一种玻璃镀膜生产线的制作方法

本发明涉及玻璃镀膜生产设备领域。

背景技术：

玻璃镀膜是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。

玻璃镀膜是通过在真空环境中，充入少量工作气体(例如Ar、O₂、N₂等)，通过电极之间的放电在溅射室中形成等离子体，通过离子轰击金属靶材，使得金属靶材中的金属粒子溢出，逐步沉积在玻璃表面，形成金属膜或金属化合物膜。

由于玻璃镀膜工艺需要在高度真空的环境下进行，并且需要排除空气杂质对工作气体的影响，以保证镀膜质量，因此玻璃物料在进入玻璃镀膜生产线的溅射室前需要一系列的过渡腔室，逐步抽去空气提升环境真空度，在玻璃物料镀膜完成离开溅射室时，也需要一系列的过渡腔室，逐步降低真空度，进入正常大气环境。

因此在玻璃镀膜生产线中，沿玻璃物料传送方向，依次包括进口室，进口缓冲室，进口过渡室，溅射室，出口过渡室，出口缓冲室，出口室；从进口室到溅射室，真空度逐步提高，从溅射室到出口室，真空度逐步下降。在物料从大气环境进入进口室，从进口室进入进口缓冲室，从进口缓冲室进入进口过渡室，从出口过渡室进入出口缓冲室，从出口缓冲室进入出口室，从出口室进入大气环境，这些过渡阶段，均需要两个环境之间气压达到平衡才能打开物料门，进行玻璃的传送。

例如从大气环境进入进口室时，先对进口室放气，使进口室的压强等于外界大气压强，然后打开进口室与外界的物料门，将玻璃物料传输到进口室中，然后关闭进口室与外界的物料门，对进口室抽真空，待进口室的真空度与进口缓冲室的真空度平衡之后，打开进口室与进口缓冲室之间的物料门，将玻璃物料传输到进口缓冲室中……玻璃物料镀膜后输送出生产线经过出口缓冲室与出口室也需要类似的气压平衡过程。

实现本发明的过程中，发明人发现现有技术中存在如下问题：由于在现有技术中，进口室与大气环境之间的压差较大，因此进口室放气-抽真空的周期明显长于其他腔室放气-抽真空的周期，所以导致提高整个玻璃镀膜生产线效率的瓶颈在于进口室的放气-抽真空周期，若该时间周期不能有效缩短，则玻璃镀膜生产线效率无法有效提升，影响产品生产速度，并导致靶材的浪费。

技术实现要素：

为此，需要提供一种能有效提升玻璃镀膜生产效率，减少靶材浪费的玻璃镀膜生产线。

为实现上述目的，发明人提供了一种玻璃镀膜生产线，所述玻璃镀膜生产线沿玻璃物料传送方向，依次包括进口室，进口缓冲室，进口过渡室，溅射室，出口过渡室，出口缓冲室，出口室；

所述进口室，进口缓冲室，进口过渡室，溅射室，出口过渡室，出口缓冲室，出口室中铺设有与玻璃物料相平行的传送辊，并设置有与真空系统连接的抽气口；

进口过渡室与出口过渡室设置有隔离装置，所述隔离装置包括上隔离装置与下隔离装置，所述上隔离装置具有自上而下延伸至玻璃物料传送平面上方的上隔离板，所述下隔离装置具有自下而上延伸至玻璃物料传送平面下方的下隔离板，所述上隔离板的下缘高于传送辊上表面，所述下隔离板的上缘低于传送辊上表面，上隔离板与下隔离板之间形成容玻璃物料通过的物料通道，所述上隔离板与下隔离板正对或斜对玻璃物料传送方向。

可选的，所述上隔离装置包括上底板以及与上底板两端或中部连接的上隔离板，所述下隔离装置包括下底板以及与下底板两端或中部连接的下隔离板。

可选的，所述上隔离装置中，上底板与上隔离板围成中空的上隔离腔，所述下隔离装置中，下底板与下隔离板围成中空的下隔离腔，所述上隔离腔与下隔离腔端部开口，所述进口过渡室与出口过渡室的抽气口位置与上隔离腔与下隔离腔端部相对应。

可选的，所述进口室与出口室与机械真空泵连接，通过机械真空泵抽真空，所述进口缓冲室与出口缓冲室与罗茨泵及机械真空泵连接，通过串联的罗茨泵与机械真空泵抽真空，所述进口过渡室与出口过渡室与分子泵、罗茨泵以及机械真空泵连接，通过串联的分子泵、罗茨泵与机械真空泵抽真空，所述溅射室与分子泵、罗茨泵以及机械真空泵连接，通过串联的分子泵、罗茨泵与机械真空泵抽真空。

可选的，所述进口过渡室与出口过渡室的抽气口包括独立抽气口与并联抽气口，所述并联抽气口较独立抽气口更靠近溅射室的抽气口，并联抽气口与溅射室的抽气口并联抽真空。

可选的，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为10-30mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为1-12×10^-2mbar。

