专利名称：聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统，特别是涉及一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构。
背景技术：
聚对二甲苯是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲结构的聚合物薄膜的统称，具有极其优良的电性能、化学稳定性和生物相容性，在微电子机械系统、电子元器件、医疗器材等领域有着广泛的应用。聚对二甲苯薄膜均采用气相沉积法(CVD工艺)制造，工艺如下:对二甲苯二聚体在180°C下升华为气体，经过高温700°C裂解为对二甲苯单体，再导入内部沉积装置中在室温下沉积聚合于产品表面。这种工艺使得聚对二甲苯薄膜具有无残余应力、完全同形、高度均匀、渗透力强等优势。目前的聚对二甲苯真空卧式沉积系统裂解装置与沉积装置间的密封结构采用主机内裂解管与真空腔室左侧延伸出连接管管口通过法兰密封圈连接。由于裂解温度为700°C左右的高温，法兰密封圈距离裂解高温段小于500mm，且热量直接由裂解管传导而来，法兰密封圈在此高温环境下容易老化，需要经常更换，同时在使用中存在漏气隐患易导致产品报废。
实用新型内容为了解决现有技术中聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构存在密封圈容易老化，更换频繁，存在漏气隐患导致产品报废的问题。本实用新型取消了原先的裂解管接口法兰与腔室墙板接口法兰对接的结构，提供了一种结构简单，密封圈不易老化损坏，使用寿命长，密封性可靠的聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构。为了解决上述问题，本实用新型所采取的技术方案是:—种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，包括主机、底座、滚桶和真空腔室，在真空腔室内安装有滚桶，其特征在于:在主机旁设置有底座，在底座的上方设置有真空腔室，在真空腔室的一侧墙板上设置有密封圈安装槽，在密封圈安装槽内设置有密封圈。真空腔室设置有密封圈安装槽的一侧墙板固定在主机侧壁上，主机内的高温裂解管穿过裂解炉并通过管口法兰与真空腔室侧壁相连接，且高温裂解管通过进气管与滚桶贯通连接。前述的一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，其特征在于:在真空腔室内的高温裂解管部分上设置有加热圈。前述的一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，其特征在于:在加热圈上设置有测量高温裂解管管体温度的热电偶。本实用新型的有益效果是:1、本实用新型密封圈安装槽开在真空腔室侧壁上，侧壁体积大，热容高，同时侧壁散热面积大，这样密封圈温度不易升高，使用寿命延长，密封可靠性大大增加。[0012]2、本实用新型延伸高温裂解管长度后扩大了主机高温区与管口法兰的距离，同时对裂解管设置分段加热、分段监视和分段控制装置后可实现管口法兰高温一侧的温度降低，管口法兰密封圈不易老化损坏。3、采用直径更大的管口法兰和密封圈，加大密封圈与高温裂解管轴心的距离，使管口法兰不易老化损坏。
图1是本实用新型聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构示意图。图2是改进前真空腔室内的结构示意图。
具体实施方式
图3是改进前真空腔室内的结构示意图。图4是改进前真空腔室连接部分结构示意图。
以下结合附图对本实用新型作进一步的描述。如图1-2所示，一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，包括主机1、真空腔室2、滚桶和底座11，在真空腔室2内安装有滚桶，在主机I旁设置有底座11，在底座11的上方设置有真空腔室2，在真空腔室2的一侧墙板5上设置有密封圈安装槽7，真空腔室2设置有密封圈安装槽的一侧墙板与主机I侧壁相连接，主机I内的高温裂解管3穿过裂解炉6并通过管口法兰4与真空腔室墙板5相连接，在密封圈安装槽7内设置有密封圈，实现高温裂解管3与墙板5的密封。本发明真空腔室2的墙板体积大，热容高，同时墙板散热面积大，这样密封圈温度不易升高，使用寿命延长，密封可靠性大大增加。高温裂解管3长度延伸后扩大了主机高温区与管口法兰的距离，同时对裂解管设置分段加热、分段监视和分段控制装置，在高温裂解管3上设置有加热圈8，在加热圈8上设置有测量裂解管延长管体温度的热电偶9，可实现管口法兰高温一侧的温度降低，管口法兰密封圈不易老化损坏。以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
权利要求1.一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，包括主机、底座、滚桶和真空腔室，在真空腔室内安装有滚桶，其特征在于:在主机旁设置有底座，在底座的上方设置有真空腔室，在真空腔室的一侧墙板上设置有密封圈安装槽，在密封圈安装槽内设置有密封圈，真空腔室设置有密封圈安装槽的一侧墙板固定在主机侧壁上，主机内的高温裂解管穿过裂解炉并通过管口法兰与真空腔室侧壁相连接，且高温裂解管通过进气管与滚桶贯通连接。
2.根据权利要求1所述的一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，其特征在于:在真空腔室内的高温裂解管部分上设置有加热圈。
3.根据权利要求2所述的一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，其特征在于:在加热圈上设置有测量高温裂解管管体温度的热电偶。
专利摘要本实用新型公开了一种聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构，包括主机、底座、滚桶和真空腔室，其特征在于在真空腔室的一侧墙板上设置有密封圈安装槽，在密封圈安装槽内设置有密封圈。真空腔室设置有密封圈安装槽的一侧墙板固定在主机侧壁上，主机内的高温裂解管穿过裂解炉并通过管口法兰与真空腔室侧壁相连接，且高温裂解管通过进气管与滚桶贯通连接。本实用新型解决了聚对二甲苯真空卧式沉积系统后裂解段密封圈容易老化漏气，更换频繁的问题，提供了一种结构简单，密封圈不易老化损坏，使用寿命长，密封性可靠的聚对二甲苯真空卧式沉积系统新密封结构。
文档编号C23C16/44GK202913057SQ20112044770
公开日2013年5月1日 申请日期2011年11月14日 优先权日2011年11月14日
发明者徐志淮 申请人:昆山彰盛奈米科技有限公司