光学信息记录介质及其制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及具有至少一个记录层和与所述记录层相邻的至少一个中间层的光学 信息记录介质、及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 作为具有记录层和中间层的光学信息记录介质，例如，专利文献1中公开了使记 录层具有高分子粘接剂和分散在高分子粘接剂中的染料从而形成的光学信息记录介质。另 外，专利文献1中记载了：在具有多层记录层的光学信息记录介质中，优选含有多光子吸收 染料，以使得记录再现时对相邻的记录层的影响最小化。
[0003] 现有技术文献
[0004] 专利文献
[0005] 专利文献1 :日本特开2012-89195号公报
【发明内容】
[0006] 然而，分散在记录层中的高分子粘接剂中的染料有可能随着时间流逝而扩散到中 间层。染料扩散到中间层的话，例如，在记录层与中间层之间的界面处光变得难以反射，因 此信息的记录和读取的性能可能会降低。因此，记录层中分散有染料的光学信息记录介质 有可能产生保存性等长期稳定性方面的问题。
[0007] 另外，记录层含有多光子吸收染料的情况下，为了记录信息，需要峰值功率较大的 超短脉冲激光，因此（例如）存在光记录设备价格变高这样的问题。因此，人们期望峰值功 率较小、即使采用传统的光记录中所用的半导体激光等也能进行信息记录的光学信息记录 介质。
[0008] 于是，本发明的目的是提供长期稳定性优异、并且可由峰值功率较小的激光进行 记录的光学信息记录介质、及其制造方法。
[0009] 用于实现上述目的的本发明为具有至少一个记录层和与该记录层相邻的至少一 个中间层的光学信息记录介质，其特征在于，记录层含有单光子吸收染料结合在高分子化 合物中而形成的记录材料。
[0010] 根据这样的结构，由于记录层含有染料结合在高分子化合物中而形成的记录材 料，因此可以抑制染料扩散到中间层并且能够使光学信息记录介质的长期稳定性提高。另 外，由于染料是单光子吸收染料，因此可由峰值功率较小的激光进行信息的记录。
[0011] 上述光学信息记录介质优选设为这样的结构：含有多个记录层，并且中间层设置 在相邻的两个记录层之间。
[0012] 这样的话，可以谋求光学信息记录介质的大容量化。
[0013] 上述光学信息记录介质中，可以将各记录层设为这样的结构：在与夹着该记录层 的两个中间层之间形成第1界面和第2界面，并且通过单光子吸收染料吸收记录光所产生 的热而发生变形，从而在第1界面和第2界面中至少一者的界面处形成朝向中间层的凸出 形状来记录信息。
[0014] 这样的话，可以用较小的能量来记录信息，因此能够以高灵敏度记录信息。
[0015] 上述光学信息记录介质中，记录材料中单光子吸收染料的质量比优选不足50%。 [0016] 这样的话，可以形成以变形前的界面为基准足够高度的凸出形状。
[0017] 上述光学信息记录介质中，记录层的厚度优选为50nm以上。
[0018] 这样的话，由于记录层的厚度足够厚，因此可以容易地形成凸出形状。
[0019] 上述光学信息记录介质中，形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层优选比记 录层更软。这从记录层和中间层的玻璃化转变温度的观点来说的话，则形成了其中形成有 凸出形状的界面的中间层的玻璃化转变温度优选比记录层的玻璃化转变温度低。另外，这 从具体的结构来说的话，则可以说形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层为粘合剂 层。
[0020] 这样的话，因记录光的照射而导致记录层发生变形（例如，热膨胀）时，该热膨胀 产生的压力导致中间层容易发生变形，因而能够容易地留下凸出形状。需要说明的是，记录 层与中间层的硬度的比较可以通过将各自的构成材料的块体互相挤压来进行确认。即，可 以将块体之间互相挤压时发生较大凹陷的一方确认为较软。
