专利名称：光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶和光学信息记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于光学信息记录介质的银(Ag)合金反射膜，用于沉积该反射膜的银合金溅射靶，以及光学信息记录介质。更具体地说，本发明涉及反射膜，其具有低热导率、低熔化温度、高反射系数和高耐腐蚀性，从而能在光学信息记录介质如CD、DVD、蓝光光盘和HD-DVD的制备后，典型用激光在该介质上标记，如典型地根据色同步切断区(BCA)规格，标记号的标记。本发明还涉及用于沉积该反射膜的溅射靶，以及具有该反射膜的光学信息记录介质。
背景技术：
光学信息记录介质(光盘)包括各种类型，归类为写/读系统的三种主要类型是只读、一次性写入和可重写光盘。
在这些光盘中，只读光盘在制备光盘时将由凹陷和凸起坑形成的数据记录在诸如聚碳酸酯基材的透明塑料基材上，并在所记录数据上设置主要包含例如Al、Ag或Au的反射层，如图1所示。通过检测施加在光盘上的激光束的相差或反射系数差异来读取数据。某些光盘包括包含记录坑和布置在记录坑上的反射层的基材，以及带有记录坑和布置在该记录坑上的半反射层的另一种基材。将这两种基材层压，读取记录在两层上的数据。记录在这种记录/读取系统的一面上的数据是只读数据，它不能再写和改变，采用这种系统的光盘包括CD-ROM、DVD-ROM和DVD-Video。图1是只读光盘剖面结构的示意图。图1中的光盘包括聚碳酸酯基材1和5、半反射层(Au、Ag合金和Si)2、粘合剂层3和总反射层(Ag合金)4。
这些只读光盘被大量制造，并通过用带有信息图案的压模按压制造光盘来记录信息。因此，ID不能有效赋予单个光盘。然而，光盘制备后单独具有用诸如标签闸门系统或色同步切断区(BCA)系统的专用系统形成的ID的只读光盘被标准化，典型地为了防止未授权拷贝，提高产品分销中的示踪能力，并提高产品的附加值。ID标记(记录)主要通过制造后在光盘上施加激光束，以熔化反射膜中的Al合金，并在膜中形成孔的方法进行。
铝合金如根据日本工业标准(JIS)6061的Al-Mg合金被大量制造作为常用的结构材料，而且很便宜，因此广泛用作只读光盘的反射膜。相反，具有更高反射系数的Ag合金被广泛用于可记录的(一次性写入和可再写的)光盘。
然而这些材料都具有高热导率，需要高的激光功率来标记，从而损坏包括聚碳酸酯基材和粘合剂层的基底材料。另外，它们的耐腐蚀性低，而且当激光标记后置于高温和高湿条件下时，激光标记形成的孔隙招致反射膜腐蚀。包含Ag合金的反射膜在高温下由Ag的热稳定性差而导致的Ag反射膜内聚而使反射系数降低。此外，这些Ag合金反射膜在它们通常用于只读介质中并长时间暴露在太阳光或荧光下时，其反射系数会降低并变色。这也许是因为Ag溶解或由于反射膜与的其它成分如聚碳酸酯基材界面处的反应而形成了反应产物层。
日本公开(未审查)专利申请公布(JP-A)1992-252440(Hei 04-252440)公开了通过在Ag中结合Ge、Si、Sn、Pb、Ga、In、Tl、Sb或Bi来降低Ag合金的热导率的方法。JP-A 1992-28032(Hei 04-28032)公开了通过在Ag中结合Cr、Ti、Si、Ta、Nb、Pt、Ir、Fe、Re、Sb、Zr、Sn或Ni来降低Ag合金的热导率的方法。然而，根据这些技术得到的反射膜往往不能通过激光照射熔化和消除，且其中某些随着其热导率降低还表现出熔化温度提高。仍然没有提供满足作为激光标记用Ag合金的要求的银合金(Ag合金)。
本发明人通过在Ag中结合例如Nd、Sn、Gd和/或In，已经开发出了具有改进的热导率、激光束吸收率和防腐性能并适于激光标记的Ag合金(日本专利申请2004-208686和2005-67262)。然而，采用这些材料的薄膜随着所加入的元素含量的增加，尽管它们显示出热导率降低且激光束吸收率提高，但光稳定性降低。因此，仍然需要提供既有优异的激光标记能力，又有较高的耐候性和耐光性的材料。
激光束吸收率、耐光性和耐候性是起以下作用的反射膜的性能。具体而言，激光束吸收率提高更容易用激光束标记反射膜，即它改善了激光标记能力。耐光性提高抑制了暴露在太阳光或荧光下造成的反射系数降低和变色。耐候性提高防止了由于高温和高湿条件下Ag的腐蚀或内聚造成的反射系数的降低。因此，为激光标记提供的Ag合金反射膜应该具有低热导率、高激光束吸收率、优异的耐候性和优异的耐光性。
如上所述，为激光标记提供的Ag合金反射膜必须具有低热导率、高激光束吸收率、优异的耐候性和优异的耐光性。
