溅射用靶材及其制造方法与流程

文档序号:15883274发布日期:2018-11-09 18:21阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供电弧、结节的产生极少的溅射靶及其制造方法。加工由氧化物烧结体构成的材料而得到平板状或圆筒形靶材(3、13)。此时,使用规定粒度的磨石,并根据该磨石的粒度对所述材料中成为溅射面(5、15)的面,实施一次以上的粗磨,然后,实施一次以上的清磨,从而将溅射面(5、15)的表面粗糙度控制在以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下。介由接合层(4、14)将所得到的靶材(3、13)与支撑本体(2、12)接合而制成溅射靶(1、11)。

技术研发人员:小泽诚;安东勋雄
受保护的技术使用者:住友金属矿山株式会社
技术研发日:2015.06.25
技术公布日:2018.11.09

当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1