专利名称：离子溅射仪溅射靶的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种离子溅射仪部件，尤其涉及一种离子溅射仪溅射靶。
背景技术：
离子溅射仪是在真空容器内，在高压2000V的作用下，残留的气体分子被电离，形成等离子体，阳离子在电场加速下轰击金属钯，使金属原子溅射到样品的表面，形成导电膜。离子溅射仪溅射靶是离子溅射仪的核心部件。现有国产离子溅射仪用的靶头溅射材料一般都是贵金属，如金、银等，因此其用量的大小直接关系到用户的使用成本；现有技术中靶头溅射材料覆盖到了靶头的侧面，这一部分在实际应用中是溅射不到的，所以，靶头溅射材料敷设面积的大小不合理，不能充分利用，增加了部件的成本。另外，现有的离子溅射仪·的靶头部件结构复杂，安装不方便。由上可见，为了使离子溅射仪溅射靶安装简单，使用方便，充分利用敷设的溅射材料，降低后期使用成本，有必要对现有的离子溅射仪溅射靶结构上进行改进。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种离子溅射仪溅射靶，使其安装简单，使用方便，能充分利用敷设的溅射材料，降低后期使用成本。本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种离子溅射仪溅射靶，包括上盖板，所述上盖板上侧设有接线柱，其中，所述上盖板下侧设置靶头，所述靶头为圆形，所述靶头直径为50mm 60mm，所述靶头外表面设有溅射层，所述溅射层涂有溅射材料。上述的离子溅射仪溅射靶，其中，所述靶头外侧设有压盖。上述的离子溅射仪溅射靶，其中，所述上盖板和靶头通过螺栓固定连接。本实用新型对比现有技术有如下的有益效果本实用新型提供的离子溅射仪溅射革巴，安装简单，使用方便，减小了祀头的直径，其祀头直径设计为50mm 60mm,仅需祀头外表面溅射层敷设溅射材料，从而充分利用敷设的溅射材料，降低后期使用成本。
图I为本实用新型离子溅射仪溅射靶剖面结构图。图中I靶头 2溅射层 3压盖4上盖板5接线柱 6螺栓
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。图I为本实用新型离子溅射仪溅射靶结构示意图。[0015]请参见图1，本实用新型提供的离子溅射仪溅射靶包括上盖板4，所述上盖板4上侧设有接线柱5，所述上盖板4下侧设置靶头I，所述靶头I为圆形，所述靶头I直径为50mm 60mm，所述靶头I外表面设有溅射层2，所述溅射层2涂有溅射材料。所述溅射材料多采用金、银等贵金属。现有的靶头I直径为65mm，溅射材料涂敷到了靶头I的侧面，即溅射材料也相应的覆盖了靶头I的侧面，实际应用中覆盖到靶头I侧面部分的溅射材料是溅射不到的，所以不能充分利用，增加了部件的成本。本实用新型针对现有技术这方面的缺点，仅需在靶头I的正面敷设了溅射材料，从而充分利用敷设的溅射材料，降低后期使用成本。所述靶头I外侧设有压盖3 ;所述上盖板4和靶头I通过螺栓6固定连接，安装简单，使用方便。虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
权利要求1.一种离子溅射仪溅射靶，包括上盖板(4)，所述上盖板(4)上侧设有接线柱(5)，其特征在于所述上盖板⑷下侧设置靶头(I)，所述靶头⑴为圆形，所述靶头⑴直径为50mm 60mm，所述靶头(I)外表面设有溅射层(2)，所述溅射层(2)涂有溅射材料。
2.根据权利要求I所述的离子溅射仪溅射靶，其特征在于所述靶头(I)外侧设有压盖⑶。
3.根据权利要求I所述的离子溅射仪溅射靶，其特征在于所述上盖板(4)和靶头(I)通过螺栓￠)固定连接。
专利摘要本实用新型公开的离子溅射仪溅射靶，包括上盖板，所述上盖板上侧设有接线柱，其中，所述上盖板下侧设置靶头，所述靶头为圆形，所述靶头直径为50mm～60mm，所述靶头外表面设有溅射层，所述溅射层涂有溅射材料；所述靶头外侧设有压盖；所述上盖板和靶头通过螺栓固定连接。本实用新型提供的离子溅射仪溅射靶，安装简单，使用方便，减少了靶头的面积，仅需靶头正面涂覆溅射材料，节约了材料，降低了后期使用成本。
文档编号C23C14/34GK202499900SQ20122009348
公开日2012年10月24日 申请日期2012年3月14日 优先权日2012年3月14日
发明者袁玫, 黄耀生 申请人:南京南大仪器厂