现有的只读光盘用反射膜采用JIS 6061系列的Al合金，但这些Al合金不满足激光标记对热导率和耐腐蚀性(耐候性)的要求。
发明内容
在这些情况下，本发明的一个目的是提供一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜，它在用于只读光盘时容易用激光束标记。本发明另一个目的是提供一种带有该反射膜的光学信息记录介质，以及一种用于沉积该反射膜的溅射靶。
在为了实现以上目的进行的深入细致的研究后，本发明的发明人发现，包含Ag和特定含量的特定合金元素的Ag合金薄膜具有低热导率和高耐候性及耐光性，并用作适合作为光学信息记录介质用反射膜的反射薄层(薄金属层)，所述的光学信息记录介质能满意地进行激光标记。本发明已基于这些结论而得以完成，并实现了以上目的。
因此，本发明涉及光学信息记录介质用Ag合金反射膜、光学信息记录介质，以及用于沉积该Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶，并在第一方面提供了光学信息记录介质用Ag合金反射膜，在第二方面提供了光学信息记录介质，并且在第三方面提供了用于沉积该Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶。
具体而言，本发明在第一方面提供了一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜，其包含作为主成分的Ag、总共1-10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，以及总共2-10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。
该Ag合金反射膜可还包含0.01-3原子％的Bi和Sb中的至少一种。
该Ag合金反射膜还可包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种以代替Bi和Sb中的至少一种，或除Bi和Sb中的至少一种外，还包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。
本发明在第二方面还提供了一种包含根据第一方面的Ag合金反射膜的光学信息记录介质。
在该光学信息记录介质中，Ag合金反射膜可具有由激光束的作用形成的识别标记。
该光学信息记录介质可含两层或更多层Ag合金反射膜，且该两层或更多层可具有相同的组成。
另外而且有益的是，本发明在第三方面提供了一种用于沉积光学信息记录介质用Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶，其包含作为主成分的Ag、总共1-10原子％中的至少一种选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce的元素，以及总共2-10原子％中的至少一种选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh的元素的。
该Ag合金溅射靶可还包含0.01-3原子％的Sb。
该Ag合金溅射靶可还包含0.03-10原子％的Bi。
该Ag合金溅射靶可还包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种以代替Sb和/或Bi，或除Sb和/或Bi外，还可包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。
根据本发明的光学信息记录介质用Ag合金反射膜在用于只读光盘时容易用激光束标记。根据本发明的光学信息记录介质包括该Ag合金反射膜，且在用于只读光盘时能合适地用激光束标记。通过采用根据本发明的Ag合金溅射靶，可沉积该Ag合金反射膜。
本发明的其它目的、特征和优点将参考附图从以下优选实施方案的描述中变得清晰。
图1是只读光盘的剖面结构示意图。
具体实施例方式
如上所述，为激光标记提供的Ag合金薄膜必须具有低的热导率、高的激光束吸收率和优异的耐光和耐候性。
本发明人制备了含Ag和各种元素的Ag合金溅射靶，用这些靶通过溅射制成了具有各种组成的Ag合金薄膜，测定了作为反射薄层的薄膜的组成和性能，并得到以下结论(1)-(5)。
