新型石墨舟的制作方法
【专利摘要】本发明涉及真空镀膜设备【技术领域】，尤其是一种新型石墨舟。其包括舟体、舟片、支脚、上电极和下电极，舟片设置在舟体内，支脚安装在舟体底部，上电极和下电极分别位于舟体的上部和下部，舟体截面呈半圆形。将舟体设计成截面呈半圆形的船体结构，可大大适应沉淀室的结构，充分利用空间，扩大舟体的容量，从而大大提高生产效率。
【专利说明】新型石墨舟
【技术领域】
[0001]本发明涉及真空镀膜设备【技术领域】，尤其是一种新型石墨舟。
【背景技术】
[0002]PECVD是等离子体增强化学气相沉积技术的简称，其原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。石墨舟是其中的重要部件，直接影响到电场的分布、等离子的产生、气流的走向、膜的品质等。现有的石墨舟由于石墨舟片数量有限，而使得石墨舟的载片量受到限制，生产效率低下。
【发明内容】
[0003]为了克服现有的石墨舟载片少，生产效率低的不足，本发明提供了一种新型石墨舟。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种新型石墨舟，包括舟体、舟片、支脚、上电极和下电极，舟片设置在舟体内，支脚安装在舟体底部，上电极和下电极分别位于舟体的上部和下部，舟体截面呈半圆形。
[0005]根据本发明的另一个实施例，进一步包括舟片均匀分布在舟体内腔，呈弧线形排布。
[0006]根据本发明的另一个实施例，进一步包括支脚连接在舟体底部两侧，呈外八字状。
[0007]本发明的有益效果是，`将舟体设计成截面呈半圆形的船体结构，可大大适应沉淀室的结构，充分利用空间，扩大舟体的容量，从而大大提高生产效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0009]图1是本发明的结构示意图。
[0010]图中1.舟体，2.舟片，3.支脚，4.上电极，5.下电极。
【具体实施方式】
[0011]如图1是本发明的结构示意图，一种新型石墨舟，包括舟体1、舟片2、支脚3、上电极4和下电极5，舟片2设置在舟体I内，支脚3安装在舟体I底部，上电极4和下电极5分别位于舟体I的上部和下部，舟体I截面呈半圆形。舟片2均匀分布在舟体I内腔，呈弧线形排布。支脚3连接在舟体I底部两侧，呈外八字状。
[0012]将舟体I设计成截面呈半圆形的船体结构，可大大适应沉淀室的结构，充分利用空间，扩大舟体I的容量，增加舟片2的数量，并可实现不同规格硅片的混合装载，从而大大提闻生广效率。
【权利要求】
1.一种新型石墨舟，包括舟体(1)、舟片(2)、支脚(3)、上电极(4)和下电极(5)，舟片(2)设置在舟体(1)内，支脚(3)安装在舟体(1)底部，上电极(4)和下电极(5)分别位于舟体(1)的上部和下部，其特征是，舟体(1)截面呈半圆形。
2.根据权利要求1所述的新型石墨舟，其特征是，舟片(2)均匀分布在舟体(1)内腔，呈弧线形排布。
3.根据权利要求1所述的新型石墨舟，其特征是，支脚(3)连接在舟体(1)底部两侧，呈外八字状。`
【文档编号】C23C16/458GK103510076SQ201210217096
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2012年6月28日 优先权日:2012年6月28日
【发明者】沈文伟 申请人:沈文伟