1.一种宽带激光熔覆用同轴送粉装置，其特征在于：包括高度可调且设有中心通孔的套筒组件，套筒组件顶端设有用于与激光器连接的外接件，套筒组件底端轴心处设有光束隔罩，套筒组件底端设有从内到外依次套在光束隔罩上的内层气罩、外层气罩和冷却水罩，套筒组件底端内层气罩和外层气罩之间设有两个关于光束隔罩对称的送粉管，送粉管为矩形管、下部向光束隔罩一侧折弯、出口为与光斑形状相匹配的矩形，光束隔罩、内层气罩、外层气罩和冷却水罩的上部均为矩形、下部均为向下收缩的楔形、位于底部的出口均为矩形，冷却水罩与套筒组件和外层气罩配合围成密封腔，套筒组件上设有与密封腔连通的注水口和出水口、与内层气罩和外层气罩的环空连通的外层保护气入口、与内层气罩和光束隔罩的环空连通的内层保护气入口、与送粉管进口连通的送粉入口。
2.如权利要求1所述的宽带激光熔覆用同轴送粉装置，其特征在于：套筒组件底端设有连接盘，套筒组件底端轴心处设有穿过连接盘的隔罩连接套，光束隔罩设在隔罩连接套轴心处的方形通孔内，内层气罩、外层气罩和冷却水罩的顶部分别定位安装在连接盘的矩形槽内，注水口、出水口和外层保护气入口分别设在连接盘上，送粉管进口位于套筒组件底端和连接盘的配合面上，送粉入口设在套筒组件底端，套筒组件上设有一圈环槽，环槽通过套筒组件的中心通孔与内层气罩和光束隔罩的环空连通，内层保护气入口设在套筒组件底端并与环槽连通。
3.如权利要求2所述的宽带激光熔覆用同轴送粉装置，其特征在于：在垂直于轴心的投影面上，以轴心投影点为基准，注水口和出水口呈180度排布，两个送粉入口呈180度排布，内层保护气入口与两个送粉入口分别呈90度排布，外层保护气入口与两个送粉入口分别呈90度排布。
4.如权利要求1所述的宽带激光熔覆用同轴送粉装置，其特征在于：套筒组件包括通过螺纹连接套在一起的顶部套筒和底部套筒，外接件设在顶部套筒上。
5.一种基于上述宽带激光熔覆用同轴送粉装置的送粉方法，其特征在于：包括外源设备的连接、送粉装置参数调节及同轴宽带送粉激光熔覆三个步骤，
外源设备的连接包括——外接件与激光器末端圆形镜头相连，注水口和出水口分别与冷却水循环装置连接，送粉入口与送粉装置)连接，内层保护气入口和外层保护气入口分别与惰性气体发生装置连接，其中，激光器是指能产生宽带型光斑的激光器；
送粉装置参数调节是指保护气压与送粉流量的调节和送粉距离h的调节，其中，送粉距离h是指送粉装置出粉口下端距工件平面的距离，保护气压、送粉流量及送粉距离h调节应限定在一定范围，参数调节的要求是粉末不发散、粉末汇聚点位于激光器产生于工件表面的激光光斑内；
同轴宽带送粉激光熔覆是指根据工件表面情况选取合理的熔覆工艺参数进行宽带激光熔覆，要求熔覆层表面质量良好、送粉装置不堵粉、不漏水。