(1)通过在Ag中结合总为1-10共原子％选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，可降低热导率并提高激光束吸收率(可提高激光标记能力)，而不升高熔化温度(液相线温度)。另外，可以防止由于高温和高湿条件下Ag的内聚造成的反射系数的降低，即可提高耐候性。如果这些元素的总含量小于1原子％(除非另有规定，“原子％”在下文也称为“％”)，上述优点就不足。随着这些元素总含量的增加，热导率可降低且激光束吸收率可增加，但反射系数降低。如果这些元素的总含量超过10％，反射系数就降低到不可接受的程度。因此，这些元素的总含量必须是1％-10％，优选1.5％-5％。
(2)通过结合总共2％-10％选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种，可以防止受到日光或荧光照射后反射系数的降低，即可改善耐光性。然而，即使增加这些元素的总含量，它们也并不足以降低热导率和增加激光束吸收率。在这些元素中，Li、Mg、Al、Zn和Cu也许起到以下作用。这些元素在反射膜和聚碳酸酯基材间的界面处富集，抑制了反射膜与聚碳酸酯基材间的反应，从而防止Ag在受光照后逸出或形成反应产物。Pt、Au、Pd、Ru和Rh比Ag贵重，并且有可能起到抑制Ag和聚碳酸酯基材间反应的作用。如果这些元素的总含量小于2％，就不能有效改善耐光性。耐光性随着这些元素含量的增加而进一步改善。然而，如果含量超过10％，反射系数就会不希望地降低。从这些观点考虑，这些元素的总含量必须为2％-10％。
(3)除(1)和(2)中描述的元素外，通过结合Bi和Sb中的至少一种，可进一步得到满意地抑制在高温和高湿条件下反射系数的降低，即可进一步改善耐候性。然而，这些元素的总含量优选3％或更低，因为反射系数会由于这些元素形成合金而降低。相反，如果总含量低于0.01％，这些元素形成合金带来的足够优点就不会获得。从这些观点考虑，这些元素的总含量优选0.01％-3％，更优选0.1％-2％。
(4)通过进一步结合选自In、Sn和Pb中的至少一种，可显著降低热导率。然而，这些元素的总含量优选为10％或更低，因为这些元素形成合金会导致反射系数降低。这些元素对提高反射膜的耐久性并不太有效。为了有效表现出这些元素的优点，其总含量优选2％或更高。
(5)通过调节(1)至(4)中元素的含量，热导率可降低到0.8W/(K·cm)或更低，对波长380-1000nm的激光束的激光束吸收率可增加到8％或更高。因此，可获得优异的激光标记能力。
本发明已基于这些结论得到实现，并提供了光记录介质用Ag合金反射膜，采用该反射膜的光学信息记录介质，以及用于沉积具有上述构造的Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶。
根据本发明第一方面的光记录介质用Ag合金反射膜包含作为主成分的Ag、总共1-10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，以及总共2-10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。
从以上结论(1)和(2)显而易见的是，光学信息记录介质用Ag合金反射膜具有低热导率、低熔化温度(液相线温度)和高激光束吸收率。因此它们可用激光束在低功率下进行标记。另外，它们具有优异的激光标记能力，并很容易通过激光束标记。它们在高温和高湿条件下的反射系数降低很少，即它们具有优异的耐候性。另外，它们受日光或荧光照射后反射系数降低很少，即它们具有优异的耐光性。
因此，根据本发明的Ag合金反射膜可满意地用激光束标记，并能有利地用作光学信息记录介质的反射膜。具体而言，它们很容易用激光束在低功率进行标记，且可以抑制其反射系数在高温和高湿条件下或受日光或荧光照射后的降低。
高温和高湿条件下反射膜反射系数的降低可通过结合0.01％-3％ Bi和Sb中的至少一种而进一步抑制，这一点可从结论(3)显而易见。
Ag合金反射膜的热导率可通过结合2％-10％选自In、Sn和Pb中的至少一种而进一步显著降低，这一点可从结论(4)显而易见。
Ag合金反射膜的厚度优选10nm-100nm，更优选12nm-50nm。下面会解释规定该范围的原因。激光标记可随着反射膜厚度减小更容易进行。然而，如果厚度小到低于10nm，反射膜就会过多地透射激光束，从而降低反射系数。因此，厚度优选10nm或更大，更优选12nm或更大。相反，如果Ag合金反射膜具有超过100nm的过大厚度，用于熔化反射膜的激光功率就必须增加，并且使标记变得更难形成。因此，厚度优选100nm或更小，更优选50nm或更小。此外，随着膜厚度的增加，膜的表面光滑度降低，激光束变得容易散射，不能产生高信号输出。因此，厚度优选100nm或更小，更优选50nm或更小。
