垂直磁记录介质的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及垂直磁记录介质的制造方法的改良。
[0002] 本申请基于在2014年4月8日在日本申请的专利申请2014-079435号要求优先 权，在此援引其内容。
【背景技术】
[0003] 作为磁记录再生装置的一种的硬盘装置（皿D)现在其记录密度W年率50%W上 增加，据认为今后该倾向也将继续。因此，适于高记录密度的磁记录用磁头W及磁记录介质 的开发在进展着。
[0004] 现在，市售的磁记录再生装置中所装载的磁记录介质，是磁性膜内的容易磁化轴 主要垂直地取向的所谓的垂直磁记录介质。垂直磁记录介质在高记录密度化时，记录位 (比特）间的边界区域中的反磁场的影响也较小，形成鲜明的位边界，因此能抑制噪声的增 加。而且，由于与高记录密度化相伴的记录位体积的减少较少，所W也抗热摆效应。因此， 近年来受到较大的关注，曾提出了适于垂直磁记录的介质的结构。
[0005] 可是，在曾经使用的面内记录方式的磁记录介质中，在非磁性基板的表面形成磁 性层等之前实施了纹理（tex化re)加工。所谓纹理加工，是下述加工；在非磁性基板的表面 形成沿着圆周方向的纹理条痕（微细的凹凸），使介质表面成为适当的表面粗趟度，并且对 磁记录介质给予圆周方向的磁各向异性。当在非磁性基板的表面存在微细的纹理条痕的盘 基板上形成磁性层时，与在不存在纹理条痕的盘基板上形成了磁性层的情况相比，电磁转 换特性提高。该是因为，通过对盘基板的表面实施纹理加工，在该盘基板的表面上形成的基 底层W及磁性层的结晶取向性提高。由此，能够提高磁性层的磁各向异性，使耐热摆性等的 磁特性提高。
[0006] 纹理加工通过如下方式来进行；一边使盘基板旋转，一边向该盘基板的表面供给 研磨浆液，将行进的研磨带按压在盘基板的表面（例如参照专利文献1、2)。作为研磨液，使 用了在分散介质中分散有金刚石磨粒等的研磨液。
[0007] 在专利文献3中记载了一种垂直磁记录介质的制造方法，该制造方法能够一面确 保包含Ni-P系合金的基底层的高精度的平坦面，一面自动地除去基底层的异常突起，而且 不会对垂直磁记录介质的磁取向造成影响，能够形成垂直方向的磁取向变得容易的适度的 纹理痕。
[000引在专利文献4中记载了；使用氧化错（zirconia)作为用于抑制在硬盘的外周部发 生下塌而变为曲面的现象的研磨剂。
[0009] 在专利文献5中，作为用于在玻璃基板上形成同屯、圆状的沟槽的研磨剂，公开了 氧化错磨粒。
[0010] 在专利文献6、7中公开了在玻璃基板等的研磨中使用W低浓度含有人造金刚石 粒子的浆液。
[0011] 在先技术文献
[001引专利文献
[0013] 专利文献1 ;日本特开2004-178777号公报
[0014] 专利文献2 ;日本特开2004-259417号公报
[0015] 专利文献3 ;日本特开2008-108396号公报
[0016] 专利文献4 ;日本特表2003-510446号公报
[0017] 专利文献5 ;日本特开2003-242632号公报
[0018] 专利文献6 ;日本特开2005-310324号公报
[0019] 专利文献7 ;日本特开2010-080022号公报
【发明内容】
[0020] 在垂直磁记录介质的制造工序中，一般地对非磁性基板不进行纹理加工，使用平 滑表面的非磁性基板。其原因是，在非磁性基板的表面存在凹凸和/或伤的情况下，若在该 非磁性基板的表面形成磁性膜等，则存在该凹凸和/或伤原样地被磁记录介质表面继承的 情况、和/或、在存在凹凸和/或伤的部位形成异常突起等的情况。因此，曾进行了下述研 究；使在垂直磁记录介质中使用的非磁性基板经过多级的研磨工序、抛光工序来提高其表 面的平滑性。但是，对磁记录介质用基板的表面要求现有程度之上的平滑性。在现有方法 中，残留一部分的异常的突起和擦痕等，不能说平滑化充分，需求能够使非磁性基板的表面 的平滑性更高的研磨工艺。
[0021] 该样的异常的突起和擦痕等大多起因于研磨材料。一般地，如果研磨液中的研磨 材料的浓度变高，则研磨力提高。另一方面，在研磨材料中混入大粒的研磨剂等异物的概率 变高，容易形成擦痕。因此，也曾研究了降低研磨材料的浓度，但研磨液的研磨力下降。为 了同时兼备该些研磨力和表面平滑性，曾进行了W低浓度使用金刚石等高硬度研磨材料的 研究（专利文献6化及7)。但是，金刚石等研磨材料存在粒形状的控制较难、异形的粒子形 成擦痕该样的问题。若为了降低该异形粒子的发生概率而进一步降低研磨液中的研磨材料 的浓度，则存在于研磨垫与基板表面间的研磨材料粒子的数量减少，对1个研磨材粒子施 加的载荷提高，也存在更容易发生擦痕该样的问题。
[0022] 而且，磁记录介质用的基板制造后直到将该基板用于磁性膜等的成膜为止经过数 天的天数的情况较多，有时在该期间在基板的表面附着颗粒等。因此，该研磨工艺也需要尽 可能地使颗粒等对基板的附着减少。
