铜系金属膜和金属氧化物膜蚀刻液组合物及蚀刻方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明涉及包含过氧化氢、含氟化合物、唑类化合物、一个分子内具有氮和羧基的水溶性化合物、磺酸化合物、多元醇型表面活性剂和水的铜系金属膜和金属氧化物膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法，具有蚀刻直进性和均匀性优异的蚀刻特性。

技术研发人员：李恩远;朴升煜;梁承宰
受保护的技术使用者：东友精细化工有限公司
技术研发日：2016.08.19
技术公布日：2017.08.22