常用波长800-810nm的激光束进行激光标记，但这里也可采用波长320-800nm的激光束。在这种情况下，可降低合金元素的含量，因为根据本发明的Ag合金反射膜随着激光束波长的降低而表现出激光束吸收率增加。
根据本发明的光学信息记录介质包含根据本发明的任何Ag合金反射膜。它们可用激光束满意地标记，并避免由于过高的激光功率造成光盘构成成分如聚碳酸酯基材和粘合剂层的热损坏。它们可抵抗高温和高湿条件下或受日光或荧光照射后的腐蚀或内聚造成的反射系数的降低。
根据本发明的光学信息记录介质具有上述优异性能，并且可有利地用激光束标记。通过使它们激光标记处理，该光学信息记录介质在它们的Ag合金反射膜上就可具有通过激光标记形成的识别标记。
根据本发明的光学信息记录介质可各具有一层或多层Ag合金反射膜。当它们有两层或更多层Ag合金反射膜时，这些层相互间可具有完全或部分不同的组成，或相互间相同的组成。
根据本发明第三方面的Ag合金溅射靶各包含作为主成分的Ag、总共1-10％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，以及总共2-10％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。这些Ag合金溅射靶可产生根据本发明的光记录介质用Ag合金反射膜。
根据本发明的Ag合金溅射靶可还包含0.01％-3％的Sb。所得Ag合金溅射靶可产生根据本发明还包含0.01-3％Sb的光学信息记录介质用Ag合金反射膜。该Ag合金溅射靶可还包含0.03％-10％的Bi。所得Ag合金溅射靶可产生根据本发明还包含0.01％-3％Bi的根光学信息记录介质用Ag合金反射膜。就此而论，溅射靶中的Nd、Gd、Y、Sm、La、Ce、Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru、Rh和Sb的含量就反映了所得反射膜中元素的含量，但反射膜的Bi含量会降低到溅射靶Bi含量的百分之几十。因此，Ag合金溅射靶具有以上规定的组成(元素的含量)。
根据本发明的Ag合金溅射靶可还包含2％-10％选自In、Sn和Pb中的至少一种。所得溅射靶可产生根据本发明还包含2％-10％选自In、Sn和Pb中的至少一种的光记录介质用Ag合金反射膜。就此而论，溅射靶中In、Sn和Pb的含量就反映了所得反射膜中元素的含量。
实施例本发明将参考以下几个实施例和比较例进一步详细说明。注意以下仅仅是实施例，并不意味着限制本发明的范围，并且可以在其中进行各种可能的变化和修改，而不脱离本发明的教导和范围。下面将包含元素M1和M2的Ag合金表示为Ag-M1-M2合金，将包含M1、M2和M3的合金表示为Ag-M1-M2-M3合金。同样，“Ag-xM1-yM2合金”指包含“x”原子％的M1和“y”原子％的M2的Ag合金，“Ag-xM1-yM2-zM3合金”指包含“x”原子％的M1、“y”原子％的M2和“z”原子％的M3的Ag合金。
实验实施例1沉积具有表1中组成的Ag合金薄膜，即Ag-3Nd-(Li、Au)合金薄膜[含3％Nd并且含有Li和Au之一的Ag合金薄膜][序号1至10]、Ag-Nd-5Li合金薄膜[序号11至14]、Ag-(Y、Ce、Gd、Sm、La)-(Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Pd、Ru、Rh)合金薄膜[序号15至27]和Ag-5Nd合金薄膜[序号28]。测量薄膜的热导率、激光束吸收率、反射系数、耐候性、耐光性和激光标记能力。确定Ag-3Nd-(Li、Au)合金薄膜[序号1至10]的这些性能与Li和Au含量之间的关系。同样，确定Ag-Nd-5Li合金薄膜[序号11至14]的这些性能与Nd含量之间的关系。确定Ag-(Y、Ce、Gd、Sm、La)-(Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Pd、Ru、Rh)合金薄膜[序号15至27]以及Ag-5Nd合金薄膜[序号28]中合金元素类型如何影响性能。
薄膜以下面的方式沉积。在直径120mm和厚度0.6mm的聚碳酸酯基材上，通过DC磁控管溅射分别沉积Ag-Nd-In合金薄膜、Ag-Gd-In合金薄膜和Ag-Y-In合金薄膜。该沉积在22℃的基材温度、3毫托的Ar气体压力、30nm/sec的沉积速度和5×10-6毫托或更低的背压下进行。这里采用的溅射靶是复合靶，其各包含在其上放置合金元素碎片的纯Ag靶。
热导率由沉积到100nm厚度的试样Ag合金薄膜的电阻转换而来。试样Ag合金薄膜的反射系数用V-570紫外线和可见光光谱仪(JASCO公司)测量，并将其定义为反射系数。激光束吸收率用波长810nm的激光束测量，这种激光束通常用于根据色同步切断区(BCA)规格的记录。