[0023] 本申请发明W解决上述课题为目的，提供一种垂直磁记录介质的制造方法，该方 法包括形成在基板的表面形成磁性膜等的情况下不发生异常突起等的平滑的基板表面的 工序。
[0024] 本申请发明人为了解决上述课题而专屯、致力研究的结果发现；通过设置在即将进 行在基底锻层上形成磁性层等叠层结构的层叠工序之前，将基底锻层的表面进一步平滑化 的精研磨工序，并且作为用于该精研磨工序的研磨液使用浓度远低于现有的研磨材料的氧 化错粒子，能够得到现有程度之上的平滑的基板表面，从而完成了本申请发明。
[0025] (1) 一种垂直磁记录介质的制造方法，所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成 有包含NiP系合金的基底锻层，而且在该基底锻层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁 性层，该制造方法的特征在于，具有：
[0026] 粗研磨工序，该工序对包含NiP系合金的基底锻层的表面进行研磨；
[0027] 镜面研磨工序，该工序对所述粗研磨了的基底锻层的表面进一步进行镜面研磨； [002引精研磨工序，该工序对所述镜面研磨了的基底锻层的表面进一步进行精研磨；和
[0029] 层叠工序，该工序在所述精研磨了的基底锻层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层，
[0030] 在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0. 0005质量％~0. 05质量％的范围内的 平均粒径为lOnm~150nm的氧化错粒子。
[0031] (2)根据（1)所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，所述氧化错粒子的 粒径为50nm~150nm。
[0032] (3)根据（1)或（2)所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，在所述精研 磨工序中使用的研磨液包含胶体状的氧化错粒子。
[0033] (4)根据（1)~（3)的任一项所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，所 述精研磨工序结束后直到所述层叠工序为止的时间为10小时W内。
[0034] (5)根据（1)~（4)的任一项所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，所 述粗研磨工序采用使用了包含氧化侣磨粒的研磨液的双面研磨盘来进行。
[0035] (6)根据（1)~巧）的任一项所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，所 述镜面研磨工序采用使用了包含胶体二氧化娃磨粒的研磨液的双面研磨盘进行。
[0036] (7)根据（1)~化）的任一项所述的垂直磁记录介质的制造方法，其特征在于，所 述精研磨工序通过用研磨带夹着旋转的基板的两个表面、并向所述研磨带供给研磨液来进 行。
[0037] 根据本发明的垂直磁记录介质的制造方法，通过采用上述技术方案，能够形成在 基板的表面形成磁性膜等的情况下不发生异常突起等的平滑的基板表面。
【附图说明】
[003引图1是表示应用本发明所制作的垂直磁记录介质的一例的截面图。
[0039] 图2是用于说明本发明中的粗研磨工序W及镜面研磨工序的立体图。
[0040] 图3A是用于说明在本实施方式中应用的对包含NiP合金的基底锻层的表面实施 精研磨加工的工序的图，是表示其装置的一例的侧视图。
[0041] 图3B是用于说明在本实施方式中应用的对包含NiP合金的基底锻层的表面实施 精研磨加工的工序的图，是表示其装置的一例的俯视图。
[0042] 图4是表示使用了用本实施方式的制造方法制造出的垂直磁记录介质的磁记录 再生装置的一例的截面图。
[0043] 图5表示用实施例W及比较例的制造方法制造出的磁记录介质的缺陷状态。
[0044] 附图标记说明
[0045] 1…非磁性基板；2…基底锻层；3…软磁性基底层；4…取向控制层；5…垂直磁性 层；6…保护层；10…垂直磁记录介质；11…介质驱动部；12…磁头；13…磁头驱动部；14- 记录再生信号处理系统；20…磁记录再生装置；101…轴；102…喷嘴；103…供给漉；104… 卷绕漉；105…研磨带；106…压漉；201、202…平台；203…研磨垫；S…研磨液；W…晶片。
【具体实施方式】
[0046] W下针对本发明的实施方式使用附图来说明其技术方案。另外，在W下的说明中