一种高性能的研磨体的制作方法

文档序号:11794318阅读:238来源:国知局

本发明涉及一种高性能的研磨体。



背景技术:

研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他型面。用于研磨的研磨体在研磨时需要较高的硬度,研磨体的硬度很大程度上影响了研磨的效率,因此,高硬度的研磨体应用的范围越来越广。



技术实现要素:

针对现有技术的不足,本发明要解决的问题是,提供一种改良的研磨体,具有极高的硬度,能够研磨的范围较广,且对于研磨部件的影响较小。

为解决现有技术问题,本发明提供的技术方案是,一种高性能的研磨体,其由以下重量份数的原料制成:

环氧树脂6-10份,石英砂3-8份,氧化镁6-11份,立方氮化硼微粉15-18份,水溶性硬脂酸3-10份,氧化铝7-11份,氧化锆2-7份,三乙基己基磷酸酯6-12份,三乙醇胺2-5份,偏硅酸钠4-9份,甘油7-8份,三氧化二铝11-16份,石英粉5.8-12份,碳化硅13-16份,硬脂酸锌1.5-6份,二氧化硅4.3-11份。

本发明的有益效果是:本发明的研磨体,具有极高的硬度,能够研磨的范围较广,且对于研磨部件的影响较小。

具体实施方式

实施例1

一种高性能的研磨体,其由以下重量份数的原料制成:

环氧树脂6份,石英砂3份,氧化镁6份,立方氮化硼微粉15份,水溶性硬脂酸3份,氧化铝7份,氧化锆2份,三乙基己基磷酸酯6份,三乙醇胺2份,偏硅酸钠4份,甘油7份,三氧化二铝11份,石英粉5.8份,碳化硅13份,硬脂酸锌1.5份,二氧化硅4.3份。

实施例2

一种高性能的研磨体,其由以下重量份数的原料制成:

环氧树脂10份,石英砂8份,氧化镁11份,立方氮化硼微粉18份,水溶性硬脂酸10份,氧化铝11份,氧化锆7份,三乙基己基磷酸酯12份,三乙醇胺5份,偏硅酸钠9份,甘油8份,三氧化二铝16份,石英粉12份,碳化硅16份,硬脂酸锌6份,二氧化硅11份。

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