试样薄膜的耐候性这样评价，即将薄膜置于80℃高温和90％相对湿度(RH)的高湿条件下100小时，测试反射系数与试验前比较是如何降低的。试验前后试样薄膜的反射系数在波长405nm下测定。
试样薄膜的耐光性通过比较将薄膜暴露在晴天阳光下共40小时的暴露试验前后反射系数如何降低来评价。暴露试验前后试样薄膜的反射系数在波长405nm下测定。
激光标记能力按如下评价。用POP-120-8R(Hitachi ComputerPeripherals Co.，Ltd.)，以10m/s的光束速度和40％占空比，用激光束标记试样薄膜。标记所需激光功率在1.5-4W范围内以0.5W的步长确定。激光标记能力根据三个准则评价。具体而言，以1.5W或更小的激光功率标记的试样评价为“优异”，以2-3W的激光功率标记的试样评价为“良好”，以3.5W或更大的激光功率标记的试样评价为“差”。
结果示于表1。在Ag-3Nd-(Li、Au)合金薄膜[序号1至10]中，Nd含量固定在3％，而Li和Au含量变化。由于Nd含量为3％，这些薄膜满足了选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种的总含量为1％-10％的要求，该要求是根据本发明的要求。它们中的一些满足选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种的总含量为2％-10％的要求，但其它薄膜不满足。
在Ag-Nd-5Li合金薄膜[序号11至14]中，Li含量固定在5％，而Nd含量变化。由于Li含量为5％，这些薄膜满足选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种的总含量为2-10％的要求，该要求是根据本发明的要求。它们中的一些满足选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种的总含量为1％-10％的要求，但其它薄膜不满足。Ag-(Y、Ce、Gd、Sm、La)-(Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Pd、Ru、Rh)合金薄膜满足根据本发明的所有要求。
表1说明，在Ag-3Nd-(Li、Au)合金薄膜[序号1至10]中，Li含量小于2％的薄膜[序号1]和Au含量小于2％的薄膜[序号6]的耐光性差，从而在耐光性试验(曝光试验)后表现出反射系数明显降低，且其激光标记能力差(差)。Li含量超过10％的薄膜[序号5]和Au含量超过10％的薄膜[序号10]具有低的反射系数。相反，Li含量为2-10％的薄膜[序号2至4]和Au含量为2-10％的薄膜[序号7至9]具有优异的耐光性，从而在耐光性试验(暴露试验)后表现出的反射系数降低很少，并具有良好的激光标记能力(良好)。
在Ag-Nd-5Li合金薄膜[序号11至14]中，Nd含量小于1％的薄膜[序号11]的热导率降低的不够，即具有高热导率，且激光束吸收率提高的不够，即具有低激光束吸收率，并表现出差的激光标记能力(差)。该薄膜在高温和高湿条件下放置后表现出明显降低的反射系数，表明反射系数的降低没有得到充分防止。Nd含量超过10％的薄膜[序号14]表现出不足的、低的反射系数。相反，Nd含量为1-10％的薄膜[序号12和13]具有有效降低的热导率，即低热导率，并表现出有效提高的激光束吸收率，即高激光束吸收率。因此，它们具有优异的或良好的激光标记能力。它们有效防止了高温和高湿条件下反射系数的降低。
Ag-(Y、Ce、Gd、Sm、La)-(Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Pd、Ru、Rh)合金薄膜[序号15至27]各自具有Y、Ce、Gd、Sm和La中的一种为5％的含量和Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Pd、Ru和Rh中的一种为5％的含量。它们满足选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种的总含量为1％-10％的要求，以及选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种的总含量为2％-10％的要求。即它们满足根据本发明的要求。所有这些薄膜的耐光性都优于Ag-5Nd合金薄膜[序号28]，且在耐光性试验(暴露试验)后的反射系数降低很少，表明反射系数的降低得到充分防止。
