1.一种溅射用靶材，其是由氧化物烧结体构成并且具有溅射面的溅射用靶材，其中，
前述溅射面具有以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下的表面粗糙度。
2.如权利要求1所述的溅射用靶材，其中，前述算数平均粗糙度Ra为0.9μm～1.5μm的范围，前述最大高度Rz为5.0μm～10.0μm的范围，前述十点平均粗糙度RzJIS为4.0μm～7.0μm的范围。
3.一种溅射用靶材的制造方法，其中，其具有加工由氧化物烧结体构成的材料而得到溅射用靶材的加工工序，在该加工工序中，对于前述材料中的在前述溅射用靶材中成为溅射面的面，使用规定粒度的磨石实施粗磨，然后，实施清磨，由此将前述溅射面的表面粗糙度设为以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下。
4.如权利要求3所述的溅射用靶材的制造方法，其中，实施前述粗磨和前述清磨，以使前述算数平均粗糙度Ra在0.9μm～1.5μm的范围、前述最大高度Rz在5.0μm～10.0μm的范围、前述十点平均粗糙度RzJIS在4.0μm～7.0μm的范围。
5.如权利要求3所述的溅射用靶材的制造方法，其中，使用粒度范围为100#～170#的磨石进行前述粗磨，并且，使用粒度范围为140#～400#的磨石进行前述清磨。
6.如权利要求4所述的溅射用靶材的制造方法，其中，使用粒度范围为100#～170#的磨石进行前述粗磨，并且，使用粒度范围为140#～400#的磨石进行前述清磨。
7.如权利要求3所述的溅射用靶材的制造方法，其中，分2次～4次进行前述粗磨。
8.如权利要求4所述的溅射用靶材的制造方法，其中，分2次～4次进行前述粗磨。
9.如权利要求5所述的溅射用靶材的制造方法，其中，分2次～4次进行前述粗磨。
10.如权利要求6所述的溅射用靶材的制造方法，其中，分2次～4次进行前述粗磨。
11.如权利要求3～10中任一项所述的溅射用靶材的制造方法，其中，分2次～6次进行前述清磨。
12.如权利要求3～10中任一项所述的溅射用靶材的制造方法，其中，在前述粗磨后并且前述清磨前，分1次～4次进行使用粒度范围为140#～400#的磨石的精磨。
13.如权利要求11所述的溅射用靶材的制造方法，其中，在前述粗磨后并且前述清磨前，分1次～4次进行使用粒度范围为140#～400#的磨石的精磨。
14.一种溅射靶，其是具有支撑本体和介由接合层而接合在该支撑本体的溅射用靶材的溅射靶，其中，
前述溅射用靶材是权利要求1或2所述的溅射用靶材。
15.如权利要求14所述的溅射靶，其中，前述溅射用靶材由多个的分割靶材构成。
16.如权利要求14或15所述的溅射靶，其中，前述支撑本体由圆筒形支撑管构成，前述溅射用靶材具有圆筒形状。
17.一种溅射靶的制造方法，其是由邻接配置的多个的分割靶材构成的溅射靶的制造方法，其中，其具有：
使用权利要求1或2所述的溅射用靶材作为前述多个的分割靶材中的各靶材，以使邻接的前述分割靶材之间的相对端面的间隔为0.1mm以上且1.0mm以下的方式，将该多个的分割靶材接合在支撑本体的工序。