1.一种高致密性泡沫镍的制备方法，采用电沉积法制备，工艺路线为：膜芯导电化--电镀--焚烧--还原，其特征在于：在电镀步骤后，将泡沫镍的电镀半成品直接进行晶化处理，晶化处理在温度为640-940℃，时间为3-10分钟，H2和N2的摩尔比为3：1的氨分解气体气氛条件下进行，经晶化处理后的泡沫镍半成品再经焚烧、还原处理，最后经冷却后得到泡沫镍成品。
2.根据权利要求1所述的高致密性泡沫镍的制备方法，其特征是：焚烧温度为300-500℃，时间为2-5分钟。
3.根据权利要求1所述的高致密性泡沫镍的制备方法，其特征是：还原温度为750-920℃，时间为15-20分钟。