这些结果说明Ag合金薄膜必须满足选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种的总含量为1％-10％的要求，以及选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种的总含量为2％-10％的要求，即它们必须满足根据本发明的要求。
实验实施例2沉积具有表2中的组成的Ag合金薄膜，即Ag-3Nd-5Li-(Bi、Sb)合金薄膜[序号1a至8a]，并通过实验实施例1的方法确定它们的热导率、激光束吸收率、反射系数、耐候性、耐光性和激光标记能力。
结果示于表2。Ag合金薄膜具有满足根据本发明的要求的组成，但它们的Bi和Sb含量不同。因此，它们中的一些满足本发明中的优选要求，即Bi和Sb中的至少一种的含量为0.01％-3％，而其它薄膜不满足。
表2说明耐候性随着Bi含量增加而提高，防止了高温和高湿条件下反射系数的降低。
实验实施例3沉积具有表3中的组成的Ag合金薄膜，即Ag-3Nd-5Li-(Sn、Pb)合金薄膜[序号1b至10b]，并通过实验实施例1的方法确定它们的热导率、激光束吸收率、反射系数、耐候性、耐光性和激光标记能力。
结果示于表3。Ag合金薄膜具有满足根据本发明的要求的组成，但它们的Sn和Pb含量不同。因此，它们有些满足本发明中的优选要求，即选自In、Sn和Pb中的至少一种的含量为2％-10％，而其它薄膜不满足。
表3说明随着Sn或Pb含量增加，热导率降低，而激光束吸收率提高，表明这些元素起到进一步改善激光标记能力的作用。
表1
表2
表3
根据本发明的光学信息记录介质用Ag合金反射膜在用于只读光盘时容易用激光束记录，作为光学信息记录介质如只读光盘用的反射膜是有用和有利的。
权利要求
1.一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜，其包含作为主成分的Ag；总共1-10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种；和总共2-10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。
2.权利要求1的Ag合金反射膜，其还包含0.01-3原子％的Bi和Sb中的至少一种。
3.权利要求1的Ag合金反射膜，其还包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。
4.一种包含权利要求1的Ag合金反射膜的光学信息记录介质。
5.权利要求4的光学信息记录介质，其中Ag合金反射膜具有由激光束的作用形成的识别标记。
6.权利要求4的光学信息记录介质，其中所述的介质包含两层或更多层Ag合金反射膜，且其中所述的两层或更多层具有相同的组成。
7.一种用于沉积光学信息记录介质用Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶，其包含作为主成分的Ag；总共1-10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种；和总共2-10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。
8.权利要求7的Ag合金溅射靶，其还包含0.01-3原子％的Sb。
9.权利要求7的Ag合金溅射靶，其还包含0.03-10原子％的Bi。
10.权利要求7的Ag合金溅射靶，其还包含2-10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。
全文摘要
一种银合金反射膜用于光学信息记录介质并包含作为主成分的Ag、总共1－10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，以及总共2－10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。反射膜优选还包含0.01－3原子％的Bi和Sb中的至少一种和/或2－10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。一种光学信息记录介质包括该银合金反射膜。一种银合金溅射靶具有与该银合金反射膜相同的组成。
文档编号C23C14/34GK1901054SQ20061010195
公开日2007年1月24日 申请日期2006年7月11日 优先权日2005年7月22日
发明者中井淳一, 田内裕基, 藤井秀夫 申请人:株式会社神户制钢所