；该方法还包括，在粘结层成形之前，用有机溶剂清洁该表面；以及让清洁的表面暴露于等离子体腐蚀。
58.权利要求52的方法，其中钛是粘结层的主要元素。
59.权利要求52的方法，其中粘结层基本由钛组成。
60.权利要求52的方法，其中锆是粘结层的主要元素。
61.权利要求52的方法，其中粘结层基本由锆组成。
62.权利要求52的方法，还包括在粘结层上成形钝化层；在钝化层上成形焊剂层；且其中背衬板与标靶的结合包括利用焊剂粘结该背衬板。
63.权利要求52的方法，其中PVD标靶包含至少一种过渡金属。
64.权利要求52的方法，其中PVD标靶包含Tl、Ta、Co、Zr、Pt、Fe、Nb、Mn、Cr、Al和Cu中的一种或多种。
65.权利要求52的方法，其中PVD标靶基本由Ta、Co、CoTaZr、CoPt、Pt、FeTa、TiZr、CoNb、Mo、CoCrPt、Al、AlCuFe、FeMn或FeAl组成；其中复合物是就组分而言，而不指化学计量关系。
全文摘要
本发明包括PVD标靶/背衬板组件，它包括具有一个表面的PVD标靶和在该表面上的粘结层。粘结层具有不同于标靶表面的组成，背衬板被做成与PVD标靶表面相隔至少该粘结层。粘结层形成对标靶的牢固扩散粘结。本发明还包括成形PVD标靶/背衬板组件的方法。另外，本发明包括一种组件，其中钛、锆和铜中一种或多种被结合到物理蒸汽沉积标靶/背衬板组件中标靶与背衬板之间的粘结层中。
文档编号C23C14/34GK1494601SQ01818120
公开日2004年5月5日 申请日期2001年10月19日 优先权日2000年10月27日
发明者R·D·科勒, M·S·库珀, R D 科勒, 库珀 申请人:霍尼韦尔国际公司