磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法
【专利说明】
[0001]技术领域:
本发明涉及一种磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法。
[0002]【背景技术】:
三元催化器是安装在汽车排气系统中最重要的机外净化装置，它可将汽车尾气排出的CO—氧化碳、HC碳氢化合物和NO x氮氧化物等有害气体通过氧化和还原作用转变为无害的二氧化碳、水和氮气。由于这种催化器可同时将废气中的三种主要有害物质转化为无害物质，通常，三元催化器的生产方法为陶瓷载体预烧结、催化层涂覆、高温烧结后得到含有重金属的催化剂载体。但由于涂覆或者浸镀的过程中增加了工序而且浪费了溶液，因此如何简单制备高结合强度的催化剂载体成为有待解决的技术问题。
[0003]
【发明内容】
:
本发明的目的是提供一种磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法。
[0004]上述的目的通过以下的技术方案实现:
一种磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，其组成包括:堇青石陶瓷载体，将所述的堇青石陶瓷载体设置于磁控溅射装置的真空室内；抽出真空室内的气体，当真空室内真空镀达到标准时，向真空室内充入设定浓度的惰性气体；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷的孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，碰撞的过程中电离出的电子飞向堇青石陶瓷孔径的内部；氩离子在电场的作用下加速轰击重金属靶，呈中性的重金属分子沉积在堇青石陶瓷孔径的表面，形成重金属薄膜。
[0005]所述的磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，将堇青石陶瓷放置于磁控溅射装置的真空室内，利用磁控溅射装置产生的磁场，使得金属靶产生偏差电流，金属靶作为负极，从而使堇青石陶瓷表面带有磁层体；所述金属靶的材料为溅射贵重金属，所述贵重金属为铂、铑、钯；在金属靶产生偏差电流的同时，对磁控溅射装置的真空室进行加热，温度控制在350°C _700°C;抽出真空室内的气体，当真空室内的真空度小于2X 10_4Pa时，向真空室内充入设定浓度的氩气；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向堇青石陶瓷内孔径表面；氩离子在电场的作用下急速轰击金属靶，溅射出大量的金属靶靶材原子或分子，呈中性的靶原子或分子沉积在堇青石内孔径表面，形成贵重金属薄膜。
[0006]有益效果:
1.本发明将堇青石陶瓷载体设置于磁控溅射装置的真空室内；抽出真空室内的气体，当真空室内真空镀达到标准时，向真空室内充入设定浓度的惰性气体；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷的孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，碰撞的过程中电离出的电子飞向堇青石陶瓷孔径的内部；氩离子在电场的作用下加速轰击重金属靶，呈中性的重金属分子沉积在堇青石陶瓷孔径的表面，形成重金属薄膜；避免了复杂的工序和浸镀中原料的浪费并提高了重金属膜的缜密性及均质性。
[0007]【附图说明】:
附图1是本发明的结构示意图。
[0008]【具体实施方式】:
实施例1:
一种磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，其组成包括:堇青石陶瓷载体，将所述的堇青石陶瓷载体设置于磁控溅射装置的真空室内；抽出真空室内的气体，当真空室内真空镀达到标准时，向真空室内充入设定浓度的惰性气体；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷的孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，碰撞的过程中电离出的电子飞向堇青石陶瓷孔径的内部；氩离子在电场的作用下加速轰击重金属靶，呈中性的重金属分子沉积在堇青石陶瓷孔径的表面，形成重金属薄膜。
[0009]实施例2:
根据实施例1所述的磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，其特征是:将堇青石陶瓷放置于磁控溅射装置的真空室内，利用磁控溅射装置产生的磁场，使得金属靶产生偏差电流，金属靶作为负极，从而使堇青石陶瓷表面带有磁层体；所述金属靶的材料为溅射贵重金属，所述贵重金属为铂、铑、钯；在金属靶产生偏差电流的同时，对磁控溅射装置的真空室进行加热，温度控制在350°c -700°C ;抽出真空室内的气体，当真空室内的真空度小于2X10_4Pa时，向真空室内充入设定浓度的氩气；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向堇青石陶瓷内孔径表面；氩离子在电场的作用下急速轰击金属靶，溅射出大量的金属靶靶材原子或分子，呈中性的靶原子或分子沉积在堇青石内孔径表面，形成贵重金属薄膜。
【主权项】
1.一种磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，其组成包括:堇青石陶瓷载体，其特征是:将所述的堇青石陶瓷载体设置于磁控溅射装置的真空室内；抽出真空室内的气体，当真空室内真空镀达到标准时，向真空室内充入设定浓度的惰性气体；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷的孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，碰撞的过程中电离出的电子飞向堇青石陶瓷孔径的内部；氩离子在电场的作用下加速轰击重金属靶，呈中性的重金属分子沉积在堇青石陶瓷孔径的表面，形成重金属薄膜。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法，其特征是:将堇青石陶瓷放置于磁控溅射装置的真空室内，利用磁控溅射装置产生的磁场，使得金属靶产生偏差电流，金属靶作为负极，从而使堇青石陶瓷表面带有磁层体；所述金属靶的材料为溅射贵重金属，所述贵重金属为铂、铑、钯；在金属靶产生偏差电流的同时，对磁控溅射装置的真空室进行加热，温度控制在350°C -700°C ;抽出真空室内的气体，当真空室内的真空度小于2X KT4Pa时，向真空室内充入设定浓度的氩气；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向堇青石陶瓷内孔径表面；氩离子在电场的作用下急速轰击金属靶，溅射出大量的金属靶靶材原子或分子，呈中性的靶原子或分子沉积在堇青石内孔径表面，形成贵重金属薄膜。
【专利摘要】磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜的生产方法。三元催化器在涂覆或者浸镀的过程中增加了工序，浪费了溶液。本发明方法包括：堇青石陶瓷载体，堇青石陶瓷载体设置于磁控溅射装置的真空室内；抽出真空室内的气体，当真空室内真空镀达到标准时，向真空室内充入设定浓度的惰性气体；向金属靶通入电流，进行溅射镀膜；金属靶产生的离子在电场的作用下加速飞向堇青石陶瓷的孔径内表面的过程中与氩原子发生碰撞，碰撞的过程中电离出的电子飞向堇青石陶瓷孔径的内部；氩离子在电场的作用下加速轰击重金属靶，呈中性的重金属分子沉积在堇青石陶瓷孔径的表面，形成重金属薄膜。本发明用于三元催化器陶瓷镀贵重金属膜。
【IPC分类】C23C14-18, C23C14-35
【公开号】CN104775100
【申请号】CN201410841546
【发明人】赵宏伟
【申请人】哈尔滨固泰电子有限责任公司
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2014年12月30日