用于铜或铜合金的蚀刻溶液的制作方法

文档序号:12251698阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于从同时包括铜或铜合金和含镍材料的微电子装置选择性蚀刻铜或铜合金的溶液,所述溶液包含在分子中具有酸基团的螯合剂(A)、过氧化氢(B)和在分子中具有氧化乙烯链的表面活性剂(C),其中所述螯合剂(A)包含选自以下的有机酸:乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、β-丙氨酸二乙酸、天冬氨酸二乙酸、甲基甘氨酸二乙酸、亚氨基二琥珀酸、丝氨酸二乙酸、羟基亚氨基二琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、均苯四酸、苯并多羧酸、环戊烷四羧酸、甲基二膦酸、氨基三(亚甲基膦酸)、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸(HEDP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)、丙二胺四(亚甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、三亚乙基四胺六(亚甲基膦酸)、三氨基三乙基胺六(亚甲基膦酸)、反式-1,2-环己烷二胺四(亚甲基膦酸)、乙二醇醚二胺四(亚甲基膦酸)、四亚乙基五胺七(亚甲基膦酸)、甲二磺酸、乙二磺酸、苯酚二磺酸、萘二磺酸、哌嗪-1,4-双(2-乙磺酸)、膦酰乙酸、2-羟基-2-膦酰乙酸、羧基膦酸、3-膦酰基丙酸、4-(3-膦酰基丙基)-2-哌嗪甲酸、乳酸、水杨酸、没食子酸、2-羟乙基膦酸、2-羟基乙磺酸、其盐及其组合。

2.权利要求1的溶液,其中所述表面活性剂(C)包含烷基胺的环氧乙烷(EO)加合物(C1)、一元醇的EO加合物(C2)、多元醇的EO加合物(C3)、环氧乙烷环氧丙烷共聚物(C4)、烷基酚的EO加合物(C5)、脂肪酸的EO加合物(C6)、通过修饰烷基醇的EO加合物的末端而制备的阴离子型表面活性剂(C7)、通过修饰烷基酚的EO加合物的末端而制备的阴离子型表面活性剂(C8)及其任意组合。

3.权利要求1的溶液,其中所述表面活性剂(C)包含脂肪胺的环氧乙烷加合物。

4.权利要求1的溶液,其中所述表面活性剂(C)包含选自以下的物质:辛胺的环氧乙烷(EO)加合物、月桂胺的EO加合物、聚氧乙烯辛基醚的EO加合物、聚氧乙烯月桂基醚的EO加合物、聚氧乙烯硬脂基醚的EO加合物、蔗糖的EO加合物、山梨糖醇的EO加合物、季戊四醇的EO加合物、山梨糖醇单月桂酸酯的EO加合物、聚氧化丙二醇的环氧乙烷加合物、聚氧化乙二醇的环氧丙烷加合物、聚氧乙烯壬基苯基醚的EO加合物、聚氧乙烯辛基苯基醚的EO加合物、聚乙二醇单硬脂酸酯的EO加合物、聚乙二醇二硬脂酸酯的EO加合物、聚乙二醇单油酸酯的EO加合物、聚乙二醇二油酸酯的EO加合物、聚氧乙烯辛基醚乙酸(盐)、聚氧乙烯月桂基醚乙酸(盐)、聚氧乙烯辛基醚磺基琥珀酸(盐)、聚氧乙烯月桂基醚磺基琥珀酸(盐)、聚氧乙烯辛基醚硫酸酯(盐)、聚氧乙烯月桂基醚硫酸酯(盐)、聚氧乙烯壬基苯基醚硫酸酯(盐)、聚氧乙烯辛基苯基醚硫酸酯(盐)及其组合。

5.权利要求1的溶液,其中所述表面活性剂(C)包含辛胺的环氧乙烷(EO)加合物、月桂胺的EO加合物或其组合。

6.权利要求1的溶液,其中所述螯合剂(A)的重量与过氧化氢(B)的重量比(A)/(B)为1至30。

7.权利要求1的溶液,其中所述螯合剂(A)的重量与所述表面活性剂(C)的重量比(A)/(C)为1至100。

8.权利要求1的溶液,其还包含至少一种溶剂(D)。

9.权利要求8的溶液,其中所述至少一种溶剂包含选自以下的物质:水、甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、正己醇、正辛醇、2-乙基己醇、环己醇、乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、四氢糠醇、甘油、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单甲醚丙酸酯、乙二醇单丁醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、二乙醚、二异丙基醚、二丁醚、四氢呋喃、1,4-二氧六环、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、γ-丁内酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丙基酮、甲基异丁基酮、甲基戊基酮、环戊酮、环己酮、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺及其组合。

10.权利要求1的溶液,其中所述至少一种溶剂包含水。

11.权利要求1的溶液,其还包含选自至少一种抗腐蚀组分(E)、至少一种抗氧化剂(F)和至少一种碱性化合物(G)的至少一种组分。

12.权利要求11的溶液,其包含选自以下的至少一种抗腐蚀组分(E):苯并三唑、邻甲苯基三唑、间甲苯基三唑、对甲苯基三唑、羧基苯并三唑、1-羟基苯并三唑、硝基苯并三唑、二羟基丙基苯并三唑、咪唑、苯并咪唑、苯并咪唑甲酸、咪唑-2-甲酸、咪唑-4-甲酸、咪唑-2-羧基醛、咪唑-4-羧基醛、4-咪唑二硫代甲酸、巯基噻唑、巯基乙醇、硫代甘油、赤藓糖醇、苏糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、核糖醇、甘露糖醇、山梨糖醇、麦芽糖醇和肌醇。

13.权利要求11的溶液,其包含选自以下的至少一种抗氧化剂(F):儿茶素、生育酚、儿茶酚、甲基儿茶酚、乙基儿茶酚、叔丁基儿茶酚、没食子酸、没食子酸甲酯、没食子酸丙酯、3-羟基黄酮和抗坏血酸。

14.权利要求11的溶液,其包含选自以下的至少一种碱性化合物(G):甲胺、乙胺、丙胺、异丙胺、丁胺、己胺、二甲胺、乙基甲基胺、丙基甲基胺、丁基甲基胺、二乙胺、丙基乙基胺、二异丙基胺、三甲胺、乙基二甲基胺、二乙基甲基胺、三乙胺、三正丙基胺、三正丁基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甲基氨基乙醇、二乙基氨基乙醇、2-氨基-2-甲基-1-丙醇、N-(氨基乙基)乙醇胺、N,N-二甲基-2-氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、乙二胺、丙二胺、三亚甲基二胺、四亚甲基二胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、六亚甲基七胺、亚氨基双丙基胺、双(六亚甲基)三胺、五亚乙基六胺、苯胺、苯二胺、甲苯二胺、苯二甲胺、亚甲基二苯胺、二苯基醚二胺、萘二胺、蒽二胺、异佛尔酮二胺、亚环己基二胺、哌嗪、N-氨基乙基哌嗪、1,4-二氨基乙基哌嗪、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、咪唑、吡唑、噁唑、噻唑、吡啶、嘧啶、哒嗪、吡嗪、联吡啶和菲咯啉。

15.权利要求1的溶液,其中pH在0至5的范围内。

16.一种生产微电子装置的方法,所述方法包括使用溶液从微电子装置选择性蚀刻铜或铜合金,其中所述装置同时包括铜或铜合金和含镍材料,其中所述溶液是权利要求1至15任一项的溶液。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1