可选的，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为15-25mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为5-8×10^-2mbar。

可选的，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为20mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为7×10^-2mbar。

区别于现有技术，上述技术方案所述的玻璃镀膜生产线可以降低进口室与出口室的真空度，缩小进口室与出口室相对于大气环境的压差，因此有效缩短进口室与出口室的放气-抽真空周期。本发明中，由于降低了进口室与出口室的真空度，因此进口缓冲室与出口缓冲室的真空度也随之下降，从而加大了进口缓冲室与进口过渡室，出口缓冲室与出口过渡室之间的压差，如果采用传统的玻璃镀膜生产线结构，当开启进口缓冲室与进口过渡室之间的物料门以及出口缓冲室与出口过渡之间的物料门时，较大的压差导致较强的气流冲击，从而使得来自进口缓冲室与出口缓冲室的气流对进口过渡室，出口过渡室的气体环境造成冲击，而进口过渡室，出口过渡室与溅射室之间通常没有设置物料门隔绝，因此气流对进口过渡室，出口过渡室的冲击会影响溅射室的气体环境，从而影响玻璃镀膜的质量。

本发明在进口过渡室与出口过渡室中设置了隔离装置，因此当开启进口缓冲室与进口过渡室之间的物料门以及出口缓冲室与出口过渡之间的物料门时，冲击气流会被上隔离装置与下隔离装置所阻挡，上下延伸的上隔离板与下隔离板起到了阻挡冲击气流的作用。

附图说明

图1为具体实施方式所述进口过渡室或出口过渡室侧面结构示意图；

图2为具体实施方式所述玻璃镀膜生产线各腔室真空系统的连接示意图；

图3为具体实施方式中作为对比的玻璃镀膜生产线各腔室真空系统的连接示意图。

附图标记说明：

21、上隔离装置，

210、上隔离腔

211、上隔离板，

212、上底板

22、下隔离装置，

221、下隔离板，

222、下底板，

31、机械泵，

32、罗茨泵，

33、分子泵

50、物料通道

80、传送辊，

91、独立抽气口，

92、并联抽气口

具体实施方式

为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。

请参阅图1，本实施例提供了一种玻璃镀膜生产线，所述玻璃镀膜生产线沿玻璃物料传送方向，依次包括进口室C1，进口缓冲室C2，进口过渡室C3，溅射室C4，出口过渡室C5，出口缓冲室C6，出口室C7；

所述进口室C1，进口缓冲室C2，进口过渡室C3，溅射室C4，出口过渡室C5，出口缓冲室C6，出口室C7中铺设有与玻璃物料相平行的传送辊80，并设置有与真空系统连接的抽气口；

进口过渡室C3与出口过渡室C5设置有隔离装置，所述隔离装置包括上隔离装置21与下隔离装置22，所述上隔离装置21具有自上而下延伸至玻璃物料传送平面上方的上隔离板211，所述下隔离装置22具有自下而上延伸至玻璃物料传送平面下方的下隔离板221，所述上隔离板的下缘高于传送辊上表面，所述下隔离板的上缘低于传送辊上表面，上隔离板211与下隔离板221之间形成容玻璃物料通过的物料通道50，所述上隔离板与下隔离板正对或斜对玻璃物料传送方向。

其中上隔离板与下隔离板正对或斜对玻璃物料传送方向，所述正对玻璃物料传送方向，是指上隔离板和/或下隔离板与玻璃物料传送方向垂直。所述斜对玻璃物料传送方向，是指上隔离板和/或下隔离板倾斜设置，这里的倾斜可以是上下方向的倾斜，也可以是左右方向的倾斜，或上下方向与左右方向都倾斜，也就是上隔离板、下隔离板不与玻璃物料传送方向平行，也不与玻璃物料传送方向垂直。不论是正对还是斜对玻璃物料传送方向，上/下隔离板均可以阻挡沿玻璃物料传送方向或相反方向吹来的气流。

具体的，如图1所示的实施例中，所述上隔离装置包括上底板212以及与上底板两端连接的上隔离板211，所述下隔离装置包括下底板222以及与下底板中部连接的下隔离板221。在不同的实施例中，上隔离板也可以连接上底板中部，下隔离板也可以连接下底板两端。由于下底板与下隔离板通常位于传送辊80之间，因此采用下底板中部与下隔离板连接的“T”字形结构，有利与最大程度地通过下底板将传送辊之间的空间与其他空间相区隔，实现更好的隔离效果。

实施例中，所述上隔离装置21中，上底板212与上隔离板211围成中空的上隔离腔210，所述下隔离装置中，下底板222与下隔离板221围成中空的下隔离腔220，所述上隔离腔210与下隔离腔220端部开口，进口过渡室与出口过渡室的抽气口的位置与上隔离腔与下隔离腔端部相对应。