[0021] 上述光学信息记录介质可以设为这样的结构：通过记录光的照射，第1界面和第2 界面中，仅在一个界面处形成凸出形状，而在另一个界面处不形成凸出形状。这种情况下， 形成了其中形成有凸出形状的界面的中间层与记录层的折射率差优选比形成了其中未形 成凸出形状的界面的中间层与记录层的折射率差更大。
[0022] 这样的话，由于其中形成有凸出形状的界面用于信息的读取，因此因界面两侧材 料的折射率差较大导致界面反射率较大从而使信息的读取变得容易，另外，由于其中未形 成凸出形状的界面不用于信息的读取，因此因界面两侧材料的折射率差较小，能够使得用 于记录、读出的光（以下称为记录读出光）的透过率一具体而言，是第1界面和第2界面的 总透过率一变高。这样，记录层为多层的情况下，光能够到达从记录读出光的照射侧观察的 更深处的记录层，因此有利于通过多层化增大记录容量。
[0023] 另外，在上述结构中，形成了其中未形成凸出形状的界面的中间层的折射率优选 与记录层的折射率相等。
[0024] 这样的话，由于界面处光的反射率实质上为0,因此在记录层为多层的情况下，光 能够到达从记录读出光的照射侧观察的更深处的记录层，因此有利于通过多层化增大记录 容量。
[0025] 上述光学信息记录介质可以设为这样的结构：以变形前的界面为基准，凸出形状 的突出在Inm~300nm的范围内。
[0026] 上述光学信息记录介质中，中间层的厚度优选为2 μπι~20 μπι。
[0027] 这样的话，在抑制记录层之间发生层间串扰的同时，可以使记录层的层数变多。
[0028] 上述光学信息记录介质也可以具有用于保护记录层的覆盖层。
[0029] 这样的话，可以抑制记录层的损伤和污染等。
[0030] 另外，覆盖层的厚度优选为0.0 lmm~0. 2mm。
[0031] 这样的话，可以抑制覆盖层过薄的情况下在记录再现时检测到覆盖层的损伤和污 染等问题，同时可以抑制覆盖层过厚的情况下光记录设备的光学系统的像差的问题。
[0032] 上述光学信息记录介质可以具有用于进行循轨伺服的引导层。这种情况下，本发 明的光学信息记录介质优选具有用于调节记录层和引导层的间隔的分隔层。
[0033] 这样的话，可以降低被引导层反射的光对于离引导层最近的记录层的影响。
[0034] 另外，分隔层的厚度优选为5 μπι~100 μπι。
[0035] 上述光学信息记录介质也可以具有在光入射一侧的面上所形成的硬涂层。
[0036] 这样的话，可以抑制光学信息记录介质的光入射一侧的表面的损伤和污染等。
[0037] 上述光学信息记录介质也可以是容纳在盒中的结构。
[0038] 这样的话，可以抑制光学信息记录介质的损伤，提高耐光性。
[0039] 另外，用于实现上述目的的本发明为具有记录层和与该记录层相邻的中间层的光 学信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有：将含有单光子吸收染料结合在高分子化合 物中而形成的记录材料的记录层的材料溶解在溶剂中从而调制涂布液的第1工序；将涂布 液涂布在形成记录层的面上的第2工序；进行用于除去溶剂的加热处理的第3工序。
[0040] 根据这样的方法，能够制造在长期稳定性得以提高的同时可由峰值功率较小的激 光进行信息记录的光学信息记录介质。另外，由于记录层的材料含有染料结合在高分子化 合物中而形成的记录材料，因此与使用染料分散在高分子化合物中而成的材料作为记录材 料的情况相比，染料发生扩散或凝集等造成的相分离的可能性较低，因此可进行用于除去 溶剂的加热处理。由此，可在短时间内除去溶剂，因此可以提高光学信息记录介质的生产 性。
[0041] 上述第1工序中，可以添加高分子化合物来调节记录材料中所含的单光子吸收染 料的浓度。
[0042] 这样的话，例如，通过用高分子化合物适当地稀释记录材料中所含的单光子吸收 染料的浓度，即使记录层的厚度变厚，也能使记录读出光的吸收率减小。由此，例如，在使记 录层的厚度厚至某种程度以使作为信息的凸出形状变得容易形成的同时，可以使记录层每 一层的吸收率减小从而谋求记录层的多层化。
[0043] 上述第3工序中，加热处理的温度优选比记录层的玻璃化转变温度高。
[0044] 这样的话，可以在更短的时间内除去溶剂，所以能进一步提高光学信息记录介质 的生产性。
[0045] 附图简要说明