专利名称：一种磁控靶水冷罩的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及机械生产设备技术领域，具体涉及一种磁控靶水冷罩。
背景技术：
由于活性反应 气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以靶周围温度很高，有些易变形的产品如塑料、薄片等，在镀膜的过程中会发生变形弯曲，导致产品破坏。
发明内容本实用新型目的是针对现有技术的不足，提供一种本实用新型结构简单，实用性强、便于生产制造的一种磁控靶水冷罩。本实用新型的目的通过以下技术方案实现一种真空镀膜机磁控靶水冷罩，磁控靶安装组装在磁控靶安装座上，其特征在于在所述的安装座上设有磁控靶挡板，在磁控靶挡板与磁控靶相对的内壁上设有冷却水管；所述的冷却水管沿磁控靶挡板内壁均匀排列，该冷却水管上设有进水口、出水口 ；所述的进水口、出水口设在磁控靶挡板的外侧。在所述的磁控靶挡板外侧设有磁控靶外罩。本实用新型的有益效果在于可有效降低靶周围冷却降低温度，从而提高产品的合格率，而且本装置结构简单，实用性强、便于生产制造。
利用附图对本实用新型作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制。图I、图2是本实用新型示意图。图3是本实用新型的A-A截面图。在图I、图2、图3中包括I、安装座，2、磁控靶，3、磁控靶挡板，4、磁控靶外罩，5、冷却水管，51、进水口，52、出水口。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作详细说明。图I、图2、图3中，安装座I上设有磁控靶挡板3，在磁控靶挡板3与磁控靶2相对的内壁上设有冷却水管5 ;所述的冷却水管5沿磁控靶挡板3内壁均匀排列，该冷却水管5上设有进水口 51、出水口 52 ;所述的进水口 51、出水口 52设在磁控靶挡板3的外侧。在所述的磁控靶挡板3外侧设有磁控靶外罩4。[0016]磁控靶2工作时会发出热量，冷却水通过进水口 51进入冷却水管5，沿磁控靶挡板3流动，带走局部区域内的热量，带有热量的冷却水从出水口 52流出，从而达到降低磁控靶2周围及室内温度，避免镀膜基体变型的效果。最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用 新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
权利要求1.一种真空镀膜机磁控靶水冷罩，磁控靶(2)安装组装在磁控靶安装座(I)上，其特征在于在所述的安装座(I)上设有磁控靶挡板(3)，在磁控靶挡板(3)与磁控靶(2)相对的内壁上设有冷却水管(5);所述的冷却水管(5)沿磁控靶挡板(3)内壁均匀排列，该冷却水管(5 )上设有进水口(51)、出水口(52);所述的进水口(51)、出水口(52)设在磁控靶挡板(3 )的外侧。
2.一种真空镀膜机磁控靶水冷罩，其特征在于在所述的磁控靶挡板(3)外侧设有磁控革巴外罩(4)。
专利摘要本实用新型涉及机械生产设备技术领域，具体涉及一种磁控靶水冷罩。本装置特征在于在所述的安装座上设有磁控靶挡板，在磁控靶挡板与磁控靶相对的内壁上设有冷却水管；所述的冷却水管沿磁控靶挡板内壁均匀排列，该冷却水管上设有进水口、出水口；所述的进水口、出水口设在磁控靶挡板的外侧。本实用新型可有效降低靶周围冷却降低温度，从而提高产品的合格率，而且本装置结构简单，实用性强、便于生产制造。
文档编号C23C14/35GK202482420SQ201220003299
公开日2012年10月10日 申请日期2012年1月6日 优先权日2012年1月6日
发明者张德云, 潘振强, 肖祥军 申请人:肇庆市振华真空机械有限公司