这样的结构，通过抽气口直接对上隔离腔或下隔离腔抽气，有助于在上、下隔离腔中形成负压结构，当物料门开启，冲击气流涌入时，这些冲击气流一方面被上、下隔离板所阻，另一方面被上隔离腔与下隔离腔中负压驱动，迅速被吸入上、下隔离腔中，使冲击气流得到有效的吸收，避免冲击气流涌入溅射室C4。

本发明各实施例所采用的真空系统通常使用以下类型的真空泵：

机械泵：机械泵是指利用机械方法对被抽容器进行抽气而获得真空的设备，也被称为机械真空泵。通常作为低真空度的真空泵使用，或配合其他高真空度的真空泵，作为前级泵，离心泵、水冲泵、油封泵、水环泵等可直排大气，例如旋片式机械泵，其工作范围是大气压-低真空10-²mbar。

罗茨泵(roots-type pump)是一种无内压缩的真空泵，通常压缩比很低，故高、中真空泵需要前级泵。

分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵。分子泵中气体处于分子流状态，故需要配备前级泵。

实施中玻璃镀膜生产线，各腔室的的真空系统设置如图2所示，进口室C1与出口室C7与机械真空泵31连接，通过机械真空泵抽真空，所述进口缓冲室C2与出口缓冲室C6与罗茨泵32及机械真空泵31连接，通过串联的罗茨泵32与机械真空泵31抽真空，所述进口过渡室C3与出口过渡室C5与分子泵33、罗茨泵32以及机械真空泵31连接，通过串联的分子泵33、罗茨泵32与机械真空泵31抽真空，所述溅射室C4与分子泵、罗茨泵以及机械真空泵连接，通过串联的分子泵、罗茨泵与机械真空泵抽真空；

以下通过一个更为具体的对比实例说明本实施例与现有技术的区别。

如图3所示，现有技术的一玻璃镀膜生产线中：

进口室C1与出口室C7分别通过串联的2台罗茨泵32与6台机械真空泵31连接抽真空；进口室C1和进口缓冲室C2间物料门的开门条件为0.1mbar，出口室C7和出口缓冲室C6间物料门的开门条件也为0.1mbar，进口室C1与出口室C7的抽气时间为22秒。

进口缓冲室C2与出口缓冲室C6分别通过串联的4台分子泵33，1台罗茨泵32及1台机械真空泵31连接抽真空；进口缓冲室C2和进口过渡室C3间物料门的开门条件为0.008mbar，出口缓冲室C6和出口过渡室C5间物料门的开门条件也为0.008mbar。

进口过渡室C3与出口过渡室C5分别通过串联的4台分子泵33、以及罗茨泵32与机械真空泵31连接抽真空。

溅射室C4通过串联的分子泵33、罗茨泵32以及机械真空泵31连接抽真空。

而如图2所示，应用本实施例所述技术的对上述玻璃镀膜生产线进行技术改造后：

进口室C1与出口室C7分别通过并联的6台机械真空泵31连接抽真空；进口室C1和进口缓冲室C2间物料门的开门条件为20mbar，出口室C7和出口缓冲室C6间物料门的开门条件也为20mbar，进口室C1与出口室C7的抽气时间为10秒，大大提升了工作效率。

进口缓冲室C2与出口缓冲室C6分别通过串联的2台罗茨泵32，1台罗茨泵32及机械真空泵31这样的3级连接结构抽真空；进口缓冲室C2和进口过渡室C3间物料门的开门条件为0.07mbar，出口缓冲室C6和出口过渡室C5间物料门的开门条件也为0.07mbar。

进口过渡室C3与出口过渡室C5分别通过串联的6台分子泵33、以及罗茨泵32与机械真空泵31连接抽真空。

溅射室C4通过串联的分子泵33、罗茨泵32以及机械真空泵31连接抽真空。

为了提升真空系统的效率，进口过渡室C3与出口过渡室C5的抽气口包括独立抽气口91与并联抽气口92，所述并联抽气口较独立抽气口更靠近溅射室C4的抽气口，并联抽气口92与溅射室的抽气口并联抽真空。

以下提供本实施例所述玻璃镀膜生产线，各腔室物料门开启的开门压强的优选数据，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为10-30mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为1-12×10^-2mbar。

更优选地，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为15-25mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为5-8×10^-2mbar。

尤其优选地，所述进口室与进口缓冲室之间的开门压强，以及出口室与出口缓冲室之间的开门压强为20mbar，所述进口缓冲室与进口过渡室之间的开门压强为7×10^-2mbar。

上述优选数据，同时考虑了各腔室的工作周期与效率，也考虑了压强差所导致的气流冲击对镀膜质量的影响，使玻璃镀膜生产线所生产的镀膜玻璃质量良好并能有效提高生产线的生产效率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”或“包含……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的要素。此外，在本文中，“大于”、“小于”、“超过”等理解为不包括本数；“以上”、“以下”、“以内”等理解为包括本数。

尽管已经对上述各实施例进行了描述，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改，所以以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利保护范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围之内。